阵列基板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:20367367 阅读:68 留言:0更新日期:2019-02-16 18:35
本发明专利技术提供一种阵列基板及显示装置。该阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的栅线、数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定出像素单元;所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层,且所述第一遮光导电层至少覆盖所述栅线设置;和/或,所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有第二遮光导电层,且所述第二遮光导电层至少覆盖所述数据线设置。本发明专利技术所提供的阵列基板及显示装置,能够有效阻挡栅线上方和/或数据线上方的漏光,并且能够在一定程度上提高显示产品的开口率。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示装置
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种阵列基板及显示装置。
技术介绍
目前,显示产品的开口率大小将直接影响产品的透过率的大小,从而直接决定了显示产品的竞争力。在传统的显示产品中,在阵列基板上,栅线(Gate)和像素(Pixel)电极之间以及数据线(Data)和像素电极之间存在电场,使得栅线上方和数据线上方存在漏光现象。因此,在现有技术中,通常需要在与阵列基板相对设置的彩膜基板上设置黑矩阵(BM),以实现遮挡栅线上方和数据线上方的漏光。同时,阵列基板还包括公共电极线,公共电极线与栅线同层形成,公共电极线对应的位置同样需要设置黑矩阵来遮挡公共电极线上方的漏光。此外,现有的黑矩阵和公共电极线的设置,占用了显示产品一定的空间,在一定程度上限制了显示产品的开口率,影响了显示产品的透过率,从而影响了显示产品的显示画面的色域等光学性能,进而影响了显示产品的竞争力。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决上述现有技术中存在的技术问题之一,提供一种阵列基板及显示装置。为实现上述目的,本专利技术提供了一种阵列基板,该阵列基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的栅线、数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定出像素单元;所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层,且所述第一遮光导电层至少覆盖所述栅线设置;和/或,所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有第二遮光导电层,且所述第二遮光导电层至少覆盖所述数据线设置。可选地,若所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有所述第一遮光导电层,且所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有所述第二遮光导电层时,所述第一遮光导电层和所述第二遮光导电层之间电连接,且所述第一遮光导电层和所述第二遮光导电层同层设置。可选地,该阵列基板还包括公共电极,所述公共电极位于所述像素单元中,且所述公共电极位于所述栅线、所述数据线的远离所述衬底基板的一侧;若所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层时,所述第一遮光导电层与所述公共电极之间电连接。可选地,该阵列基板还包括公共电极,所述公共电极位于所述像素单元中,且所述公共电极位于所述栅线、所述数据线的远离所述衬底基板的一侧;若所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有第二遮光导电层时,所述第二遮光导电层与所述公共电极之间电连接。可选地,该阵列基板还包括像素电极,所述像素电极位于所述像素单元中,所述像素电极与所述公共电极对应设置,且所述像素电极位于所述栅线、所述数据线的靠近所述衬底基板的一侧。可选地,所述第一遮光导电层具有沿所述栅线设置的方向设置和沿所述数据线设置的方向设置的多个第一侧边,所述栅线具有与所述第一侧边对应设置的第二侧边;所述第一侧边在所述衬底基板上的正投影和对应的所述第二侧边在所述衬底基板上的正投影之间的距离范围为4微米至5微米。可选地,所述第二遮光导电层具有沿所述栅线设置的方向设置和沿所述数据线设置的方向设置的多个第三侧边,所述数据线具有与所述第三侧边对应设置的第四侧边;所述第三侧边在所述衬底基板上的正投影和对应的所述第四侧边在所述衬底基板上的正投影之间的距离范围为4微米至5微米。可选地,所述第一遮光导电层和所述第二遮光导电层的材料均为金属材料。为实现上述目的,本专利技术提供一种显示装置,该显示装置包括相对设置的彩膜基板和阵列基板,所述阵列基板包括上述的阵列基板。本专利技术的有益效果:本专利技术所提供的阵列基板及显示装置的技术方案中,栅线的远离衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层,且第一遮光导电层至少覆盖栅线设置;和/或,数据线的远离衬底基板的一侧设置有第二遮光导电层,且第二遮光导电层至少覆盖数据线设置。通过第一遮光导电层和/或第二遮光导电层,可以有效阻挡栅线上方和/或数据线上方的漏光,并且在实际应用中,无需在彩膜基板中对应栅线的位置和/或对应数据线的位置设置黑矩阵,从而在一定程度上增加了显示产品的开口率,保证了显示产品的透过率,从而保证了显示产品的显示画面的色域等光学性能,进而保证了显示产品的竞争力。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的一种阵列基板的结构示意图;图2为图1中的阵列基板的AA’向剖视图;图3为图1中的阵列基板的BB’向剖视图;图4为图1中栅线和第一遮光导电层的结构示意图;图5为图1中的数据线和第二遮光导电层的结构示意图;图6为本专利技术实施例二提供的一种阵列基板的结构示意图;图7为本专利技术实施例三提供的一种阵列基板的结构示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面结合附图对本专利技术提供的阵列基板及显示装置进行详细描述。图1为本专利技术实施例一提供的一种阵列基板的结构示意图,图2为图1中的阵列基板的AA’向剖视图,图3为图1中的阵列基板的BB’向剖视图,如图1至图3所示,该阵列基板包括衬底基板1和位于衬底基板1上的栅线2、数据线3,栅线2和数据线3交叉限定出像素单元P。栅线2的远离衬底基板1的一侧设置有第一遮光导电层4,且第一遮光导电层4至少覆盖栅线2设置;数据线3的远离衬底基板1的一侧设置有第二遮光导电层5,且第二遮光导电层5至少覆盖数据线3设置。本实施例中,通过在阵列基板中,在栅线2上方对应栅线2的位置设置至少覆盖栅线2的第一遮光导电层4,在数据线3上方对应数据线3的位置设置至少覆盖数据线3的第二遮光导电层5。其中,第一遮光导电层4和第二遮光导电层5可以起到遮光作用,有效阻挡漏光。传统的设计中,通常在彩膜基板侧设置黑矩阵,用来阻挡栅线2上方的漏光和数据线3上方的漏光,当彩膜基板与阵列基板不能准确对位或受到外力冲击时,使得彩膜基板上的黑矩阵无法有效地阻挡漏光,或者为了能够有效阻挡漏光,传统的设计中通常需要增加黑矩阵的面积,但此种设计将在一定程度上限制显示产品的开口率。而本实施例中,由于第一遮光导电层4和栅线2位于同一阵列基板中,第二遮光导电层5和数据线3位于同一阵列基板中,因此第一遮光导电层4和栅线2能够做到准确的对位,第二遮光导电层5和数据线3能够做到准确的对位,即使彩膜基板与阵列基板不能准确对位或受到外力冲击,第一遮光导电层3和第二遮光导电层5也能够有效阻挡漏光。同时,本实施例中,在彩膜基板上,无需在栅线2对应的位置和数据线3对应的位置设置黑矩阵,在一定程度上增加了显示产品的开口率,保证了显示产品的透过率,从而保证了显示产品的显示画面的色域等光学性能,进而保证了显示产品的竞争力。本实施例中,第一遮光导电层4至少覆盖栅线2设置可以理解为第一遮光导电层4在衬底基板1上的正投影至少覆盖栅线2在衬底基板1上的正投影。图4为图1中栅线和第一遮光导电层的结构示意图,如图1、图2和图4所示,第一遮光导电层4具有沿栅线2设置的方向即AA’方向设置和沿数据线3设置的方向即BB’方向设置的多个第一侧边41,栅线2具有与第一侧边41对应设置的第二侧边21;优选地,第一侧边41在衬底基板1上的正投影与对应的第二侧边21在衬底基板1上的正投影之间的距离范围为4微米至5微米。优选地,第一侧边41在衬底基板1上的正投影与对应的第二侧边21在衬底基板1上的正投影之间的距离为4.5微米。同理,第二遮光导电层5至少覆盖数据线3设置可以理解为第二遮光导电层5在衬底基板1上的正投影至少覆盖数据线3在衬底基板1上的正投影。图5为图1中的数据线和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的栅线、数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定出像素单元;所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层,且所述第一遮光导电层至少覆盖所述栅线设置;和/或,所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有第二遮光导电层,且所述第二遮光导电层至少覆盖所述数据线设置。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的栅线、数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定出像素单元;所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层,且所述第一遮光导电层至少覆盖所述栅线设置;和/或,所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有第二遮光导电层,且所述第二遮光导电层至少覆盖所述数据线设置。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,若所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有所述第一遮光导电层,且所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有所述第二遮光导电层时,所述第一遮光导电层和所述第二遮光导电层之间电连接,且所述第一遮光导电层和所述第二遮光导电层同层设置。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括公共电极,所述公共电极位于所述像素单元中,且所述公共电极位于所述栅线、所述数据线的远离所述衬底基板的一侧;若所述栅线的远离所述衬底基板的一侧设置有第一遮光导电层时,所述第一遮光导电层与所述公共电极之间电连接。4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括公共电极,所述公共电极位于所述像素单元中,且所述公共电极位于所述栅线、所述数据线的远离所述衬底基板的一侧;若所述数据线的远离所述衬底基板的一侧设置有第二遮光...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐姗姗徐旭陈丽雯
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司福州京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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