掩膜板异物清除装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种掩膜板异物清除装置，包括气体循环系统及静电除尘机构，所述气体循环系统包括密闭腔体、设置在密闭腔体上的吹气孔和吸气孔及设置在密闭腔体外侧分别与吹气孔和吸气孔连接的吹气管道和吸气管道，所述静电除尘机构设置在所述密闭腔体的入口外侧以在掩膜板进入所述密闭腔体内部之前对该掩膜板进行静电除尘处理，当掩膜板进入密闭腔体内部后，所述气体循环系统可对掩膜板做进一步清洁处理，通过气体循环系统及静电除尘机构可将掩膜板上的异物颗粒有效清除，节省了掩膜板的清洁时间，降低了掩膜板在清洁过程中的损坏风险。

Mask plate foreign body removal device

The invention provides a mask board foreign body removal device, including a gas circulation system and an electrostatic precipitation mechanism. The gas circulation system comprises a closed chamber, a blower and suction holes arranged on the closed chamber, and a blower and suction pipeline arranged on the outer side of the closed chamber, which are respectively connected with the blower and suction holes. The electrostatic precipitation mechanism is arranged in the entrance of the closed chamber. On the outside of the mouth, the mask plate is electrostatic precipitated before the mask plate enters the inner part of the sealed chamber. When the mask plate enters the inner part of the sealed chamber, the gas circulation system can further clean the mask plate. The foreign particles on the mask can be effectively removed by the gas circulation system and the electrostatic precipitation mechanism, thus saving the cleaning time of the mask plate and reducing the cleaning time. Damage risk of mask in cleaning process.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板异物清除装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜板异物清除装置。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode，AMOLED)显示器等平板显示装置因具有机身薄、高画质、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本屏幕等。在LCD和AMOLED的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板(Mask)，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压汞灯发出UV紫外光线，将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜板的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。构图工艺通常在无尘的洁净室内进行，即曝光机放置于洁净室中对基板进行曝光。所述曝光机的构架通常主要包括光源灯室(LampHouse)、设于光源灯室上与光源灯室相连接的照明系镜组、设于光源灯室及照明系镜组下方具有构图图案的掩膜板、设于掩膜板下方的投影光学镜组、及设于投影光学镜组下方用于承载基板的工作台，另外为了保证曝光环境便于调节，曝光机还通常会采用密封的曝光腔体设计，其中，掩膜板、投影光学镜组、及工作台设置于曝光腔体内。在光刻转印过程中，如果掩膜板上存在异物颗粒(particle)，显影后会在所成像的图形上形成缺陷，影响产品的品质。目前曝光机有particle检测装置，但检测出particle后，曝光机无法对掩膜板上的particle进行去除，此时需要将掩膜板从曝光机中移出，人工对掩膜板进行清洁，既浪费时间，且人工清洁时又存在风险。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种掩膜板异物清除装置，节省了掩膜板的清洁时间，降低了掩膜板在清洁过程中的损坏风险。为实现上述目的，本专利技术提供一种掩膜板异物清除装置，包括气体循环系统及静电除尘机构；所述气体循环系统包括密闭腔体及设置在密闭腔体外侧的吹气管道和吸气管道；所述密闭腔体的两相对侧面上分别设有吹气孔及吸气孔，所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔和吸气孔连接；所述密闭腔体一侧设有供掩膜板进出密闭腔体内部的入口及对入口进行封闭的挡板；所述静电除尘机构设置在所述密闭腔体的入口外侧以在掩膜板进入所述密闭腔体内部之前对该掩膜板进行静电除尘处理。所述静电除尘机构包括相对设置的分别对掩膜板的上表面和下表面进行静电除尘处理的上静电除尘单元及下静电除尘单元。所述上静电除尘单元和下静电除尘单元均为静电棒。所述上静电除尘单元和下静电除尘单元均为离子风枪。所述吹气管道通过所述吹气孔向所述密闭腔体内部吹入压缩空气、氮气或离子气体。所述的掩膜板异物清除装置还包括位于所述密闭腔体内部远离入口一侧顶部的以感测掩膜板存在的位置传感器。所述的掩膜板异物清除装置还包括与所述位置传感器、气体循环系统、静电除尘机构及挡板均电性连接的控制器；其中，当掩膜板从外侧向所述密闭腔体内部进入时，所述控制器控制所述密闭腔体入口处的挡板打开，同时控制开启所述静电除尘机构对掩膜板进行静电除尘处理，当位置传感器感测到掩膜板完全进入所述密闭腔体内部时，所述位置传感器向控制器发出掩膜板进入信号，所述控制器接收到该掩膜板进入信号后控制所述密闭腔体入口处的挡板关闭，并控制开启吹气管道和吸气管道在密闭腔体形成气流以对掩膜板做进一步清洁处理。所述的掩膜板异物清除装置还包括设于所述密闭腔体内部的用于承载掩膜板的承载机构。所述承载机构包括多个沿掩膜板从入口进入密闭腔体内部的方向并列设置的承载杆；每一承载杆包括传输杆及多个间隔套设在传输杆上的传输滚轮。所述吹气孔和吸气孔分别设置在所述密闭腔体的相对的且均与掩膜板从入口进入密闭腔体内部的方向平行的两侧面上。本专利技术的有益效果：本专利技术掩膜板异物清除装置，包括气体循环系统及静电除尘机构，所述气体循环系统包括密闭腔体、设置在密闭腔体上的吹气孔和吸气孔及设置在密闭腔体外侧分别与吹气孔和吸气孔连接的吹气管道和吸气管道，所述静电除尘机构设置在所述密闭腔体的入口外侧以在掩膜板进入所述密闭腔体内部之前对该掩膜板进行静电除尘处理，当掩膜板进入密闭腔体内部后，所述气体循环系统可对掩膜板做进一步清洁处理，通过气体循环系统及静电除尘机构可将掩膜板上的异物颗粒有效清除，节省了掩膜板的清洁时间，降低了掩膜板在清洁过程中的损坏风险。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其他有益效果显而易见。附图中，图1为本专利技术的掩膜板异物清除装置的结构示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，本专利技术提供一种掩膜板异物清除装置，包括气体循环系统1及静电除尘机构2。所述气体循环系统1包括密闭腔体10及设置在密闭腔体10外侧的吹气管道和吸气管道(未图示)，所述密闭腔体10的两相对侧面上分别设有吹气孔11及吸气孔12，所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔11和吸气孔12连接。所述密闭腔体10一侧设有供掩膜板9进出密闭腔体10内部的入口及对入口进行封闭的挡板15。所述静电除尘机构2设置在所述密闭腔体10的入口外侧以在掩膜板9进入所述密闭腔体10内部之前对该掩膜板9进行静电除尘处理，当掩膜板9进入密闭腔体10内部后，所述气体循环系统1可对掩膜板9做进一步清洁处理，其中，吹气管道通过吹气孔11对密闭腔体10内的掩膜板9进行吹气，将掩膜板9上异物颗粒吹离，吸气管道通过吸气孔12将吹气管道吹入密闭腔体10内的气体及掩膜板9上被吹起的异物颗粒吸除排除，从而本专利技术通过气体循环系统1及静电除尘机构2可将掩膜板9上的异物颗粒有效清除，节省了掩膜板9的清洁时间，降低了掩膜板9在清洁过程中的损坏风险。具体地，所述静电除尘机构2包括相对设置的分别对掩膜板9的上表面和下表面进行静电除尘处理的上静电除尘单元21及下静电除尘单元22。具体地，所述上静电除尘单元21和下静电除尘单元22可采用静电棒、离子风枪等其他静电除尘装置。具体地，所述吹气管道通过所述吹气孔11向所述密闭腔体10内部吹入压缩空气、氮气、离子气体或其他经过过滤后的洁净气体。具体地，本专利技术的掩膜板异物清除装置还包括设于所述密闭腔体10内部的用于承载掩膜板9的承载机构3、位于所述密闭腔体10内部远离入口一侧顶部的以感测掩膜板9存在的位置传感器4及与所述位置传感器4、气体循环系统1、静电除尘机构2及挡板15均电性连接的控制器(未图示)。其中，当掩膜板9从外侧向所述密闭腔体10内部进入时，所述控制器控制所述密闭腔体10入口处的挡板15打开，同时控制开启所述静电除尘机构2对掩膜板9进行静电除尘处理，当位置传感器4感测到掩膜板9完全进入所述密闭腔体10内部时，所述位置传感器4向控制器发出掩膜板进入信号，所述控制器接收到该掩膜板进入信号后控制所述密闭腔体10入口处的挡板15关闭本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板异物清除装置，其特征在于，包括气体循环系统(1)及静电除尘机构(2)；所述气体循环系统(1)包括密闭腔体(10)及设置在密闭腔体(10)外侧的吹气管道和吸气管道；所述密闭腔体(10)的两相对侧面上分别设有吹气孔(11)及吸气孔(12)，所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔(11)和吸气孔(12)连接；所述密闭腔体(10)一侧设有供掩膜板(9)进出密闭腔体(10)内部的入口及对入口进行封闭的挡板(15)；所述静电除尘机构(2)设置在所述密闭腔体(10)的入口外侧以在掩膜板(9)进入所述密闭腔体(10)内部之前对该掩膜板(9)进行静电除尘处理。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板异物清除装置，其特征在于，包括气体循环系统(1)及静电除尘机构(2)；所述气体循环系统(1)包括密闭腔体(10)及设置在密闭腔体(10)外侧的吹气管道和吸气管道；所述密闭腔体(10)的两相对侧面上分别设有吹气孔(11)及吸气孔(12)，所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔(11)和吸气孔(12)连接；所述密闭腔体(10)一侧设有供掩膜板(9)进出密闭腔体(10)内部的入口及对入口进行封闭的挡板(15)；所述静电除尘机构(2)设置在所述密闭腔体(10)的入口外侧以在掩膜板(9)进入所述密闭腔体(10)内部之前对该掩膜板(9)进行静电除尘处理。2.如权利要求1所述的掩膜板异物清除装置，其特征在于，所述静电除尘机构(2)包括相对设置的分别对掩膜板(9)的上表面和下表面进行静电除尘处理的上静电除尘单元(21)及下静电除尘单元(22)。3.如权利要求2所述的掩膜板异物清除装置，其特征在于，所述上静电除尘单元(21)和下静电除尘单元(22)均为静电棒。4.如权利要求2所述的掩膜板异物清除装置，其特征在于，所述上静电除尘单元(21)和下静电除尘单元(22)均为离子风枪。5.如权利要求1所述的掩膜板异物清除装置，其特征在于，所述吹气管道通过所述吹气孔(11)向所述密闭腔体(10)内部吹入压缩空气、氮气或离子气体。6.如权利要求1所述的掩膜板异物清除装置，其特征在于，还包括位于所述密闭腔体(10)内部远离入口一侧顶部...

【专利技术属性】
技术研发人员：王超，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44