具有气体回收功能的准分子激光振荡装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的是将从包含准分子激光振荡装置所使用的稀有气体(例如氩气、氙气、氪气等)的废气中除去杂质的除去功能设置在准分子激光振荡装置的系统内。本发明专利技术提供一种具备气体回收功能的准分子激光振荡装置，在准分子激光振荡装置的系统内具备振荡室和第一杂质除去装置，所述振荡室在内部填充有激光气体，所述激光气体具有卤素气体、稀有气体和缓冲气体，所述第一杂质除去装置将从所述振荡室排出的废气中的杂质除去。

【技术实现步骤摘要】
具有气体回收功能的准分子激光振荡装置
本专利技术涉及一种准分子激光振荡装置，其能够除去从准分子激光的振荡室排出的废气中的杂质，例如将作为准分子激光振荡装置所需的稀有气体的含氪气的氖气、含氙气和氩气的氖气、含氙气的氖气回收，作为循环气体再利用。
技术介绍
以往的准分子激光振荡装置，不具备该振荡装置中所使用的激光气体(激光介质的气体)的循环功能，除了振动装置以外，还需要用于除去向准分子激光振荡装置的系统外排出的废气(使用过的激光气体)中的杂质的回收系统(也称为氖气回收系统)。通常，主流技术是采用低温分离等各种分离技术，将废气中的杂质和稀有气体分离，作为氖为99％以上的高纯度氖气进行纯化，并作为激光气体的原料气体进行回收。例如，作为在将从准分子激光振荡装置向系统外排出的废气进行再利用的工序中，将氟化合物除去的方法的例子，可举出专利文献1。另外，专利文献2记载了从使用氙气-氯系气体的准分子激光振荡装置中回收氖气的方法。另外，专利文献3记载了能够将使用氪气、氙气的各种工艺的废气中所含的微量杂质除去，设置在准分子激光振荡装置的附近，仅将稀有气体(氪气、氙气)分离回收并进行再利用的稀有气体分离回收装置。另外，专利文献4记载了除去从准分子激光振荡装置向系统外排出的激光气体(废气)中的卤素，在预定的纯化处理后补充激光气体成分，再次送入准分子激光振荡装置进行再利用的技术构成。另外，专利文献5记载了从KrF准分子激光振荡装置向系统外排出的、包含大量杂质的主成分为氖气的废气中仅将高纯度的氖气回收。另外，作为将废气中的CF4分解的方法，专利文献6记载了使用无声放电的方法，专利文献1记载了电晕放电方法。在先技术文献专利文献1：日本特开2010-92920号公报专利文献2：日本特开2008-168169号公报专利文献3：日本特开2004-161503号公报专利文献4：日本特开平11-54851号公报专利文献5：日本特开2001-232134号公报专利文献6：日本特开2006-110461号公报非专利文献1：T.IEEEJapan,Vol.117-A,No.10(1997)「通过电晕放电除去准分子气体中的气体状杂质」
技术实现思路
如上述
技术介绍
和专利文献1～5所公开的内容，为了将从准分子激光振荡装置向系统外排出的废气回收，需要另外的用于回收的纯化装置，因此需要设置空间。另外，由于该回收装置与准分子激光振荡装置是分别单独的装置，因此需要使各个装置合作运行。另外，为了分离从准分子激光振荡装置向系统外排出的废气中的杂质，将与原料的激光气体中的氖气相同或实质相同的高纯度氖气回收，作为激光气体回收利用，需要从废气中除去氩气(Ar)、氪气(Kr)等稀有气体。但是，作为从废气中分离这些氩气、氪气的废气纯化装置，会使用-100℃以下的极低温技术。另外，作为不使用极低温技术的方法，提出了通过升压器等进行废气的高压化和吸附技术的分离方法。但是，极低温技术以及废气的高压化和吸附技术都需要巨大的能量。另外，以往废气纯化装置为大型装置，被设计成能够应对从多个准分子激光振荡装置排出的大量废气。当废气纯化装置停止运行时，有可能对与该废气纯化装置连接的多个准分子激光振荡装置的运行造成较大影响。另外，即使能够除去氩气(Ar)、氪气(Kr)，纯化得到以氖气(Ne)为主成分的回收气体，在准分子激光振荡装置内生成的CF4等杂质也会对激光振荡造成影响。这些CF4等杂质的除去在上述专利文献等中有所记载，但并不简单。另外，对导入废气纯化装置的废气(低纯度的氖气)中的杂质浓度进行检测也不简单。因此，在废气中的杂质浓度高的情况下，废气纯化装置(特别是吸附除去手段等装置)的性能会更快降低。所以吸附除去手段的更换等维护频率增加。另外，专利文献1的杂质除去装置中，具有通过沸石等吸附剂将包含CF4的杂质除去的工序，但在废气含有高浓度CF4的情况下，存在通过吸附剂无法完全除去CF4这样的问题。因此，在准分子激光振荡装置中产生的CF4，如果反复进行废气的纯化工序，则回收气体中的CF4浓度逐渐上升，在准分子激光振荡装置中有可能发生激光脉冲输出能量降低等不良情况。另外，根据分解方法，存在CF4分解时产生作为新杂质的氧气这样的问题。另外，专利文献6的通过无声放电将废气中的CF4分解的方法，能够对较高浓度的CF4进行分解处理，但是存在分解后会残留一定量的CF4这样的问题。非专利文献1的通过电晕放电将废气中的CF4分解的方法，存在电极容易发生氟化从而劣化之类的问题。本专利技术的第1目的是将从含有准分子激光振荡装置中所使用的稀有气体(例如氩气、氙气、氪气等)的废气中除去杂质的除去功能设置于准分子激光振荡装置的系统内。另外，本专利技术的第2目的是在准分子激光振荡装置的系统内，除去从准分子激光的振荡室排出的废气中的部分杂质，并将其它杂质在准分子激光振荡装置的系统外除去。另外，本专利技术的第3目的是在准分子激光振荡装置的系统内，测定从准分子激光的振荡室排出的废气中的杂质浓度，并在准分子激光振荡装置的系统内和/或准分子激光振荡装置的系统外进行杂质的除去处理。另外，还以将除去了杂质的纯化气体(包含稀有气体的激光气体)回收利用为目的。本专利技术的具备气体回收功能的准分子激光振荡装置，具备振荡室和第一杂质除去装置，所述振荡室在内部填充有激光气体，所述激光气体具有卤素气体(例如氟气)、稀有气体(例如氪气、氩气、氙气)、缓冲气体(例如氖气、氯气)，所述第一杂质除去装置将从所述振荡室排出的废气中的杂质除去。所述第一杂质除去装置可以具有氟化合物除去部，所述氟化合物除去部将作为杂质的一部分的氟化合物除去。所述第一杂质除去装置可以仅具有氟化合物除去部。所述第一杂质除去装置可以具有分解装置，所述分解装置将作为杂质的一部分的氟化碳(CF4等)分解，得到分解副产物。所述第一杂质除去装置可以具有分解副产物除去部，所述分解副产物除去部使所述分解装置中生成的分解副产物与预定的反应剂反应从而将其从所述废气中除去。氟化碳被分解时的分解副产物例如为氟化合物。所述第一杂质除去装置可以不具有氟化合物除去部，而具有分解装置和分解副产物除去部。所述第一杂质除去装置可以具有杂质浓度测定部，所述杂质浓度测定部测定从振荡室排出的废气中的杂质浓度。第一杂质除去装置可以不具有氟化合物除去部、分解装置、分解副产物除去部，而具有杂质浓度测定部。杂质浓度测定部可以设定在所述氟化合物除去部的上游或下游。杂质浓度测定部可以设置在比所述分解装置靠上游，用于判断是否通过分解装置将杂质除去。另外，杂质浓度测定部也可以设置在比所述分解装置靠下游，用于测定由分解装置处理后的杂质的浓度。杂质浓度测定部，作为废气中的杂质，可以测定CF4、N2、He之中的任一种或多种杂质的浓度。所述第一杂质除去装置可以在比所述分解装置靠上游和/或靠下游，具有用于存储废气的缓冲罐。所述第一杂质除去装置可以在比所述分解副产物除去部靠上游和/或靠下游，具有用于存储废气的缓冲罐。所述第一杂质除去装置可以在比所述杂质浓度测定部靠上游和/或靠下游，具有用于存储废气的缓冲罐。所述第一杂质除去装置可以在比所述氟化合物除去部靠上游和/或靠下游，具有用于存储废气的缓冲罐。在上述专利技术中，如果准分子激光振荡装置为单一壳体，则“系统内”是指本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种准分子激光振荡装置，具备气体回收功能，所述准分子激光振荡装置的系统内具备振荡室和第一杂质除去装置，所述振荡室在内部填充有激光气体，所述激光气体具有卤素气体、稀有气体和缓冲气体，所述第一杂质除去装置将从所述振荡室排出的废气中的杂质除去。

【技术特征摘要】
2017.05.17 JP 2017-0984681.一种准分子激光振荡装置，具备气体回收功能，所述准分子激光振荡装置的系统内具备振荡室和第一杂质除去装置，所述振荡室在内部填充有激光气体，所述激光气体具有卤素气体、稀有气体和缓冲气体，所述第一杂质除去装置将从所述振荡室排出的废气中的杂质除去。2.根据权利要求1所述的准分子激光振荡装置，所述第一杂质除去装置具有氟化合物除去部，所述氟化合物除去部将作为杂质的一部分的氟化合物除去。3.根据权利要求1或2所述的准分子激光振荡装置，所述第一杂质除去装置具有分解装置，所述分解装置将作为杂质的一部分的氟化碳分解，得到分解副产物。4.根据权利要求3所述的准分子激光振荡装置，所述第一杂质除去装置具有分解副产物除去部，所述分解副产物除去部使所述分解装置中生成的分解副产物与预定的反应剂反应从而将其从所述废气中除去。5.根据权利要求1～4的任一项所述的准分子激光振荡装置，所述第一杂质除去装置具有杂质浓度测定部，所述杂质浓度测定部测定从振荡室排出的废气...

【专利技术属性】
技术研发人员：小浦辉政，松本幸二，野泽史和，筿原悠介，
申请(专利权)人：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR