用于极紫外光刻掩模缺陷探测的双焦斜入射干涉显微装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于极紫外光刻掩模缺陷探测的双焦斜入射干涉显微装置，包括13.5nm极紫外光源、真空室、真空抽气泵、气浮光学隔振平台、极紫外CCD、五维掩模调整扫描工作台、五维掩模调整扫描工作台控制器、双焦波带片斜入射干涉显微光学组件；本发明专利技术能够同时检测振幅型和位相型极紫外掩模缺陷，抗振性好，精度高，系统成本低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于极紫外光刻掩模缺陷探测的双焦斜入射干涉显微装置，其特征在于：包括13.5nm极紫外光源（7）、真空室（9）、真空抽气泵（12）、气浮光学隔振平台（13）、极紫外CCD（14）、五维掩模调整扫描工作台（18）、五维掩模调整扫描工作台控制器（17）、双焦波带片斜入射干涉显微光学组件；真空室（9）设置在气浮光学隔振平台（13）上，真空抽气泵（12）设置在真空室（9）底部与真空室（9）相连通，极紫外CCD（14）设置在真空室（9）的顶部与出射光束的位置相对应；五维掩模调整扫描工作台（18）设置在真空室（9）底部，五维掩模调整扫描工作台控制器（17）设置在真空室（9）侧面，双焦波带片斜入射干涉显微光学组件设置在真空室（9）内，位于五维掩模调整扫描工作台（18）上方，其入射光光轴与极紫外光源入口的中轴重合；其中，双焦波带片斜入射干涉显微光学组件包含第一折转反射镜（10）、第一双焦波带片显微物镜（8）、第二双焦波带片显微物镜（15）、第二折转反射镜（16），第一折转反射镜（10）、第二折转反射镜（16）、第一双焦波带片显微物镜（8）和第二双焦波带片显微物镜（15）均用夹持器固定于真空室（9）的内壁，经过准直的极紫外光入射到第一折转反射镜（10）上，反射后平行光入射到第一双焦波带片显微物镜（8）上，经过第一双焦波带片显微物镜（8）的反射，光束转变为一束焦点位于有限远的会聚光（20）和一束焦点位于无穷远的平行光（21），会聚光（20）作为测试光，平行光（21）作为参考光，两束光以相同的入射角入射到掩模（11）表面，经掩模（11）反射的两束光又入射到第二双焦波带片显微物镜（15）上，第二双焦波带片显微物镜（15）将测试光转变为平行光，参考光仍为平行光，参考平行光与测试平行光之间产生干涉，干涉光经过第二折转反射镜（16）反射后，入射到极紫外CCD（14）上。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高志山，王帅，袁群，成金龙，叶井飞，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
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