静电潜像显影用双组分显影剂制造技术

技术编号:21139781 阅读:17 留言:0更新日期:2019-05-18 04:48
本发明专利技术的课题在于,提供一种能够抑制初期的引线部漏白的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生的静电潜像显影用双组分显影剂。其解决方法是本发明专利技术的静电潜像显影用双组分显影剂,其含有在调色剂母体粒子表面具有外添剂的调色剂粒子和在芯材粒子的表面具有含有树脂的包覆层的载体粒子,上述外添剂含有无机微粒,该无机微粒用硅油进行了表面修饰,在该表面修饰后的表面残存的碳含量为3.0~10.0质量%的范围内、且游离碳率为70.0%以上,上述载体粒子的电阻为1.0×10

【技术实现步骤摘要】
静电潜像显影用双组分显影剂
本专利技术涉及一种静电潜像显影用双组分显影剂。更具体而言,本专利技术涉及一种能够抑制初期的引线部漏白(白抜け)的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生的静电潜像显影用双组分显影剂。
技术介绍
采用电子照片方式形成图像时,形成于像承载体(以下也称为感光体。)上的静电潜像通过调色剂显影而可视化。作为该显影方式,以往以来,根据保持显影剂并旋转的显影器的显影套筒和感光体的旋转方向的不同,已知两种方式。其中一种是正转显影方式、另一种是逆转显影方式。如图1A所示,正转显影方式是感光体P的旋转方向W1与显影套筒S的旋转方向W2为相反方向的显影方式。在该方式中,在显影区域,使感光体表面与显影套筒表面的显影剂从相同方向接触,从而显影。如图1B所示,逆转显影方式是感光体P的旋转方向W1与显影套筒S的旋转方向W2为相同方向的显影方式。在该方式中,在显影区域,通过使感光体表面与显影套筒表面的显影剂从相反方向接触,从而显影。正转显影方式及逆转显影方式都会发生清除(Scavenging)现象,即载体粒子将在感光体上显影的调色剂静电刮取而扰乱图像的现象。正转显影方式中,特别容易显著地产生由清除导致的图像缺陷。使用图2,对由清除现象导致的上述图像缺陷的具体例进行说明。图2是示出相对于送纸方向A将与半色调图像G2的后端相邻且存在实心图像G1的原稿打印时发生的图像缺陷的概要图。进行这样的打印时,如图所示,容易发生半色调图像后端、即与实心图像的边界附近W的半色调图像容易漏白(以下,也称为“引线部漏白”。)的问题,需要改善。清除现象的原因是显影套筒与感光体的移动速度差,在显影套筒的移动速度设定为高于感光体的移动速度时产生。详细描述,实心图像显影时,通过将大量的调色剂供给至感光体,在显影套筒上的载体粒子残留有电荷,该载体粒子超过感光体上的实心图像部而到达半色调图像部时,由于将形成半色调图像的调色剂静电刮取,因此,发生清除现象。作为用于抑制清除现象的发生的改善方法,提出了载体粒子的低电阻化。通过将载体粒子设为低电阻,在实心图像显影时产生的载体粒子的电荷变得容易消失,其结果,容易将调色剂刮取,清除现象变得不易发生。然而,如果初期的载体粒子的电阻过度降低,则载体粒子表面的树脂层被削除,电阻更低的芯材在表面露出。由此,电阻过度降低,在显影夹持部发生泄露,发生图像缺陷容易产生的问题(例如,参照专利文献1)。因此,通常利用载体粒子的电阻进行调整时,难以兼顾抑制初期的引线部漏白、和长时间使用感光体时的显影泄露的发生。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2015-230376号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术鉴于上述问题/状况而完成,其解决的问题在于,提供一种能够抑制初期的引线部漏白的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生的静电潜像显影用双组分显影剂。解决问题的方法本专利技术人等为了解决上述问题而对上述问题的原因等进行了研究,其结果,发现了一种静电潜像显影用双组分显影剂,其含有调色剂粒子和载体粒子,通过用硅油对调色剂粒子的外添剂中所含有的无机微粒进行表面修饰,并将在该表面修饰后的表面残存的碳含量及游离碳率设为给定的范围内、将载体粒子的电阻设为给定的范围内,在载体粒子的包覆层中含有由含有脂环式甲基丙烯酸酯单体的单体形成的树脂,由此能够抑制初期的引线部漏白的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生,从而完成了本专利技术。即,本专利技术的问题通过以下的方式解决。1.一种静电潜像显影用双组分显影剂,其含有:在调色剂母体粒子表面具有外添剂的调色剂粒子、和在芯材粒子的表面具有含有树脂的包覆层的载体粒子,上述外添剂含有无机微粒,该无机微粒用硅油进行了表面修饰,在该表面修饰后的表面残存的碳含量为3.0~10.0质量%的范围内、且游离碳率为70.0%以上,上述载体粒子的电阻为1.0×109~5.0×1010Ω·cm的范围内,上述树脂含有由含有脂环式甲基丙烯酸酯单体的单体形成的树脂。2.根据第1项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述硅油为二甲基硅油。3.根据第1项或第2项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述硅油在25℃的运动粘度为50~500mm2/s的范围内。4.根据第1项~第3项中任一项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述无机微粒的个数平均一次粒径为25~100nm的范围内。5.根据第1项~第4项中任一项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述无机微粒为二氧化硅微粒或氧化铝微粒。6.根据第1项~第5项中任一项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述芯材粒子的电阻为8.0×106~3.0×108Ω·cm的范围内。7.根据第1项~第6项中任一项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述载体粒子的电阻为5.0×109~2.0×1010Ω·cm的范围内。8.根据第1项~第7项中任一项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,上述包覆层仅含有由含有上述脂环式甲基丙烯酸酯单体的单体形成的树脂。9.根据第1项~第8项中任一项所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,形成上述包覆层的上述脂环式甲基丙烯酸酯单体的含量为25~75质量%的范围内。专利技术的效果根据本专利技术,可以提供一种能够抑制初期的引线部漏白的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生的静电潜像显影用双组分显影剂。关于本专利技术的效果的显现机理或作用机理,尚未明确,但如下所述地推测。引线部漏白在电阻高的初期最容易发生。因此,认为通过将初期的载体粒子的电阻抑制在1.0×109~5.0×1010Ω·cm的范围内,从而可以抑制引线部漏白。另外,推测如果长时间使用,硅油从作为外添剂含有的无机微粒移动至载体粒子,由此,可以抑制载体粒子的电阻的变动,即使长时间使用也能够抑制泄露。本专利技术的外添剂用硅油修饰了表面后,外添剂表面的碳含量为3.0~10.0质量%的范围内。推测通过设为3.0质量%以上,可以容易地显现含有硅油的效果,通过设为10质量%以下,硅油从无机微粒向载体粒子的移动量不会变得过多,能够抑制引线部漏白的发生。另外,本专利技术的外添剂用硅油修饰了表面后,外添剂表面的游离碳率为70.0%以上。推测通过设为70.0%以上,能够高效地使硅油向载体粒子移动,从而能够有效地显现本专利技术的效果。另外,在包覆本专利技术的载体粒子的树脂中含有由含有疏水性比较高的脂环式甲基丙烯酸酯单体的单体形成的树脂。由此推测,硅油不会过度移动,能够使适量的硅油从作为外添剂的无机微粒移动至载体粒子。由此推测,得到如上所述的效果,本专利技术的静电潜像显影用双组分显影剂能够抑制初期的引线部漏白的发生、且即使长时间使用也能够抑制显影泄露的发生。附图说明图1A是对正转显影方式进行说明的概要图。图1B是对逆转显影方式进行说明的概要图。图2是对清除现象进行说明的概要图。符号说明P感光体S显影套筒W1感光体旋转方向W2显影套筒旋转方向具体实施方式本专利技术的静电潜像显影用双组分显影剂含有在调色剂母体粒子表面具有外添剂的调色剂粒子和在芯材粒子的表面具有含有树脂的包覆层的载体粒子,该静电潜像显影用双组分显影剂的特征在于,上述外添剂含有无机微粒,该无机微粒用硅油进行了表面修饰,在该表面修饰后的表面残存的碳含量为3.0~10.本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种静电潜像显影用双组分显影剂,其含有:调色剂粒子,其在调色剂母体粒子表面具有外添剂;和载体粒子,其在芯材粒子的表面具有含有树脂的包覆层,其中,所述外添剂含有无机微粒,该无机微粒用硅油进行了表面修饰,在该经表面修饰后的表面残存的碳含量为3.0~10.0质量%的范围内、且游离碳率为70.0%以上,所述载体粒子的电阻为1.0×10

【技术特征摘要】
2017.11.09 JP 2017-2160251.一种静电潜像显影用双组分显影剂,其含有:调色剂粒子,其在调色剂母体粒子表面具有外添剂;和载体粒子,其在芯材粒子的表面具有含有树脂的包覆层,其中,所述外添剂含有无机微粒,该无机微粒用硅油进行了表面修饰,在该经表面修饰后的表面残存的碳含量为3.0~10.0质量%的范围内、且游离碳率为70.0%以上,所述载体粒子的电阻为1.0×109~5.0×1010Ω·cm的范围内,所述树脂含有由包含脂环式甲基丙烯酸酯单体的单体形成的树脂。2.根据权利要求1所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,所述硅油为二甲基硅油。3.根据权利要求1或2所述的静电潜像显影用双组分显影剂,其中,所述硅油在25℃下的运动粘度为50~500mm2/s的范围内。4.根据权利要求1~3中任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员:柴田幸治小原慎也内野哲
申请(专利权)人:柯尼卡美能达株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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