一种基于直线轴的光学调节机构制造技术

技术编号:34679444 阅读:23 留言:0更新日期:2022-08-24 16:45
本实用新型专利技术提供一种基于直线轴的光学调节机构,包括作为基准平面的底座和相对底座活动的活动平台,底座和活动平台的一端用直线轴活动连接,即底座和活动平台之一以轴座固定连接直线轴,另一以轴承活动连接直线轴,使底座和活动平台两者间可沿直线轴滑动和转动,直线轴对侧端的底座和活动平台之间设置有可在底座上表面滑动的限位滑块。活动平台用于承载光学系统或光学器件。活动平台可沿直线轴方向相对底座滑动,同时对侧端的限位滑块沿底座平面滑动,几何上的一线(滑动轴)一点(限位滑块)决定一个平面。与传统的导轨活动平台相比,大大降低了制作的精度要求。降低了制作的精度要求。降低了制作的精度要求。

【技术实现步骤摘要】
一种基于直线轴的光学调节机构


[0001]本技术属于光学系统的位置调节
,特别涉及一种基于直线轴的光学调节机构。

技术介绍

[0002]光学领域大量存在调节幅度小但精度要求高的精调机构。传统光学调节机构中,一般采用各种导轨作为一维活动平台,在导轨基础上来拓展多维的调节机构,比如各种交叉滚珠导轨等,然后导轨存在安装复杂,使用后容易松动导致精度下降等缺点。在某些需要高精度,高稳定性的调节结构中,导轨的精度要求更加严格,使得调节机构的成本成倍上升。为克服现有技术的缺陷,本技术提出一种简单的基于直线轴的光学调节机构。

技术实现思路

[0003]本技术实现专利技术目的的
技术实现思路
是:一种基于直线轴的光学调节机构,包括作为基准平面的底座和相对底座活动的活动平台,底座和活动平台的一端用直线轴活动连接,即底座和活动平台中的一个以轴座固定连接直线轴,另一个以轴承活动连接直线轴,使底座和活动平台两者间可沿直线轴滑动和转动,远离直线轴一端的底座和活动平台之间设置有可在底座上表面滑动的限位滑块。活动平台用于承载光学系统或光学器件
[000本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于直线轴的光学调节机构,包括作为基准平面的底座(1)和相对底座活动的活动平台(2),其特征在于:底座和活动平台的一端用直线轴(3)活动连接,底座(1)和活动平台(2)中的一个以轴座(11)固定连接直线轴(3),另一个以轴承活动连接直线轴(3),底座和活动平台两者间可沿直线轴相对滑动和转动,远离直线轴(3)一端的底座(1)和活动平台(2)之间设置有可在底座上表面滑动的限位滑块(5)。2.根据权利要求1所述的一种基于直线轴的光学调节机构,其特征在于:所述的底座(1)通过轴座(11)与直线轴(3)固定连接,所述的活动平台(2)以轴套(4)活动连接直线轴(3);所述的限位滑块(5)设置活动平台(2)下方,底座(1)上表面与限位滑块(5)滑动接触的部分平行于直线轴(3);所述的限位滑块(5)位于一个固定于活动平台(2)的调节螺杆(51)的顶端。3.根据权利要求1所述的一种基于直线轴的光学调节机构,其特征在于:所述的底座(1)与活动平台(2)之间左右居中设置有平台拉簧(6)。4.根据权利要求1所述的一种基于直线轴的光学调节机构,其特征在于:所述的底座(1)与活动平台(2)之间左右居中设置有相吸磁铁。5.根据权利要求2至4之一所述的一种基于直线轴的光学调节机构,其特征在于:所述的轴座(11)与轴套(4...

【专利技术属性】
技术研发人员:金新刚
申请(专利权)人:嘉兴光积木科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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