本发明专利技术提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置（OLED），例如，平板显示器。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置（OLED），例如，平板显示器。【专利说明】相关申请的交叉引用 本申请要求于2011年8月9日提交美国临时专利申请N0.61/521，631和于2012年3月20日提交的美国临时专利申请N0.61/613，348的权益，这两个美国申请的全部内容通过引用合并于本文。
本教导涉及热敏打印和喷墨打印系统、设备及制造诸如有机发光装置的各种产品的方法。
技术介绍
对于被设计为用于在不与待沉积墨的表面接触的情况下沉积墨的打印头来说，在打印头和衬底的打印表面之间保持严格受控的间隔是有益的。如果打印头距衬底表面太远，则打印内容会过于分散。如果打印头太靠近衬底表面，则打印内容会过于集中成颗粒状。当太靠近时，打印头甚至可以接触衬底，导致损坏衬底和打印头两者。将衬底定位在水平平面中还可以影响打印质量和效率。该水平定位由于需要在不干扰衬底的情况下向打印头再次应用墨而变得复杂。因此，需要控制衬底和打印头之间的打印间隔以及控制衬底相对于打印头阵列的水平位置，以优化打印结果和打印过程。
技术实现思路
根据本教导的各个实施例，提供一种膜形成设备，所述膜形成设备包括打印阵列和被配置为支撑衬底的传送/支撑设备，其中，衬底具有待在其上形成膜的表面并且该表面在打印期间面向下。所述设备可以包括定位系统，该定位系统被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和在打印阵列上方的第二位置之间移动。在一些实施例中，打印阵列包括喷墨阵列。在一些实施例中，打印阵列包括热敏打印阵列，并且所述设备还包括适于将膜形成材料加载到热敏打印阵列的喷墨阵列。根据本教导的各个实施例，提供一种膜形成设备，所述膜形成设备包括衬底支撑件，该衬底支撑件包括上表面和在该上表面中的至少一个开口。膜形成设备可以进一步包括气体支承系统，例如如下气体支承系统，该气体支承系统包括在上表面中的多个第一孔口和从所述孔口延伸到衬底支撑件中的多个第一气体通道。在一些实施例中，可以使用流体，但是为了简明起见，本文描述的流体将被称作气体。本文描述的气体通道可以更广义地是流体通道，但是为了简明起见，在本文将被称作气体通道。气体通道可以与被配置为向气体通道供应加压气体的第一歧管连通。气体支承系统还可以包括在上表面中的多个第二孔口和从多个第二孔口延伸到衬底支撑件中并且与第二歧管连通的多个第二气体通道。多个第一孔口和多个第二孔口可以围绕上表面中的至少一个开口，并且当设置多个开口时可以单独地围绕多个开口中的每个。膜形成设备可以进一步包括位于每个开口中的各个打印阵列。气体支承系统可以被配置为在打印阵列将膜形成材料传递到衬底的面向下的表面上时使衬底在所述上表面上方浮动。每个打印阵列可以位于各自的打印模块组件中或可以包括各自的打印模块组件的至少一部分。在一些实施例中，打印阵列包括喷墨打印阵列，并且每个喷墨打印阵列可以包括一个或多个面向上的喷墨喷嘴。在一些实施例中，打印阵列包括热敏打印阵列，并且每个热敏打印阵列可以包括一个或多个面向上的打印传输表面。根据本教导的各个方面，提供一种在衬底的表面上形成膜的方法。衬底可以被定位在被设定在气体支承板系统中的面向上的打印阵列上方的第一位置。该配置可以被布置为使得衬底表面朝向喷墨打印阵列面向下。可以致动喷墨打印阵列，以将第一膜形成材料从喷墨打印阵列导引到衬底表面上。衬底还可以被布置在喷墨打印阵列上方的第二位置，并且可以致动喷墨打印阵列，以将第二膜形成材料从喷墨打印阵列引导到衬底表面上。本教导的任何方法都可以进一步包括使用真空热蒸发(VTE)，例如以形成一层或多层0LED。根据本教导的各个实施例，提供一种在衬底的表面上形成膜的方法。所述方法可以包括多个步骤。可以将第一膜形成材料加载到热敏打印阵列的微结构中。可以将衬底定位在热敏打印阵列上方，从而使得衬底的表面取向成面向下。可以加热热敏打印阵列，由此将第一膜形成材料从热敏打印阵列导引到衬底的面向下取向的表面上。然后，衬底可以从热敏打印阵列移开，可以将膜形成材料重新加载到热敏打印阵列，并且可以将衬底定位成能够在衬底的不同区域上进行打印。【专利附图】【附图说明】通过参照附图将更好地理解本教导的特征和优点，附图意在说明而非限制本教导。图1A是根据本教导的各个实施例的包括处理腔的系统的平面图。图1B是图1A所示的系统的配置的平面图，其中，喷墨阵列就位以将膜形成材料加载到热敏打印阵列上。图1C是在已加载热敏打印阵列之后图1A所示的系统的配置的平面图，并且示出被定位为从热敏打印阵列接收膜形成材料的衬底。图1D是在衬底已经完全经过热敏打印阵列并使得热敏打印阵列通畅之后的图1A所示的系统的配置的平面图，并且其中，热敏打印阵列被露出并能够被重新加载以膜形成材料。图1E是图1A所示的系统的配置的平面图，其中，喷墨阵列再次被定位为将膜形成材料加载到热敏打印阵列上。图2A是根据本教导的其它各个实施例的系统和处理腔的平面图。图2B是图2A所示的系统的配置的平面图，其中，当第二喷墨阵列加载第二热敏打印阵列时第一喷墨阵列保持与第一热敏打印阵列分隔开并且处于缩回位置。图2C是图2A所示的系统的配置的平面图，其中，第一喷墨阵列被定位为在第二热敏打印阵列在衬底上打印膜形成材料并且第二喷墨阵列缩回的同时加载第一热敏打印阵列。图2D是图2A所示的系统的配置的平面图，其中，第一喷墨阵列缩回并且第二喷墨阵列在第一热敏打印阵列将膜形成材料传输到衬底的同时加载第二热敏打印阵列。图3是根据本教导的各个实施例的衬底打印配置的平面图，并且示出衬底相对于至少一个打印阵列的相对移动方向。图4是根据本教导的各个实施例的衬底打印配置的平面图，并且示出衬底相对于至少一个打印阵列的相对移动方向。图5是根据本教导的各个实施例的衬底打印配置的平面图，并且示出衬底相对于至少一个打印阵列的相对移动方向。图6是根据本教导的各个实施例的打印系统和衬底操纵系统的立体图。图7是根据本教导的各个实施例的衬底支撑和打印系统的立体图，包括热敏打印阵列布局。图8是根据本教导的各个实施例的衬底打印系统的剖视立体图，并且示出通过四个相应打印模块组件的四个不同剖面的剖视图。图9是根据本教导的各个实施例可以使用的气体支承系统的剖视图和示意图。图10是根据本教导的另外的各个实施例的衬底打印系统的立体图。图11是图10所示的衬底打印系统的侧视图。图12是图10所示的衬底打印系统的平面图。图13是图10所示的衬底打印系统的工作台622的放大图。图14A是根据本教导的各个实施例的包括未干燥像素材料的打印衬底的剖视图。图14B是图14A所示的打印衬底的剖视图，但是其中，像素材料已被干燥。 图15A是根据本教导的各个实施例的处于面向下取向并且包括未干燥像素材料的打印衬底的剖视图。图15B是图15A所示的打印衬底的剖视图，但是其中，像素材料已被干燥。图16是根据本教导的各个实施例的面向下打印系统的立体图。图17是根据本教导的各个实施例的面向下打本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种膜形成设备，包括：气体支承系统；被设定在所述气体支承系统中的打印阵列；以及衬底传送和支撑设备，其被配置为支撑衬底，所述衬底具有待在其上形成膜的表面，从而使得所述表面面向下；其中，所述衬底传送和支撑设备包括定位系统，所述定位系统被配置为使得所述衬底在远离所述打印阵列的第一位置和在所述打印阵列上方的第二位置之间移动，并且所述打印阵列被配置为当所述衬底处于所述第二位置时将膜形成材料导引到所述表面处。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：RB劳兰斯，E弗伦斯基，CF马迪根，ASK高，
申请(专利权)人：科迪华公司，
类型：
国别省市：
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