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本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备...
该专利属于科迪华公司所有，仅供学习研究参考，未经过科迪华公司授权不得商用。

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