【技术实现步骤摘要】
一种等离子体清洗装置
本技术属于PCB板及FPC清洗的设备
，具体涉及一种等离子体清洗装置。
技术介绍
等离子体清洗已逐步在半导体制造、微电子封装、集成电路等行业普遍应用。所谓的等离子体清洗，就是用等离子体通过化学或物理作用时对工件表面进行处理，实现分子水平的污渍去除，提高表面活性的工艺。但是常规等离子体清洗过程中，待清洗的工件处于等离子体离化区域中，清洗过程中伴随着物理清洗过程，等离子体中电子、离子等高能活性离子对材料表面会产生很大的损伤和热效应，造成对处理件的损伤。此等离子体装置有别于传统等离子体处理，是将等离子体合理置于等离子体放电区，再利用气流、电场等将等离子体高速游荡在加工区。和传统等离子体相同，此等离子体中包含有电子、离子和活性自由基等，但是由于放电区能够连续调节，短寿命的电子、离子浓度迅速衰减，而长寿命的活性自由基的浓度较高，因此在放电区的位置，电子、离子等高能活性离子对材料表面的轰击损伤尽可能降低，活性自由基对样品的作用占主导地位，有利于控制目的性反应，减少污染，处理环境的温度更低，对PCB板及FPC能够获得更好的且无损伤的清洗效果。
技术实现思路
本技术的目的旨在提供一种等离子体清洗装置，利用等离子体获得适宜的离子、活性自由基比例，以获得较好的且无损伤的清洗效果。本技术的技术方案是一种等离子体清洗装置，包括进气装置、等离子体发生装置和真空室；所述进气装置包括进气管路、MFC质量流量计、电磁阀、气体混合室和匀气管路；所述等离子体发生装置包括正负电极和PWM脉宽调制电源，所述正负电极包含电极接入端、电极导轨、电极托盘；所述真空室包括电极调节轨道...
【技术保护点】
1.一种等离子体清洗装置，包括进气装置、等离子体发生装置和真空室，其特征在于，所述进气装置包括进气管路、MFC质量流量计、电磁阀、气体混合室和匀气管路；所述等离子体发生装置包括正负电极和PWM脉宽调制电源，所述正负电极包含电极接入端、电极导轨、电极托盘；所述真空室包括电极调节轨道、真空腔体，真空腔体底部开设主抽气路法兰接口、纯净气体破空法兰接口、上部开设进气路法兰接口、上下两端各开设电极法兰接口。
【技术特征摘要】
1.一种等离子体清洗装置，包括进气装置、等离子体发生装置和真空室，其特征在于，所述进气装置包括进气管路、MFC质量流量计、电磁阀、气体混合室和匀气管路；所述等离子体发生装置包括正负电极和PWM脉宽调制电源，所述正负电极包含电极接入端、电极导轨、电极托盘；所述真空室包括电极调节轨道、真空腔体，真...
【专利技术属性】
技术研发人员：詹铁锤，程光周，薛进，倪红德，
申请(专利权)人：合肥杰硕真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34
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