System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.用于调色剂组合物的表面改性粒子,其包含:
2.根据权利要求1所述的表面改性粒子,其特征在于所述表面改性粒子的尺寸为2至1000nm。
3.根据权利要求2所述的表面改性粒子,其特征在于所述表面改性粒子的尺寸为5至500nm。
4.根据权利要求3所述的表面改性粒子,其特征在于所述改性粒子的表面高度的尺寸为70至200nm。
5.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于所述至少一种硅化合物包含每个硅原子至少一个反应性基团,其中所述反应性基团选自羟基、羧酸基、氯根和烷氧基。
6.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于Rt选自未取代的C1-C18-烷基、优选未取代的C2-C8-烷基。
7.根据权利要求6所述的表面改性粒子,其特征在于Rt是未取代的C2-C4-烷基。
8.根据权利要求7所述的表面改性粒子,其特征在于Rt是正丙基。
9.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于所述层中至少一种根据式(S)的硅烷与至少一种硅化合物的重量比为0.1至50、优
10.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于基于所述表面改性粒子的核的重量计,核表面上的层的重量优选为0.1至25重量%、更优选0.5至15重量%、甚至更优选3至8重量%。
11.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于通过首先用至少一种硅化合物并随后用至少一种根据式(S)的硅烷处理所述未改性粒子获得所述层。
12.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于所述表面改性粒子的纵横比为1:1至5:1、优选1:1至3:1和更优选1:1至2:1。
13.制备根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子的方法,其包括以下方法步骤:
14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于首先用至少一种硅化合物并随后用至少一种根据式(S)的硅烷处理所述未改性粒子。
15.根据权利要求13或14所述的方法,其特征在于所述至少一种根据式(S)的硅烷优选以每分钟和每1千克未改性粒子0.01至50克的添加速率添加到至少一种未改性粒子中。
16.通过根据权利要求13至15中任一项所述的方法获得的表面改性粒子。
17.根据权利要求1至12或16中任一项所述的至少一种表面改性粒子作为调色剂组合物、粘合剂或抛光浆料中的添加剂或作为电子材料、(特种)涂料或膜中的填料的用途。
18.包含根据权利要求1至12或16中任一项所述的表面改性粒子的调色剂组合物。
19.处理基底表面的方法,所述方法包括以下方法步骤:
20.基底,其包含至少一个包含根据权利要求1至12或16中任一项所述的至少一种表面改性粒子的层。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.用于调色剂组合物的表面改性粒子,其包含:
2.根据权利要求1所述的表面改性粒子,其特征在于所述表面改性粒子的尺寸为2至1000nm。
3.根据权利要求2所述的表面改性粒子,其特征在于所述表面改性粒子的尺寸为5至500nm。
4.根据权利要求3所述的表面改性粒子,其特征在于所述改性粒子的表面高度的尺寸为70至200nm。
5.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于所述至少一种硅化合物包含每个硅原子至少一个反应性基团,其中所述反应性基团选自羟基、羧酸基、氯根和烷氧基。
6.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于rt选自未取代的c1-c18-烷基、优选未取代的c2-c8-烷基。
7.根据权利要求6所述的表面改性粒子,其特征在于rt是未取代的c2-c4-烷基。
8.根据权利要求7所述的表面改性粒子,其特征在于rt是正丙基。
9.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于所述层中至少一种根据式(s)的硅烷与至少一种硅化合物的重量比为0.1至50、优选0.2至20、更优选1至10。
10.根据前述权利要求中任一项所述的表面改性粒子,其特征在于基于所述表面改性粒子的核的重量计,核表面上的层的重量优选为0.1至25重量%、更优选0.5至15重量%、甚至更优选3至8重量%。
...
【专利技术属性】
技术研发人员:T·P·A·鲁贝尔,M·夏尔马,H·马克,A·B·M·贾苏丁,
申请(专利权)人:赢创运营有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。