【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学实验设备的领域，尤其是一种调节架结构，以及一种应用有该光调节架结构的光学系统。
技术介绍
1、光学调节架广泛的应用于光学系统中，用于对光学部件的位置和角度进行精确的微调。
2、传统的光学调节架结构，参见图21～图23，一般将调节螺杆100和调节架200整合在一起，对于多维度的调节系统来说，如三维度的调节系统，维度二建立在维度一的基础上，维度三建立在维度二的基础上。在调节维度一的时候，由于调节架200的底座直接和光学平台连接，结构比较稳固，但是在调节上层维度的时候，尤其是维度三，在手动调节的时候，旋转调节螺杆100，会对调节架200施加侧向的推拉力和转动力。此外，通常采用各种轴承来制作调节架200，轴承的刚性较弱，在调节的时候，会造成整个调节系统的不稳定。尤其在一些高精度调节应用场合，会对整个调节系统造成较大困扰。
3、另外，如上所述，由于一般采用调节螺杆100推动轴承运动来实现调节，调节螺杆100如果采用平面，则调节螺杆100的旋转会在调节架200上产生一个同样方向的旋转力，降低整个调节系统的稳定性。所以目前调节螺杆100和调节架200之间一般采用球面接触，以减少调节螺杆100旋转对调节架的影响。然而，由于采用球面接触，金属的刚性又较差，使用一段时候后，往往会在调节架200的接触面上形成凹坑201。同时，由于调节螺杆100的球面顶端和旋转轴往往很难同心，容易在调节架200上形成一个比较大区域的凹坑201，凹坑201的存在，会对调节精度产生较大影响，如会增加旋转阻力，降低线性度，凹坑201
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的第一个技术问题是针对上述现有技术存在的不足，提供一种调节架结构，能够将调节结构和调节架隔离，减少调节时对调节架的影响，提高调节架结构的稳定性和寿命。
2、本专利技术所要解决的第二个技术问题是提供一种应用有上述调节架结构的光学系统。
3、本专利技术解决上述第一个技术问题所采用的技术方案为：一种调节架结构，包括调节架、底座和至少两个调节结构，所述调节架设置在底座上并且包括至少两个能由相应的调节结构带动而进行不同维度调节的架体，所述架体保持向调节结构的作用力方向反向复位的趋势，其特征在于：所述调节架结构还包括支架，所述支架相对调节架独立地与底座固定，每个调节结构分别设置在支架上。
4、根据本专利技术的一个方面，调节螺杆与调节架直接接触，具体的，所述调节结构包括第一调节螺杆，所述第一调节螺杆的顶端和调节架的相应架体表面形成球面接触。
5、根据本专利技术的一个方面，为减少第一调节螺杆和调节架之间的作用力，所述第一调节螺杆上设置有第一磁铁，所述架体内设置有第二磁铁，位置对应的第一磁铁和第二磁铁之间磁性互斥。
6、根据本专利技术的另一个方面，为减少第一调节螺杆和调节架之间的作用力，在所述底座上与各调节结构相应的位置设置有第一磁铁，在各调节结构相应的架体内设置有第二磁铁，位置对应的第一磁铁和第二磁铁之间磁性相吸。
7、根据本专利技术的另一个方面，为提高调节精度，同时隔离精调螺杆的旋转力和其他非作用方向上的力，避免对调节架造成影响，所述支架上转动设置有旋转板，所述旋转板位于支架靠近调节架的相应架体的一侧，所述旋转板的旋转轴线与相应架体的调节方向垂直，所述第一调节螺杆作为粗调螺杆穿过旋转板并且螺纹连接；所述调节结构还包括作为精调螺杆的第二调节螺杆，所述第二调节螺杆穿过相应位置的支架并且两者之间螺纹连接，所述第二调节螺杆的顶端与旋转板远离相应架体的一侧表面抵接，从而第二调节螺杆的旋转均能推动旋转板相对相应位置的支架旋转，使得各旋转板能旋转地靠近调节架的相应架体而带动第一调节螺杆推动相应的架体。
8、根据本专利技术的另一个方面，调节螺杆与调节架间接接触，具体的，所述调节结构包括第一调节螺杆，所述第一调节螺杆的顶端和调节架的相应架体表面间接接触。
9、根据本专利技术的另一个方面，为提高调节精度，同时隔离精调螺杆的旋转力和其他非作用方向上的力，避免对调节架造成影响，所述调节结构包括第一调节螺杆、第二调节螺杆和楔形片，所述调节架的架体上设置有顶杆，所述顶杆和相应的第一调节螺杆分别抵接在楔形片相对的两侧；所述第二调节螺杆带动楔形片相对支架移动，从而改变楔形片的表面上与顶杆的顶端对应的位置和相应架体表面之间的距离，从而推动顶杆向远离第一调节螺杆的方向移动，使得顶杆逐渐推动相应架体。
10、优选的，为便于驱动楔形片移动，所述第二调节螺杆从相应的支架穿过并且两者之间螺纹连接，所述支架上还设置有固定座，所述第二调节螺杆和固定座之间设置有滑块，所述滑块与楔形片固定，每个固定座上设置有导向杆，所述滑块与导向杆滑动连接，所述第二调节螺杆与滑块抵接而能推动滑块相对支架直线移动，所述滑块保持向第二调节螺杆方向移动的趋势。
11、根据本专利技术的另一个方面，为提高调节精度，同时隔离精调螺杆的旋转力和其他非作用方向上的力，避免对调节架造成影响，所述调节结构包括第一调节螺杆、第二调节螺杆和楔形片，所述支架上转动设置有旋转板，所述旋转板位于支架靠近调节架的相应架体的一侧，所述旋转板的旋转轴线与相应架体的调节方向垂直，所述第一调节螺杆穿过相应位置的支架并且螺纹连接；所述旋转板远离调节架的相应架体的一侧设置有顶杆，所述顶杆和相应的第一调节螺杆分别抵接在楔形片相对的两侧；所述第二调节螺杆带动楔形片相对支架移动，从而改变楔形片的表面上与顶杆的顶端对应的位置和旋转板设置顶杆的表面之间的距离，从而推动顶杆向远离第一调节螺杆的方向移动，使得顶杆逐渐推动相应的旋转板，所述旋转板和调节架的相应架体之间通过滑动轴承结构连接。
12、通过设置滑动轴承结构，可以进一步隔离楔形片的移动带来的侧向的推拉力的影响。
13、优选的，滑动轴承结构的具体结构为，所述滑动轴承结构包括第一导向轴、轴套和连接板，所述连接板与旋转板转动连接，所述连接板的转动轴线与旋转板平行，所述连接板套设在轴套外周并固定，所述轴套套设在第一导向轴的外周并能相对滑动，所述第一导向轴还通过轴座与调节架的相应架体固定，所述轴套相对第一导向轴的滑动方向与相应的楔形片的移动方向相同。
14、为使得调节架结构自适应点对点，点对线和点对面的推或者拉，所述连接板通过第二导向轴与旋转板转动连接，所述第二导向轴与旋转板固定，所述连接板随第二导向轴转动并能沿着第二导向轴滑动。
15、根据本专利技术的另一个方面，为提高调节精度，同时隔离调节螺杆的旋转力和其他非作用方向上的力，避免对调节架造成影响，所述调节结构包括第一调节螺杆，所述支架上转动设置有旋转板，所述旋转板位于支架远离调节架的相应架体的一侧，所述旋转板的旋转轴线与相应架体的调节方向垂直，所述第一调节螺杆穿过支架并且螺纹连接，从而第一调节螺杆的旋转能推动旋转板相对相应的支架旋转，使得各旋转板能旋转地远离调节架的相应架体，所述旋转板和调节架的相应架体之间柔性连接而能本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种调节架结构，包括调节架(1)、底座(5)和至少两个调节结构，所述调节架(1)设置在底座(5)上并且包括至少两个能由相应的调节结构带动而进行不同维度调节的架体，所述架体保持向调节结构的作用力方向反向复位的趋势，其特征在于：所述调节架结构还包括支架，所述支架相对调节架(1)独立地与底座(5)固定，每个调节结构分别设置在支架上。
2.根据权利要求1所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆，所述第一调节螺杆的顶端和调节架(1)的相应架体表面形成球面接触。
3.根据权利要求2所述的调节架结构，其特征在于：所述第一调节螺杆上设置有第一磁铁(24)，所述架体内设置有第二磁铁(14)，位置对应的第一磁铁(24)和第二磁铁(14)之间磁性互斥。
4.根据权利要求2所述的调节架结构，其特征在于：在所述底座(5)上与各调节结构相应的位置设置有第一磁铁(24’)，在各调节结构相应的架体内设置有第二磁铁(14)，位置对应的第一磁铁(24’)和第二磁铁(14)之间磁性相吸。
5.根据权利要求2所述的调节架结构，其特征在于：所述支架上转
6.根据权利要求1所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆，所述第一调节螺杆的顶端和调节架(1)的相应架体表面间接接触。
7.根据权利要求6所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆、第二调节螺杆(25’)和楔形片(26)，所述调节架(1)的架体上设置有顶杆(15)，所述顶杆(15)和相应的第一调节螺杆分别抵接在楔形片(26)相对的两侧；所述第二调节螺杆(25’)带动楔形片(26)相对支架移动，从而改变楔形片(26)的表面上与顶杆(15)的顶端对应的位置和相应架体表面之间的距离，从而推动顶杆(15)向远离第一调节螺杆的方向移动，使得顶杆(15)逐渐推动相应架体。
8.根据权利要求7所述的调节架结构，其特征在于：所述第二调节螺杆(25’)从相应位置的支架穿过并且两者之间螺纹连接，所述支架上还设置有固定座(35)，所述第二调节螺杆(25’)和固定座(35)之间设置有滑块(36)，所述滑块(36)与楔形片(26)固定，每个固定座(35)上设置有导向杆(37)，所述滑块(36)与导向杆(37)滑动连接，所述第二调节螺杆(25’)与滑块(36)抵接而能推动滑块(36)相对支架直线移动，所述滑块(36)保持向第二调节螺杆(25’)方向移动的趋势。
9.根据权利要求6所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆、第二调节螺杆(25’)和楔形片(26)，所述支架上转动设置有旋转板(34)，所述旋转板(34)位于支架靠近调节架(1)的相应架体的一侧，所述旋转板(34)的旋转轴线与相应架体的调节方向垂直，所述第一调节螺杆穿过相应的支架并且螺纹连接；所述旋转板(34)远离调节架(1)的相应架体的一侧设置有顶杆(15)，所述顶杆(15)和相应的第一调节螺杆分别抵接在楔形片(26)相对的两侧；所述第二调节螺杆(25’)带动楔形片(26)相对支架移动，从而改变楔形片(26)的表面上与顶杆(15)的顶端对应的位置和旋转板(34)设置顶杆(15)的表面之间的距离，从而推动顶杆(15)向远离第一调节螺杆的方向移动，使得顶杆(15)逐渐推动相应的旋转板(34)，所述旋转板(34)和调节架(1)的相应架体之间通过滑动轴承结构连接。
10.根据权利要求9所述的调节架结构，其特征在于：所述滑动轴承结构包括第一导向轴(41)、轴套(42)和连接板(43)，所述连接板(43)与旋转板(34)转动连接，所述连接板(43)的转动轴线与旋转板(34)平行，所述连接板(43)套设在轴套(42)外周并固定，所述轴套(42)套设在第一导向轴(41)的外周并能相对滑动，所述第一导向轴(41)还通过轴座(44)与调节架(1)的相应架体固定，所述轴套(42)相对第一导向轴(41)的滑动方向与相应的楔形片(26)的移动方向相同。
11.根据权利要求...
【技术特征摘要】
1.一种调节架结构，包括调节架(1)、底座(5)和至少两个调节结构，所述调节架(1)设置在底座(5)上并且包括至少两个能由相应的调节结构带动而进行不同维度调节的架体，所述架体保持向调节结构的作用力方向反向复位的趋势，其特征在于：所述调节架结构还包括支架，所述支架相对调节架(1)独立地与底座(5)固定，每个调节结构分别设置在支架上。
2.根据权利要求1所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆，所述第一调节螺杆的顶端和调节架(1)的相应架体表面形成球面接触。
3.根据权利要求2所述的调节架结构，其特征在于：所述第一调节螺杆上设置有第一磁铁(24)，所述架体内设置有第二磁铁(14)，位置对应的第一磁铁(24)和第二磁铁(14)之间磁性互斥。
4.根据权利要求2所述的调节架结构，其特征在于：在所述底座(5)上与各调节结构相应的位置设置有第一磁铁(24’)，在各调节结构相应的架体内设置有第二磁铁(14)，位置对应的第一磁铁(24’)和第二磁铁(14)之间磁性相吸。
5.根据权利要求2所述的调节架结构，其特征在于：所述支架上转动设置有旋转板(34)，所述旋转板(34)位于支架靠近调节架(1)的相应架体的一侧，所述旋转板(34)的旋转轴线与相应架体的调节方向垂直，所述第一调节螺杆作为粗调螺杆穿过旋转板(34)并且螺纹连接；所述调节结构还包括作为精调螺杆的第二调节螺杆(25)，所述第二调节螺杆(25)穿过相应位置的支架并且两者之间螺纹连接，所述第二调节螺杆(25)的顶端与旋转板(34)远离相应架体的一侧表面抵接，从而第二调节螺杆(25)的旋转均能推动旋转板(34)相对相应位置的支架旋转，使得各旋转板(34)能旋转地靠近调节架(1)的相应架体而带动第一调节螺杆推动相应的架体。
6.根据权利要求1所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆，所述第一调节螺杆的顶端和调节架(1)的相应架体表面间接接触。
7.根据权利要求6所述的调节架结构，其特征在于：所述调节结构包括第一调节螺杆、第二调节螺杆(25’)和楔形片(26)，所述调节架(1)的架体上设置有顶杆(15)，所述顶杆(15)和相应的第一调节螺杆分别抵接在楔形片(26)相对的两侧；所述第二调节螺杆(25’)带动楔形片(26)相对支架移动，从而改变楔形片(26)的表面上与顶杆(15)的顶端对应的位置和相应架体表面之间的距离，从而推动顶杆(15)向远离第一调节螺杆的方向移动，使得顶杆(15)逐渐推动相应架体。
8.根据权利要求7所述的调节架结构，其特征在于：所述第二调节螺杆(25’)从相应位置的支架穿过并且两者之间螺纹连接，所述支架上还设置有固定座(35)，所述第二调节螺杆(25’)和固定座(35)之间设置有滑块(36)，所述滑块(36)与楔形片(26)固定，每个固定座(35)上设置有导向杆(37)，所述滑块(36)与导向杆(37)滑动连接，所述第二调节螺杆(25’)与滑块(36)抵接而能推动滑块(36)相对支架直线移动，所述滑块(36)保持向第二调节螺杆(25’)方向移动的趋势。
【专利技术属性】
技术研发人员：金新刚，
申请(专利权)人：嘉兴光积木科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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