The invention provides a device and a method for measuring the taper angle of a film. The device comprises a film thickness measuring device, a line width measuring device and a calculating device. The film thickness measuring device includes a probe, a differential transformer connected with the probe, a magnet providing a horizontal magnetic field, a signal amplifier and an operation unit. The differential transformer is connected with the signal amplifier and the signal amplifier is connected with the operation unit, which receives the induced current signal from the signal amplifier and calculates the thickness of the film. The measuring unit is used to measure the line width from the film image, and the calculating device is used to calculate the taper angle according to the film thickness and line width. The invention uses a device to calculate the film thickness and measure the line width, and calculates the taper angle directly through the film thickness and line width, thus protecting the integrity and progress of the process flow.
【技术实现步骤摘要】
一种测量膜层锥度角的设备及方法
本专利技术涉及测量
,尤其涉及一种测量膜层锥度角的设备及方法。
技术介绍
在TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)阵列的工艺流程中,膜层图形锥度角TaperAngle是个重要的参数,因此迅速且不对TFT阵列进行损坏的情况下进行测量锥度角这个参数对于整个工艺流程的进度和完整性非常重要。在实际工艺流程,如图1所示,膜图形11在玻璃12的表面,膜图形11表面并非平整和规则,测量膜层厚度A以及线宽B都具有难度,直接测量锥度角更没有办法。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本专利技术提供一种测量膜层锥度角的设备及方法。本专利技术提供的一种测量膜层锥度角的设备,所述设备包括膜层厚度测量装置、线宽测量装置和计算装置,其中:所述膜层厚度测量装置,用于采用断差量测方式对待测膜层的厚度进行测量,获得膜层厚度值;所述线宽测量装置,用于对所述待测膜层图形采用扫描电子显微镜方式进行扫描进行扫描,并获得其线宽值;所述计算装置分别与所述膜层厚度测量装置和所述线宽测量装置连接,用于根据膜层厚度测量装置得到的膜层厚度值和线宽测量装置得到的线宽值进行计算,获得所述待测膜层外侧的锥度角。进一步地,所述膜层厚度测量装置包括探针、与探针联动的差动变压器、提供水平方向磁场的磁铁、信号放大器以及运算单元,所述差动变压器与所述信号放大器连接,所述信号放大器与运算单元连接,所述运算单元用于从信号放大器接收感应电流信号,并计算出膜层厚度值。进一步地,所述线宽测量装置包括扫描电子显微镜和测量单元,所述扫描电子显微镜用于扫描所述待测膜层得到膜层图像,所述测量 ...
【技术保护点】
1.一种测量膜层锥度角的设备,其特征在于,所述设备包括膜层厚度测量装置、线宽测量装置和计算装置,其中:所述膜层厚度测量装置,用于采用断差量测方式对待测膜层的厚度进行测量,获得膜层厚度值;所述线宽测量装置,用于对所述待测膜层图形采用扫描电子显微镜方式进行扫描,并获得其线宽值;所述计算装置分别与所述膜层厚度测量装置和所述线宽测量装置连接,用于根据膜层厚度测量装置得到的膜层厚度值和线宽测量装置得到的线宽值进行计算,获得所述待测膜层外侧的锥度角。
【技术特征摘要】
1.一种测量膜层锥度角的设备,其特征在于,所述设备包括膜层厚度测量装置、线宽测量装置和计算装置,其中:所述膜层厚度测量装置,用于采用断差量测方式对待测膜层的厚度进行测量,获得膜层厚度值;所述线宽测量装置,用于对所述待测膜层图形采用扫描电子显微镜方式进行扫描,并获得其线宽值;所述计算装置分别与所述膜层厚度测量装置和所述线宽测量装置连接,用于根据膜层厚度测量装置得到的膜层厚度值和线宽测量装置得到的线宽值进行计算,获得所述待测膜层外侧的锥度角。2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述膜层厚度测量装置包括探针、与探针联动的差动变压器、提供水平方向磁场的磁铁、信号放大器以及运算单元,所述差动变压器与所述信号放大器连接,所述信号放大器与运算单元连接,所述运算单元用于从信号放大器接收感应电流信号,并计算出膜层厚度值。3.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述线宽测量装置包括扫描电子显微镜和测量单元,所述扫描电子显微镜用于扫描所述待测膜层得到膜层图像,所述测量单元用于根据所述膜层图像量测得到线宽值。4.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述计算装置通过下述公式计算获得所述待测膜层外侧的锥度角,;其中,A为膜层厚度测量装置得到膜层厚度值,B为线宽测量装置得到的线宽值。5.一种测量膜层锥度角的方法...
【专利技术属性】
技术研发人员:赖学谦,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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