一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置，在矩形壳体的上表面开设有射线输出窗，在矩形壳体内设有射线管高压密封组件，在射线管高压密封组件的上方设有调节电路板和对称分布的两个电离室，且电离室分别位于射线输出窗下方的两侧，电离室所感应的电信号均传输至调节电路板中。本实用新型专利技术摒弃传统的从高压中电阻分压的传统技术，采用电离室射线测量的技术，来检测X射线源装置的高压和灯丝电流。通过电离室这种传统可靠的射线测量器件，能够避免电阻老化、射线源装置稳定性不高、调节精度低的问题。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
—种采用两路电离室检测信号的X射线源装置
本技术涉及一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置。
技术介绍
在公知的
，X射线源装置是通过高能电子撞击金属靶，来产生射线。决定X射线强度的是X射线源装置的高压和灯丝电流。在现有技术中，控制高压和灯丝电流的方法是通过传统的电阻分压方法来获得X射线源装置的高压值和灯丝电流值。反馈给控制电路，再通过控制电路来控制高压和灯丝电流，达到闭环控制。这种技术简单，容易实现，能够满足大多数的应用需求。但是现有的这种技术，存在以下缺点:(I)电阻直接从高压中分压，需要浸泡在绝缘油中，容易受到绝缘油的影响；(2)绝缘油的温度和绝缘性能变化直接影响到电阻分压的准确度；(3)当X射线源装置的高压大于数百KV的时候，分压电阻的耐压和功耗成为很大的问题；(4)电阻的老化。由于现有技术由于存在以上缺陷，导致射线源装置稳定性不高，不能满足高精度应用需求。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是:克服上述问题，提供一种稳定可靠、调节精度高的采用两路电离室检测信号的X射线源装置。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置，包括矩形壳体，在所述矩形壳体的上表面开设有射线输出窗，在所述矩形壳体内设有射线管高压密封组件，在所述射线管高压密封组件的上方设有调节电路板和对称分布的两个电离室，且所述电离室分别位于射线输出窗下方的两侧，所述电离室所感应的电信号均传输至调节电路板中。进一步的，作为一种具体的实施方式，本技术所述电离室为圆柱体结构，且其外径5?40mm,长度10?100mm。进一步的，作为一种具体的实施方式，本技术在所述矩形壳体的侧壁上设有插电接口。进一步的，作为一种具体的实施方式，本技术在所述矩形壳体的底部设有四个定位安装孔。进一步的，作为一种具体的实施方式，本技术所述电离室为圆柱体、棱柱体、椭圆体中任一结构。本技术的有益效果是:本技术摒弃传统的从高压中电阻分压的传统技术，采用电离室射线测量的技术，来检测X射线源装置的高压和灯丝电流。通过电离室这种传统可靠的射线测量器件，能够避免电阻老化、射线源装置稳定性不高、调节精度低的问题。【附图说明】下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术的结构示意图；图2是图1的侧视图一；图3是图1的侧视图二 ；图4是本技术的内部结构示意图；图5是图4的侧视图；图中:1.矩形壳体，2.射线输出窗，3.射线管高压密封组件，4.调节电路板，5.电离室，6.定位安装孔。【具体实施方式】现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。如图1?图5所示的本技术一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置的优选实施例，包括矩形壳体1，在所述矩形壳体I的侧壁上设有插电接口 7，在所述矩形壳体I的底部设有四个定位安装孔6，在所述矩形壳体I的上表面开设有射线输出窗2，在所述矩形壳体I内设有射线管高压密封组件3，在所述射线管高压密封组件3的上方设有调节电路板4和对称分布的两个电离室5，且所述电离室5分别位于射线输出窗2下方的两侧，所述电离室5所感应的电信号均传输至调节电路板4中。所述电离室5为圆柱体结构，且其外径5?40mm,长度10?100mm,所述电离室5可以为圆柱体、棱柱体、椭圆体中任一结构。两个电离室5对射线的响应有明显的差异。通过测量两路电离室的输出信号就可以确定X射线源的高压值和灯丝电流值。通过调节电路板4的控制，就能控制X射线源的高压和灯丝电流。电离室5布置在射线输出方向上的两侧，并且能被射线照射到，这样的布置可以保证最大的射线强度的输出，同时不影响电离室对射线的检测。本技术放弃了传统的从高压中电阻分压的传统技术，采用电离室射线测量的技术，来检测X射线源装置的高压和灯丝电流。通过电离室这种传统可靠的射线测量器件，能够避免电阻老化、射线源装置稳定性不高、调节精度低的问题。以上述依据本技术的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项技术技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项技术的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置，包括矩形壳体(1)，在所述矩形壳体(1)的上表面开设有射线输出窗(2)，在所述矩形壳体(1)内设有射线管高压密封组件(3)，其特征在于：在所述射线管高压密封组件(3)的上方设有调节电路板(4)和对称分布的两个电离室(5)，且所述电离室(5)分别位于射线输出窗(2)下方的两侧，所述电离室(5)所感应的电信号均传输至调节电路板(4)中。

【技术特征摘要】
1.一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置，包括矩形壳体(1)，在所述矩形壳体(I)的上表面开设有射线输出窗(2)，在所述矩形壳体(I)内设有射线管高压密封组件(3)，其特征在于:在所述射线管高压密封组件(3)的上方设有调节电路板(4)和对称分布的两个电离室(5)，且所述电离室(5)分别位于射线输出窗⑵下方的两侧，所述电离室(5)所感应的电信号均传输至调节电路板(4)中。2.如权利要求1所述的一种采用两路电离室检测信号的X射线源装置，其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员：邬海峰，
申请(专利权)人：邬海峰，
类型：实用新型
国别省市：