【技术实现步骤摘要】
一种调节架结构及应用有该调节架结构的光学系统
[0001]本技术涉及光学实验设备的领域,尤其是一种调节架结构,以及一种应用有该光调节架结构的光学系统。
技术介绍
[0002]光学调节架广泛的应用于光学系统中,用于对光学部件的位置和角度进行精确的微调。
[0003]传统的光学调节架结构,参见图21~图23,一般将调节螺杆100和调节架200整合在一起,对于多维度的调节系统来说,如三维度的调节系统,维度二建立在维度一的基础上,维度三建立在维度二的基础上。在调节维度一的时候,由于调节架200的底座直接和光学平台连接,结构比较稳固,但是在调节上层维度的时候,尤其是维度三,在手动调节的时候,旋转调节螺杆100,会对调节架200施加侧向的推拉力和转动力。此外,通常采用各种轴承来制作调节架200,轴承的刚性较弱,在调节的时候,会造成整个调节系统的不稳定。尤其在一些高精度调节应用场合,会对整个调节系统造成较大困扰。
[0004]另外,如上所述,由于一般采用调节螺杆100推动轴承运动来实现调节,调节螺杆 100如果采用平面,则调节螺杆100的旋转会在调节架200上产生一个同样方向的旋转力,降低整个调节系统的稳定性。所以目前调节螺杆100和调节架200之间一般采用球面接触,以减少调节螺杆100旋转对调节架的影响。然而,由于采用球面接触,金属的刚性又较差,使用一段时候后,往往会在调节架200的接触面上形成凹坑201。同时,由于调节螺杆100的球面顶端和旋转轴往往很难同心,容易在调节架200上形成一个比较大区域的凹坑201, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种调节架结构,包括调节架(1)、底座(5)和至少两个调节结构,所述调节架(1)设置在底座(5)上并且包括至少两个能由相应的调节结构带动而进行不同维度调节的架体,所述架体保持向调节结构的作用力方向反向复位的趋势,其特征在于:所述调节架结构还包括支架,所述支架相对调节架(1)独立地与底座(5)固定,每个调节结构分别设置在支架上。2.根据权利要求1所述的调节架结构,其特征在于:所述调节结构包括第一调节螺杆,所述第一调节螺杆的顶端和调节架(1)的相应架体表面形成球面接触。3.根据权利要求2所述的调节架结构,其特征在于:所述第一调节螺杆上设置有第一磁铁a(24),所述架体内设置有第二磁铁(14),位置对应的第一磁铁a(24)和第二磁铁(14)之间磁性互斥。4.根据权利要求2所述的调节架结构,其特征在于:在所述底座(5)上与各调节结构相应的位置设置有第一磁铁b(24
’
),在各调节结构相应的架体内设置有第二磁铁(14),位置对应的第一磁铁b(24
’
)和第二磁铁(14)之间磁性相吸。5.根据权利要求2所述的调节架结构,其特征在于:所述支架上转动设置有旋转板(34),所述旋转板(34)位于支架靠近调节架(1)的相应架体的一侧,所述旋转板(34)的旋转轴线与相应架体的调节方向垂直,所述第一调节螺杆作为粗调螺杆穿过旋转板(34)并且螺纹连接;所述调节结构还包括作为精调螺杆的第二调节螺杆a(25),所述第二调节螺杆a(25)穿过相应位置的支架并且两者之间螺纹连接,所述第二调节螺杆a(25)的顶端与旋转板(34)远离相应架体的一侧表面抵接,从而第二调节螺杆a(25)的旋转均能推动旋转板(34)相对相应位置的支架旋转,使得各旋转板(34)能旋转地靠近调节架(1)的相应架体而带动第一调节螺杆推动相应的架体。6.根据权利要求1所述的调节架结构,其特征在于:所述调节结构包括第一调节螺杆,所述第一调节螺杆的顶端和调节架(1)的相应架体表面间接接触。7.根据权利要求6所述的调节架结构,其特征在于:所述调节结构包括第一调节螺杆、第二调节螺杆b(25
’
)和楔形片(26),所述调节架(1)的架体上设置有顶杆(15),所述顶杆(15)和相应的第一调节螺杆分别抵接在楔形片(26)相对的两侧;所述第二调节螺杆b(25
’
)带动楔形片(26)相对支架移动,从而改变楔形片(26)的表面上与顶杆(15)的顶端对应的位置和相应架体表面之间的距离,从而推动顶杆(15)向远离第一调节螺杆的方向移动,使得顶杆(15)逐渐推动相应架体。8.根据权利要求7所述的调节架结构,其特征在于:所述第二调节螺杆b(25
’
)从相应位置的支架穿过并且两者之间螺纹连接,所述支架上还设置有固定座(35),所述第二调节螺杆b(25
’
)和固定座(35)之间设置有滑块(36),所述滑块(36)与楔形片(26)固定,每个固定座(35)上设置有导向杆(37),所述滑块(36)与导向杆(37)滑动连接,所述第二调节螺杆b(25
’
)与滑块(36)抵接而能推动滑块(36)相对支架直线移动,所述滑...
【专利技术属性】
技术研发人员:金新刚,
申请(专利权)人:嘉兴光积木科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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