一种高反射率辐射制冷膜制造技术

技术编号:20930882 阅读:23 留言:0更新日期:2019-04-20 13:05
本发明专利技术公开了一种高反射率辐射制冷膜,包括依次设置的辐射制冷层、反射层以及有机封装层,反射层包括依次设置的第一金属氧化物层、金属层、第二金属氧化物层以及介质膜层,介质膜层包括至少一高折射率层和至少一低折射率层,高折射率层与低折射率层交替地层叠设置。本发明专利技术的高反射率辐射制冷膜在可见光以及红外波段具有高反射率,同时在8~13μm波段具有高发射率,此外,本发明专利技术的高反射率辐射制冷膜的稳定性好,使用寿命长。

A High Reflectivity Radiation Refrigeration Film

The invention discloses a high reflectivity radiation refrigeration film, which comprises a radiation refrigeration layer, a reflecting layer and an organic packaging layer arranged in sequence. The reflecting layer comprises a first metal oxide layer, a metal layer, a second metal oxide layer and a dielectric film layer arranged in sequence. The dielectric film layer comprises at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer, and the high refractive index layer intersects with the low refractive index layer. For stratigraphic stacking. The high reflectivity radiation refrigeration film of the invention has high reflectivity in visible and infrared bands, and high emissivity in 8-13 um bands. In addition, the high reflectivity radiation refrigeration film of the invention has good stability and long service life.

【技术实现步骤摘要】
一种高反射率辐射制冷膜
本专利技术涉及辐射制冷
,尤其涉及一种高反射率辐射制冷膜。
技术介绍
太阳光的能量分布中,可见光(400~700nm)的能量约占43%,近红外光(700~2500nm)的能量约占52%。辐射制冷膜的降温效果主要由反射层对太阳光的可见光波段和近红外光波段的反射率以及辐射制冷层在“大气窗口”波段的发射率决定,目前反射型的辐射制冷薄膜反射率能达到的上限很有限,基本是靠金属层来实现。如公告号为CN108641155A的专利中,公开了一种被动辐射降温薄膜及其制备方法。该薄膜由辐射基膜层和铝膜层组成,铝膜层在太阳红外辐射波段和大气辐射波段均有较高的反射率,辐射基膜层中的SiO2颗粒在大气窗口8~13μm处有较高的辐射率。但是,作为反射层的金属容易被氧化,导致反射层性能不稳定,使用寿命短。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种高反射率辐射制冷膜,其反射率高,性能稳定。本专利技术的目的采用如下技术方案实现:一种高反射率辐射制冷膜,包括依次设置的辐射制冷层、反射层以及有机封装层,所述反射层包括依次设置的第一金属氧化物层、金属层、第二金属氧化物层以及介质膜层,所述介质膜层包括至少一高折射率层和至少一低折射率层,所述高折射率层与所述低折射率层交替地层叠设置。进一步地,所述高折射率层的材料选自以下一种或多种:Nb2O5、Ta2O5、TiO2、Al2O3、ZnS、ZrO2、HfO2、Y2O3,所述低折射率层的材料选自以下一种或多种:SiO2、MgF2。进一步地,所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层为Al2O3层,所述金属层的材料选自以下一种或多种:Ag、Al,所述介质膜层的一所述低折射率层与所述第二金属氧化物层接触。进一步地,所述辐射制冷层包括制冷层以及设置在所述制冷层至少一侧的树脂层,所述制冷层包括树脂以及分散在所述树脂中的辐射制冷颗粒。进一步地,所述辐射制冷颗粒选自以下一种或多种:SiO2、SiC、TiO2、CaCO3、BaSO4,所述辐射制冷颗粒的粒径为1~30μm。进一步地,所述有机封装层为胶粘剂或者结构胶或者压敏胶。进一步地,所述辐射制冷层的厚度为30~200μm,所述反射层的厚度为20~300nm,所述反射层中的所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层的厚度各占所述反射层厚度的20~30%,所述金属层的厚度占所述反射层厚度的20~35%,所述介质膜层占所述反射层厚度的5~40%,所述有机封装层的厚度为10~200μm。进一步地,所述高反射率辐射制冷膜还包括设置在所述辐射制冷层一侧的耐候疏水层,所述耐候疏水层与所述反射层分别位于所述辐射制冷层的两侧。进一步地,所述耐候疏水层包括氟树脂以及分散在所述氟树脂中的纳米SiO2粒子。进一步地,所述耐候疏水层的厚度为5~30μm,所述纳米SiO2粒子的粒径为10~100nm。相比现有技术,本专利技术的有益效果在于:本专利技术的高反射率辐射制冷膜在400~700nm可见光波段的平均反射率≥96%,在700~2500nm近红外光波段的平均反射率≥95.5%,在8~13μm波段的发射率≥93%;此外,本专利技术通过在金属层的两侧设置两金属氧化物层,金属层不易被氧化,其使用寿命长;通过在辐射制冷层的一侧设置耐候疏水层,使得本专利技术的高反射率辐射制冷层具有自洁、疏水、防污、耐候的优点。附图说明图1为本专利技术的实施例1的示意图;图2为本专利技术的实施例2的示意图;图3为本专利技术的实施例3的示意图;图4为对比例1的示意图。图中:1、辐射制冷层;11、制冷层;12、树脂层;2、反射层;21、第一金属氧化物层;22、金属层;23、第二金属氧化物层;24、介质膜层;241、高折射率层;242、低折射率层;3、有机封装层;4、耐候疏水层。具体实施方式下面,结合具体实施方式,对本专利技术做进一步描述,需要说明的是,在不相冲突的前提下,以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。在本专利技术的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向”、“纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本专利技术的具体保护范围。需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。如图1-3所示,本专利技术提供一种高反射率辐射制冷膜,包括依次设置的辐射制冷层1、反射层2以及有机封装层3,其中辐射制冷层1主要起到辐射制冷的作用,反射层2用于反射可见光以及红外光。辐射制冷层1包括辐射制冷颗粒,辐射制冷颗粒在8~13μm波段具有高发射率,以使得辐射制冷层1适于将热量以红外辐射的方式通过“大气窗口”发射出。在一些实施例中,辐射制冷层1包括制冷层11以及设置在制冷层11至少一侧的树脂层12,制冷层11包括树脂以及分散在树脂中的辐射制冷颗粒。辐射制冷颗粒选自以下一种或多种:SiO2、SiC、TiO2、CaCO3、BaSO4,辐射制冷颗粒的粒径为1~30μm。辐射制冷颗粒的形状可以是但不限于球形、多边形、椭球形。制冷层11的树脂以及树脂层12的树脂各自独立地选自以下一种或多种:聚4-甲基戊烯-1(TPX)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚氯乙烯(PVC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。树脂层12可以起到保护制冷层11的作用,树脂层12的树脂与制冷层11的树脂可以相同也可以不同,考虑到制冷层11与树脂层12的相容性,优选地制冷层11与树脂层12的采用同一种树脂。在一些实施例中,辐射制冷层1的厚度为30~200μm。其中,制冷层11的厚度占整个辐射制冷层1的40~80%,当制冷层11的两侧均设置树脂层12时,两侧的树脂层12的厚度相同。反射层2包括依次设置的第一金属氧化物层21、金属层22、第二金属氧化物层23以及介质膜层24,其中第一金属氧化物层21和第二金属氧化物层23既可以起到保护金属层22的作用,防止金属层22被氧化,还可以增加反射层2的反射率。此外,通过设置第一金属氧化物层21和第二金属氧化物层23,还解决了金属层22与辐射制冷层1或介质膜层24附着力差的问题。在一些实施例中,第一金属氧化物层21和第二金属氧化物层23为Al2O3层。在一些实施例中,金属层22的材料选自以下一种或多种:Ag、Al。或者,金属层22选自以下一层或多层:Ag层、Al层。介质膜层24包括至少一高折射率层241和至少一低本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高反射率辐射制冷膜,其特征在于,包括依次设置的辐射制冷层、反射层以及有机封装层,所述反射层包括依次设置的第一金属氧化物层、金属层、第二金属氧化物层以及介质膜层,所述介质膜层包括至少一高折射率层和至少一低折射率层,所述高折射率层与所述低折射率层交替地层叠设置。

【技术特征摘要】
1.一种高反射率辐射制冷膜,其特征在于,包括依次设置的辐射制冷层、反射层以及有机封装层,所述反射层包括依次设置的第一金属氧化物层、金属层、第二金属氧化物层以及介质膜层,所述介质膜层包括至少一高折射率层和至少一低折射率层,所述高折射率层与所述低折射率层交替地层叠设置。2.根据权利要求1所述的高反射率辐射制冷膜,其特征在于,所述高折射率层的材料选自以下一种或多种:Nb2O5、Ta2O5、TiO2、Al2O3、ZnS、ZrO2、HfO2、Y2O3,所述低折射率层的材料选自以下一种或多种:SiO2、MgF2。3.根据权利要求1所述的高反射率辐射制冷膜,其特征在于,所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层为Al2O3层,所述金属层的材料选自以下一种或多种:Ag、Al,所述介质膜层的一所述低折射率层与所述第二金属氧化物层接触。4.根据权利要求1所述的高反射率辐射制冷膜,其特征在于,所述辐射制冷层包括制冷层以及设置在所述制冷层至少一侧的树脂层,所述制冷层包括树脂以及分散在所述树脂中的辐射制冷颗粒。5.根据权利要求4所述的高反射率辐射制冷膜,其特征在于,所述辐射制冷颗粒选自以下一种或多...

【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人
申请(专利权)人:宁波瑞凌新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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