一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一压块、若干第二压块和出料辊轮，所述若干第一压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面。通过上述方式，本发明专利技术用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置通过采用第一压块对面料的下方进行整平梳理、采用第二压块对面料的上方进行整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，在用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置的普及上有着广泛的市场前景。

A single side pressure proof wear resistant double-sided leveling carding device for production of fabrics

The invention discloses a one-sided press and wear-proof two-sided flat carding device for fabrics production, which comprises a base, a support frame, a top plate, a feeding roller, a number of first pressing blocks, a number of second pressing blocks and a discharge roller. The first pressing blocks are arranged in the walking area of the fabrics and fixed on the upper table connecting the base. On the surface, the second pressing blocks are arranged in the fabric walking area and fixed to the lower surface of the roof. Through the above way, the one-side press and wear-proof two-sided flattening carding device for fabrics can realize the one-side press and two-sided flattening carding by using the first pressing block to flatten the lower part of the fabric and the second pressing block to flatten the upper part of the fabric, thus preventing the two-sided pressure from being applied simultaneously. Fabrics cause wear and tear, and can realize double-sided leveling of fabrics. It has broad market prospects in the popularization of one-sided pressure and wear-proof double-sided leveling carding device for fabrics production.

【技术实现步骤摘要】
一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置
本专利技术涉及纺织领域，特别是涉及一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置。
技术介绍
我国是世界上最大的纺织品服装生产国、出口国和消费国，出口额占全球出口贸易的四分之一以上。纺织面料关系到人们生活的方方面面，现有的面料的加工工艺相对落后，其中整平梳理大多采用机器展平、手动梳理，或者采用单纯的外力展平，效率低、容易造成面料损伤、整平梳理的效果较差，影响面料的品质。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置，通过采用第一压块对面料的下方进行整平梳理、采用第二压块对面料的上方进行整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、方便实用，在用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置的普及上有着广泛的市场前景。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一压块、若干第二压块和出料辊轮，所述底座水平设置，所述顶板通过所述支撑架水平设置在所述底座的上方，所述底座与所述顶板之间的空间形成面料行走区域，所述入料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输入端，所述出料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输出端，所述若干第一压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面，所述若干第一压块与所述若干第二压块交替设置，所述若干第一压块的上表面与所述若干第二压块的下表面位于同一水平面，面料依次经由所述第一压块的上表面和第二压块的下表面进行传送。在本专利技术一个较佳实施例中，所述入料辊轮、所述出料辊轮分别外接电机。在本专利技术一个较佳实施例中，所述入料辊轮与所述出料辊轮的转动方向相同。在本专利技术一个较佳实施例中，所述第一压块的上表面为矩形齿设置。在本专利技术一个较佳实施例中，所述第二压块的下表面为矩形齿设置。在本专利技术一个较佳实施例中，所述第一压块、所述第二压块的材质为柔性材料。本专利技术的有益效果是：本专利技术用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置通过采用第一压块对面料的下方进行整平梳理、采用第二压块对面料的上方进行整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、方便实用，在用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置的普及上有着广泛的市场前景。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1是本专利技术的用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置一较佳实施例的结构示意图。具体实施方式下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1，本专利技术实施例包括：一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置，包括：底座1、支撑架2、顶板3、入料辊轮4、若干第一压块5、若干第二压块6和出料辊轮7。所述底座1水平设置，所述顶板3通过所述支撑架2水平设置在所述底座1的上方，所述底座1与所述顶板3之间的空间形成面料行走区域101，所述入料辊轮4连接所述支撑架2且设置在所述面料行走区域101的输入端，所述出料辊轮7连接所述支撑架2且设置在所述面料行走区域101的输出端，所述若干第一压块5设置在所述面料行走区域101且固定连接所述底座1的上表面，所述若干第二压块6设置在所述面料行走区域101且固定连接所述顶板3的下表面，所述若干第一压块5与所述若干第二压块6交替设置，所述若干第一压块5的上表面与所述若干第二压块6的下表面位于同一水平面，面料依次经由所述第一压块5的上表面和第二压块6的下表面进行传送，采用第一压块5对面料的下方进行整平梳理、采用第二压块6对面料的上方进行整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、方便实用。优选地，所述入料辊轮4、所述出料辊轮7分别外接电机。优选地，所述入料辊轮4与所述出料辊轮7的转动方向相同。优选地，所述第一压块5的上表面为矩形齿设置，在实现展平功能的同时，也可利用矩形齿的结构对面料进行梳理功能，另外矩形齿结构有锯齿和无锯齿间隔设置，也可使得面料不总是受压，有一定的放松时间，相对于持续性侧压可降低对面料的损伤、提高面料的品质。优选地，所述第二压块6的下表面为矩形齿设置，在实现展平功能的同时，也可利用矩形齿的结构对面料进行梳理功能，另外矩形齿结构有锯齿和无锯齿间隔设置，也可使得面料不总是受压，有一定的放松时间，相对于持续性侧压可降低对面料的损伤、提高面料的品质。优选地，所述第一压块5、所述第二压块6的材质为柔性材料，也可进一步降低在传送、挤压、摩擦过程中对面料的损伤，进而提高面料的品质。本专利技术用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置的有益效果是：一、通过采用第一压块对面料的下方进行整平梳理、采用第二压块对面料的上方进行整平梳理，实现单侧压双面型的整平梳理，既可防止同时施加双侧压力对面料造成磨损，又可实现对面料的双面整平，结构新颖、操作简便、性能稳定、减少面料损伤、提高面料品质、整平梳理效果好、方便实用；二、通过采用矩形齿作为第一压块、第二压块与面料的接触面形状，在实现展平功能的同时，也可利用矩形齿的结构对面料进行梳理功能，另外矩形齿结构有锯齿和无锯齿间隔设置，也可使得面料不总是受压，有一定的放松时间，相对于持续性侧压可降低对面料的损伤、提高面料的品质；三、通过采用第一压块、第二压块的材质为柔性材料，也可进一步降低在传送、挤压、摩擦过程中对面料的损伤，进而提高面料的品质。以上所述仅为本专利技术的实施例，并非因此限制本专利技术的专利范围，凡是利用本专利技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的
，均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置，其特征在于，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一压块、若干第二压块和出料辊轮，所述底座水平设置，所述顶板通过所述支撑架水平设置在所述底座的上方，所述底座与所述顶板之间的空间形成面料行走区域，所述入料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输入端，所述出料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输出端，所述若干第一压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面，所述若干第一压块与所述若干第二压块交替设置，所述若干第一压块的上表面与所述若干第二压块的下表面位于同一水平面，面料依次经由所述第一压块的上表面和第二压块的下表面进行传送。

【技术特征摘要】
1.一种用于生产面料的单侧压防磨损型双面整平梳理装置，其特征在于，包括：底座、支撑架、顶板、入料辊轮、若干第一压块、若干第二压块和出料辊轮，所述底座水平设置，所述顶板通过所述支撑架水平设置在所述底座的上方，所述底座与所述顶板之间的空间形成面料行走区域，所述入料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输入端，所述出料辊轮连接所述支撑架且设置在所述面料行走区域的输出端，所述若干第一压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述底座的上表面，所述若干第二压块设置在所述面料行走区域且固定连接所述顶板的下表面，所述若干第一压块与所述若干第二压块交替设置，所述若干第一压块的上表面与所述若干第二压块的下表面位于同一水平面，面料依次经由所述第一压块...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄超，
申请(专利权)人：宿迁市舜达服饰有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32