一种用于真空怀特池的光程调节机构制造技术

技术编号:10040351 阅读:154 留言:0更新日期:2014-05-14 10:58
本发明专利技术公开了一种用于真空怀特池的光程调节机构,包括真空罐体、凹球面镜A1、凹球面镜A2、凹球面镜B和怀特池内机架,其特征在于:在所述真空罐体上靠近凹球面镜A1、凹球面镜A2的一侧安装两组法兰式实心轴磁流体密封件,并在其轴外端各安装一个调节旋钮(1),所述每组法兰式实心轴磁流体密封件上均设置有曲柄滑块机构,所述曲柄滑块机构中,与怀特池内机架构成移动副的构件为滑块,凹球面镜A1的旋转中心为O1,绕O1旋转的部件上设置以O2为中心的转动副,两转动副中心部分O1O2即为曲柄,连接曲柄和滑块铰链的部分为连杆。本发明专利技术结构简单、调节方便、调节范围及精度灵活。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学精密机械装调
,可用于真空怀特池光程的调节。
技术介绍
1942年,John U.White利用三块共焦的凹球面镜设计了一种吸收池——怀特池。怀特池是目前最常用的吸收式气体传感器,其结构如图1所示。凹球面镜A1、A2与B具有相同的曲率半径,B的曲率中心落在A1、A2两镜之间的a点,A1、A2的曲率中心分别落在B镜中心附近。当入射光从B的一侧入射时,经过A1发射到B形成点1,再经A2反射到B上形成点2,依次类推。最后光线从B的一侧射出。其光程L与镜面B上的光点数目N及怀特池基本长度l之间的关系为:L=2(N+1)l从上式可以看出,怀特池的光程L可通过改变其基本长度l和系统中光线传播次数N进行调节,而对于某一特定的吸收池,其基本长度l一定,N为唯一能改变的量。实验发现,改变反射次数N最简单的办法是改变入射光束第一次落在A1上的位置,同时配合调整A1、A2的偏转角度。 一般情况下,通过调节光源可方便的改变入射光束的位置,对于偏转角的调节,普通怀特池结构简单,可直接微调方便的改变偏转角度,但在真空怀特池系统中,由于系统自身的密本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空怀特池的光程调节机构,包括真空罐体、凹球面镜A1、凹球面镜A2、凹球面镜B和怀特池内机架,其特征在于:在所述真空罐体上靠近凹球面镜A1、凹球面镜A2的一侧安装两组法兰式实心轴磁流体密封件,并在其轴外端各安装一个调节旋钮(1),所述每组法兰式实心轴磁流体密封件上均设置有曲柄滑块机构,所述曲柄滑块机构中,与怀特池内机架构成移动副的构件为滑块,凹球面镜A1的旋转中心为O1,绕O1旋转的部件上设置以O2为中心的转动副,两转动副中心部分O1O2即为曲柄,连接曲柄和滑块铰链的部分为连杆。

【技术特征摘要】
1.一种用于真空怀特池的光程调节机构,包括真空罐体、凹球面镜A1、凹球面镜A2、凹球面镜B和怀特池内机架,其特征在于:在所述真空罐体上靠近凹球面镜A1、凹球面镜A2的一侧安装两组法兰式实心轴磁流体密封件,并在其轴外端各安装一个调节旋钮(1),所述每组法兰式实心轴磁流体密封件上均设置有曲柄滑块机构,所述曲柄滑块机构中,与怀特池内机架构成移动副的构件为滑块,凹球面镜A1的旋转中心为O1,绕O1旋转的部件上设置以O2为中心的转动副,两转动副中心部分O1O2即为曲柄,连接曲柄和滑块铰链的部分为连杆。
2.根据权利要求1所述的光程调节机构,其特征在于:当滑块由O3运动到O3′时,连杆另一端O2′将处于以O2O3为半径、O3′为圆心的...

【专利技术属性】
技术研发人员:张露毕勇马骥穆永吉
申请(专利权)人:中科院南京天文仪器有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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