镀膜机散热系统的清洗装置及清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及镀膜机散热系统的清洗装置及其清洗方法，其特征在于该装置由进液清洗系统和循环再清洗系统组成，并根据该装置针对不同的镀膜设备提出了具体的清洗方法。本发明专利技术的清洗装置，具备流量恒定、流速平稳的特点，采用本装置及提供的清洗方法对镀膜设备进行清洗，控制精度提高，被清洗管道的使用寿命得到有效延长。

Cleaning Device and Cleaning Method for Heat Dissipation System of Coating Machine

【技术实现步骤摘要】
镀膜机散热系统的清洗装置及清洗方法
本专利技术属于真空镀膜设备领域，特别是一种应用于镀膜机散热系统的清洗装置及其清洗方法。
技术介绍
真空镀膜技术是当下应用非常广的膜层制备技术，特别在半导体行业，很多高端产品应用真空镀膜技术制造。不论采用物理气相沉积还是化学气相沉积，真空镀膜设备是决定膜层质量的关键，这些设备对运行保障的条件要求甚高，散热是其高效运行的基础，例如：处于高温高电压下的电子枪需要散热排除温度对磁场的干扰，消除退磁隐患，防止坩埚被击穿；膜厚监测系统需散热确保晶振片处于恒定的低温工作环境，提高膜层监测厚度的准确性；低温泵系统需散热将氦气保持在极低的工作温度，使工作真空处于恒定状态。另外，散热也是工艺稳定运行的保障，尤其对于镀制多种材料的镀膜系统，需散热提高各膜层材料的工艺重复性，将环境温度的影响降到最低。最后，散热也是安全生产的前提，优越的散热性能可减少生产事故，确保人机安全。在工业生产中，为降低成本，镀膜机散热多采用水冷，部分溶解于水中的气体、微粒等也会随冷却水在散热管道内循环，长时间运行势必会腐蚀、堵塞散热管道。因此，定期清洗散热系统是设备和工艺正常运行的重要保证。
技术实现思路
基于镀膜机散热系统清洗的必要性，本专利技术提出一种镀膜机散热系统的清洗装置及其清洗方法。本专利技术的镀膜机散热系统的清洗装置，其特征在于该装置由进液清洗系统和循环再清洗系统组成，其中：所述进液清洗系统，包括相互连通的加压电机和进液主管道，进液主管道上安装若干进液阀门，进液阀门上设置有转换接头，通过转换接头与各清洗管道分支连接；所述循环再清洗系统，包括相互连通的储液罐和回液主管道，储液罐与加压电机通过循环管道连接，所述循环管道上设置有循环阀门；回液主管道上安装若干回液阀门，回液阀门上设置有转换接头，通过转换接头与各清洗管道分支连接。为避免交叉污染和清洗安全，所述的储液罐采用可拆卸式设计；储液罐外设置有水浴锅，用于为储液罐加热或降温，隔绝加热源、酸和碱。所述的进液阀门、回液阀门及循环阀门采用SMC电磁阀。所述的加压电机、进液阀门、回液阀门及循环阀门与上位机连接，实现智能控制。在工作状态下，上位机设定匹配的清洗参数包括进入加压电机的清洗液温度和压力、各清洗管道分支的流速和清洗时间等，上位机根据设定的清洗参数及智能控制阀的反馈，自动调整各清洗管道分支的清洗状态。镀膜价格昂贵，系统复杂，清洗本身还得评估清洗过程可能带来的腐蚀和污染，根据不同管道分析其杂质成分，匹配相应的清洗液组合，能在完成清洗的同时，又不让设备清洗后工作状态受到干扰。清洗遵循酸碱平衡的原则，清洗液本身不能成为污染源，所以选择在储液罐中加入纯水→酸→碱→纯水的组合方式，酸、碱选择弱酸、弱碱、中强酸、中强碱或者高度稀释的浓酸浓碱，酸、碱的稀释比、加热温度和用量根据具体的清洗剂和清洗管道而定。储液罐中加入的弱酸包括但不限于：H2C2O4（草酸）、H2CO3（碳酸）、CH3COOH（醋酸）、H2S（氢硫酸）、HClO（次氯酸）、HNO2（亚硝酸），或者中强酸H2SO3（亚硫酸）等；高度稀释后的强酸可选择HCl（盐酸）、HClO3（氯酸）、HClO4（高氯酸）、HI（氢碘酸）、HBrO3（溴酸）、HPO3（偏磷酸）。储液罐中加入的弱碱包括但不限于：水解后呈碱性的盐如CH3COONa（醋酸钠）、Na2CO3（碳酸钠）、NaHCO3（碳酸氢钠）和Na2S（硫化钠），或者NH3·H2O（氨水），中强碱Ca(OH)2（氢氧化钙）等，高度稀释后的强碱可选择Ba(OH)2（氢氧化钡）、NaOH（氢氧化钠）、KOH（氢氧化钾）。镀膜机散热系统的清洗装置用于清洗电子束蒸镀机，其特征在于共使用四个清洗管道分支，分别为电子枪坩埚散热分支、腔体散热分支、膜厚仪散热分支及低温泵散热分支，清洗方法如下：电子枪坩埚散热分支单独清洗，以纯水作为前期冲刷剂，以H2SO3作为中期清洗剂，以Ca(OH)2作为后期清洗剂，纯水作为最后的冲刷剂；其余分支整体清洗，前期以纯水作为冲刷剂，中期以H2C2O4作为清洗剂，后期以NH3·H2O溶液作为清洗剂，纯水作为最后的冲刷剂。具体的，可通过如下步骤完成电子束蒸镀机散热系统的清洗：1）关闭设备所有工作系统，对电子枪放电，取下石英晶振片，腔体真空恢复到大气压，确保设备处于安全清洗状态；2）连接储液罐，设定电子枪坩埚散热分支上的进液阀门、回液阀门及循环阀门为工作状态，设定前期纯水冲刷温度为60℃，压力为0.2MPa，流速1.6L/S，冲刷时间10分钟，运行清洗程序，冲刷沉积在管道内的沉积物；3）更换储液罐，将H2SO3：纯水为1:60的H2SO3水溶液盛放到储液罐中，设定H2SO3水溶液清洗温度为10℃，压力为0.4MPa，流速2.6L/S，反应时间20分钟，运行清洗程序，溶解沉积在管道内以Fe2O3·nH2O、Cu2(OH)2CO3为主的腐蚀产物；4）更换储液罐，将Ca(OH)2：纯水为1:60的Ca(OH)2水溶液盛放到储液罐中，设定Ca(OH)2水溶液清洗温度为30℃，压力为0.4MPa，流速2.6L/S，反应时间20分钟，运行清洗程序，中和残留在管道内的H2SO3水溶液；5）更换储液罐，将纯水盛放到储液罐中，设定纯水冲刷温度为30℃，压力为0.2MPa，流速1.6L/S，冲刷时间10分钟，运行清洗程序，冲刷完毕后电子枪坩埚散热分支清洗完成；6）更换储液罐，关闭电子枪坩埚散热分支的进液阀门和回液阀门，设定腔体散热分支、膜厚仪散热分支及低温泵散热分支上的进液阀门、回液阀门及循环阀门为工作状态，设定前期纯水冲刷温度为20℃，总压力为0.6MPa，总流速3.6L/S，冲刷时间20分钟，运行清洗程序，冲刷沉积在各散热分支内的沉积物；7）更换储液罐，将H2C2O4：纯水为1:30的H2C2O4水溶液盛放到储液罐中，设定H2C2O4水溶液清洗温度为15℃，总压力为0.5MPa，总流速3L/S，反应时间30分钟，运行清洗程序，溶解沉积在管道内以Fe2O3·nH2O为主的腐蚀产物；8）更换储液罐，将NH3·H2O：纯水为1:30的NH3·H2O水溶液盛放到储液罐中，设定NH3·H2O水溶液清洗温度为15℃，总压力为0.5MPa，总流速3L/S，反应时间30分钟，运行清洗程序，中和残留在管道内的H2C2O4水溶液；9）更换储液罐，将纯水盛放到储液罐中，设定纯水冲刷温度为15℃，总压力为0.6MPa，总流速3.6L/S，冲刷时间20分钟，运行清洗程序，程序运行完毕整个电子束蒸镀机散热系统清洗完成。镀膜机散热系统的清洗装置用于有机镀膜设备，其特征在于共使用三个清洗管道分支，分别为加热源散热分支、膜厚仪散热分支和低温泵散热分支，清洗方法如下：用纯水作为前期冲刷剂，HCl作为中期清洗剂，NaOH作为后期清洗剂，纯水作为最后的冲刷剂。具体的，可通过如下步骤完成有机镀膜设备的清洗：1）关闭设备所有工作系统，冷却加热源，取下晶振片，腔体真空恢复到大气压，确保设备处于安全清洗状态；2）连接储液罐，设定加热源散热分支、膜厚仪散热分支和低温泵散热分支上的进液阀门、回液阀门及循环阀门为工作状态，设定前期纯水冲刷温度为50℃，总压力为0.55MPa，总流速3L/S，冲刷时间40分钟，运行清洗程序，冲刷沉本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.镀膜机散热系统的清洗装置，其特征在于该装置由进液清洗系统和循环再清洗系统组成，其中：所述进液清洗系统，包括相互连通的加压电机和进液主管道，进液主管道上安装若干进液阀门，进液阀门上设置有转换接头，通过转换接头与各清洗管道分支连接；所述循环再清洗系统，包括相互连通的储液罐和回液主管道，储液罐与加压电机通过循环管道连接，所述循环管道上设置有循环阀门；回液主管道上安装若干回液阀门，回液阀门上设置有转换接头，通过转换接头与各清洗管道分支连接。

【技术特征摘要】
1.镀膜机散热系统的清洗装置，其特征在于该装置由进液清洗系统和循环再清洗系统组成，其中：所述进液清洗系统，包括相互连通的加压电机和进液主管道，进液主管道上安装若干进液阀门，进液阀门上设置有转换接头，通过转换接头与各清洗管道分支连接；所述循环再清洗系统，包括相互连通的储液罐和回液主管道，储液罐与加压电机通过循环管道连接，所述循环管道上设置有循环阀门；回液主管道上安装若干回液阀门，回液阀门上设置有转换接头，通过转换接头与各清洗管道分支连接。2.如权利要求1所述的镀膜机散热系统的清洗装置，其特征在于储液罐外设置有水浴锅。3.如权利要求1所述的镀膜机散热系统的清洗装置，其特征在于进液阀门、回液阀门及循环阀门采用智能控制阀。4.如权利要求1所述的镀膜机散热系统的清洗装置，其特征在于加压电机、进液阀门、回液阀门及循环阀门与上位机连接，实现智能控制。5.镀膜机散热系统的清洗装置用于清洗电子束蒸镀机，其特征在于共使用四个清洗管道分支，分别为电子枪坩埚散热分支、腔体散热分支、膜厚仪散热分支及低温泵散热分支，清洗方法如下：电子枪坩埚散热分支单独清洗，以纯水作为前期冲刷剂，以H2SO3作为中期清洗剂，以Ca(OH)2作为后期清洗剂，纯水作为最后的冲刷剂；其余分支整体清洗，前期以纯水作为冲刷剂，中期以H2C2O4作为清洗剂，后期以NH3·H2O溶液作为清洗剂，纯水作为最后的冲刷剂。6.如权利要求5所述的镀膜机散热系统的清洗装置用于清洗电子束蒸镀机，其特征在于通过如下步骤完成电子束蒸镀机散热系统的清洗：关闭设备所有工作系统，对电子枪放电，取下石英晶振片，腔体真空恢复到大气压，确保设备处于安全清洗状态；连接储液罐，设定电子枪坩埚散热分支上的进液阀门、回液阀门及循环阀门为工作状态，设定前期纯水冲刷温度为60℃，压力为0.2MPa，流速1.6L/S，冲刷时间10分钟，运行清洗程序，冲刷沉积在管道内的沉积物；更换储液罐，将H2SO3：纯水为1:60的H2SO3水溶液盛放到储液罐中，设定H2SO3水溶液清洗温度为10℃，压力为0.4MPa，流速2.6L/S，反应时间20分钟，运行清洗程序，溶解沉积在管道内以Fe2O3·nH2O、Cu2(OH)2CO3为主的腐蚀产物；更换储液罐，将Ca(OH)2：纯水为1:60的Ca(OH)2水溶液盛放到储液罐中，设定Ca(OH)2水溶液清洗温度为30℃，压力为0.4MPa，流速2.6L/S，反应时间20分钟，运行清洗程序，中和残留在管道内的H2SO3水溶液；更换储液罐，将纯水盛放到储液罐中，设定纯水冲刷温度为30℃，压力为0.2MPa，流速1.6L/S，冲刷时间10分钟，运行清洗程序，冲刷完毕后电子枪坩埚散热分支清洗完成；更换储液罐，关闭电子枪坩埚散热分支的进液阀门和回液阀门，设定腔体散热分支、膜厚仪散热分支及低温泵散热分支上的进液阀门、回液阀门及循环阀门为工作状态，设定前期纯水冲刷温度为20℃，总压力为0.6MPa，总流速3.6L/S，冲刷时间20分钟，运行清洗程序，冲刷沉积在各散热分支内的沉积物；更换储液罐，将H2C2O4：纯水为1:30的H2C2O4水溶液盛放到储液罐中，设定H2C2O4水溶液清洗温度为15℃，总压力为0.5MPa，总流速3L/S，反应时间30分钟，运行清洗程序，溶解沉积在管道内以Fe2O3·nH2O为主的腐蚀产物；更换储液罐，将NH3·H2O：纯水为1:30的NH3·H2O水溶液盛放到储液罐中，设定NH3·H2O水溶液清洗温度为15℃，总压力为0.5MPa，总流速3L/S，反应时间30分钟，运行清洗程序，中和残留在管道内的H2C2O4水溶液；更换储液罐，将纯水盛放到储液罐中，设定纯水冲刷温度为15℃，总压力为0.6MPa，总流速3.6L...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓荣斌，王光华，段良飞，张丽娟，高思博，马兴民，段尧，鲁朝宇，季华夏，
申请(专利权)人：云南北方奥雷德光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：云南,53