伤口敷料及其去除方法技术

一种伤口敷料，该伤口敷料包括一伤口接触层；该伤口接触层由至少一光降解型分子及至少一抗沾黏分子反应而成，该光降解型分子中包含有至少一邻硝基苄基基团。本发明专利技术还涉及一种伤口敷料的去除方法。

Wound dressing and its removal method

A wound dressing comprises a wound contact layer formed by reaction of at least one photodegradable molecule and at least one anti-sticking molecule containing at least one o-nitrobenzyl group. The invention also relates to a method for removing wound dressings.

【技术实现步骤摘要】
伤口敷料及其去除方法
本专利技术涉及一种伤口敷料及该伤口敷料的去除方法。
技术介绍
在受伤时，常使用一种伤口敷料包扎伤口。该伤口敷料包括与伤口直接接触的伤口接触层。通常，通过表面无污染处理将伤口敷料的伤口接触层设计成非粘合性质。但是，由于伤口会产生伤口分泌物，而伤口分泌物中总是含有蛋白质、血液等，因此患者在去除伤口敷料时总是觉得疼痛。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种在去除伤口敷料时不觉得疼痛的伤口敷料及其去除方法。一种伤口敷料，该伤口敷料包括一伤口接触层；该伤口接触层由至少一光降解型分子及至少一抗沾黏分子反应而成，该光降解型分子中包含有至少一邻硝基苄基基团。进一步地，该邻硝基苄基基团发生光降解的条件是：波长为405nm的可见光的照射。进一步地，该伤口接触层的分子结构式为：进一步地，该抗沾黏分子为聚乙二醇、聚羧基甜菜碱甲基丙烯酸酯、聚磺酸甜菜碱聚甲基丙烯酸酯、聚(甲基丙烯酰氧基乙基磷酰胆碱)、聚丙烯酰胺及聚-2-甲基-2-恶唑啉中的至少一种。进一步地，该伤口敷料还包括一吸收层及一形成在该吸收层的远离该伤口接触层的疏水层，该伤口接触层包括一伤口接触面及一与该伤口接触面相背的伤口非接触面，该吸收层形成在该伤口非接触面上。进一步地，该伤口接触层的该伤口接触面上还包含有药物。进一步地，该伤口接触层上还形成有多个导流孔，多个该导流孔贯穿该伤口接触层并连通该吸收层。进一步地，该吸收层的材质为亲水性聚合物泡沫、吸收性纤维网、由棉纤维和粘胶纤维以及聚酯纤维组成的无纺织物、含有至少一种水胶体的聚合物基质及冻干泡沫中的至少一种。一种如如上所述的伤口敷料的去除方法，包括如下步骤：使用可见光照射该伤口敷料，从而使该光降解型分子在可见光照射下分解。进一步地，该可见光的波长为405nm。本专利技术提供的伤口敷料及去除方法，在该伤口接触层中加入可光降解的分子，使得该伤口敷料在光照射下可以迅速降解，从而避免该伤口接触层与伤口分泌物中的蛋白质及血液粘连，从而在不使得患者在更换伤口敷料时觉得疼痛的同时顺利去除该伤口敷料。附图说明图1是本专利技术提供的一种伤口敷料的剖视图。主要元件符号说明伤口敷料100伤口接触层10伤口接触面11伤口非接触面12导流孔13吸收层20防水透气层30如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式为能进一步阐述本专利技术达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图1及较佳实施方式，对本专利技术提供的一种伤口敷料及去除方法作出如下详细说明。请参阅图1，本专利技术较佳实施方式提供一种伤口敷料100，该伤口敷料100包括一伤口接触层10、一吸收层20及一疏水层30，该吸收层20位于该伤口接触层10及该疏水层30之间。具体地，该伤口接触层10包括一伤口接触面11及一与该伤口接触面11相背的伤口非接触面12。其中，该吸收层20形成在该伤口非接触面12上，该疏水层30形成在该吸收层20的远离该伤口接触层10的表面上。其中，该伤口接触层10上还形成有多个导流孔13，多个该导流孔13贯穿该伤口接触层10并连通该吸收层20。优选地，该导流孔13均匀分布在该伤口接触层10上。该导流孔13用于将伤口分泌的分泌物导流至该吸收层20。其中，该伤口接触层10由至少一光降解型分子及至少一抗沾黏分子反应而成。其中，该光降解型分子有助于移除敷料，该抗沾黏分子用于避免该敷料沾黏伤口。其中，该光降解型分子中包含有至少一邻硝基苄基基团。该邻硝基苄基醚分子暴露于405nm的可见光下会发生光降解。其中，该抗沾黏分子可以为聚乙二醇(polyethyleneglycol,PEG)、聚羧基甜菜碱甲基丙烯酸酯(polycarbixybetainemethacylate,PCBMA)、聚磺酸甜菜碱聚甲基丙烯酸酯(polysulfobetainemethacrylate,PSBMA)、聚(甲基丙烯酰氧基乙基磷酰胆碱)(poly(methacryloyloxyethylphosphorylcholine),PMPC)、聚丙烯酰胺(polyacrylamide,PAAM)及聚-2-甲基-2-恶唑啉(poly-2-methyl-2-oxazoline,PMOXA)中的至少一种。具体地，该PEG的分子结构式为：该PCBMA的分子结构式为：该PSBMA的分子结构式为：该PMPC的分子结构式为：该PAAM的分子结构式为：该PMOXA的分子结构式为：在本实施例中，该抗沾黏分子为PEG分子，该PEG分子具有抗蛋白质非吸附性(non-fouling)，因此可以避免该伤口接触层10粘附在伤口上。其中，该伤口接触层10中的该邻硝基苄基基团发生光降解的反应式为：在本实施例中，该光降解型分子中包含有两个该邻硝基苄基基团，两个该邻硝基苄基基团的两端分别连接有一该聚乙二醇分子基团。具体地，在本实施例中，该伤口接触层10的分子结构式为：其中，该伤口接触层10的该伤口接触面11上还可以包含有抗菌药物，促进伤口愈合药物等，以促进伤口的快速愈合。该吸收层20用于吸收伤口产生的多余的分泌物，以避免伤口周围的皮肤损伤，降低伤口的严重污染/感染风险，从而促进伤口的愈合。该吸收层20的材质可以是亲水性聚合物泡沫、吸收性纤维网、由棉纤维、粘胶纤维和聚酯纤维组成的无纺织物、含有至少一种水胶体的聚合物基质及冻干泡沫中的至少一种。在本实施例中，该吸收层20的材料为吸收性纤维网。该疏水层30用于防止水、湿气、杂质、灰尘、细菌等外界污染物进入伤口，以免影响伤口的愈合。该疏水层30可以使用任何目前在现代创伤治疗中常见的、用作疏水层的材料。本专利技术实施方式还提供一种伤口敷料100的去除方法，包括如下步骤：通过可见光照射包覆着伤口的该伤口敷料100，以使得该伤口敷料100的该伤口接触层10中的该光降解型分子基团(邻硝基苄基基团)分解，从而轻易去除该伤口敷料100。在本实施例中，是通过波长为405nm的可见光照射该伤口敷料100的。本专利技术提供的伤口敷料及去除方法，在该伤口接触层10中加入光降解型分子，使得该伤口敷料100在光照射下可以迅速降解，从而避免该伤口接触层10与伤口分泌物中的蛋白质及血液粘连，从而在不使得患者在更换伤口敷料时觉得疼痛的同时顺利去除该伤口敷料100。另外，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本专利技术的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本专利技术权利要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种伤口敷料，该伤口敷料包括一伤口接触层；其特征在于，该伤口接触层由至少一光降解型分子及至少一抗沾黏分子反应而成，该光降解型分子中包含有至少一邻硝基苄基基团。

【技术特征摘要】
1.一种伤口敷料，该伤口敷料包括一伤口接触层；其特征在于，该伤口接触层由至少一光降解型分子及至少一抗沾黏分子反应而成，该光降解型分子中包含有至少一邻硝基苄基基团。2.如权利要求1所述的伤口敷料，其特征在于，该邻硝基苄基基团发生光降解的条件是：波长为405nm的可见光的照射。3.如权利要求1所述的伤口敷料，其特征在于，该伤口接触层的分子结构式为：4.如权利要求1所述的伤口敷料，其特征在于，该抗沾黏分子为聚乙二醇、聚羧基甜菜碱甲基丙烯酸酯、聚磺酸甜菜碱聚甲基丙烯酸酯、聚(甲基丙烯酰氧基乙基磷酰胆碱)、聚丙烯酰胺及聚-2-甲基-2-恶唑啉中的至少一种。5.如权利要求1所述的伤口敷料，其特征在于，该伤口敷料还包括一吸收层及一形成在该吸收层的远离该伤口接触层的疏水层，该伤口接触层包括一伤口接触...

【专利技术属性】
技术研发人员：简秀纹，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44