阵列基板及显示屏制造技术

本发明专利技术涉及一种阵列基板，其包括若干裸露的脚垫走线；所述脚垫走线包括第一钛层、覆盖在所述第一钛层上的铝层、以及覆盖在所述铝层上的第二钛层；在所述脚垫走线的延伸方向上，脚垫走线具有粗体部及与粗体部间隔排布的若干细颈部，细颈部的宽度小于粗体部的宽度。上述阵列基板，在脚垫走线的延伸方向上，脚垫走线具有若干间隔排布的细颈部；从而不易产生暗点等不良现象。本发明专利技术还提供了一种显示屏。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示屏
本专利技术涉及有机发光显示
，特别是涉及一种阵列基板及显示屏。
技术介绍
在有机发光显示屏中，阵列基板为了方便后续与主板进行邦定，一般在阵列基板上设有裸露的脚垫走线(Pad)。目前，现有的阵列基板中的脚垫走线均呈长条状。但是，采用这种阵列基板最终形成的显示屏，容易发生暗点等不良现象。
技术实现思路
基于此，有必要对现有技术中显示屏容易发生暗点等不良现象的问题，提供一种新的阵列基板。一种阵列基板，包括若干裸露的脚垫走线；所述脚垫走线包括第一钛层、覆盖在所述第一钛层上的铝层、以及覆盖在所述铝层上的第二钛层；在所述脚垫走线的延伸方向上，所述脚垫走线具有粗体部及与所述粗体部间隔排布的若干细颈部，所述细颈部的宽度小于所述粗体部的宽度。上述阵列基板，在脚垫走线的延伸方向上，脚垫走线具有若干间隔排布的细颈部；从而不易产生暗点等不良现象。可选的，所述脚垫走线的两侧边缘线为波浪线，两侧波浪线的波谷相靠近，所述细颈部形成在波谷处，所述粗体部形成在波峰处，或者，锯齿线，所述细颈部形成在锯齿线的齿根处，所述粗体部形成在锯齿线的齿牙处。可选的，所述脚垫走线的两侧边缘线对称设置。可选的，所述脚垫走线的一侧边缘具有若干向外凸出的第一凸起；所述脚垫走线的另一侧边缘具有若干向外凸出的第二凸起；在所述脚垫走线的延伸方向上，所述第一凸起与所述第二凸起依次交替排布，所述粗体部包括第一凸起和/或第二凸起，所述细颈部形成于所述第一凸起与第二凸起连接处。在其中一个实施例中，所述第一凸起与所述第二凸起均呈梯形或三角形。在其中一个实施例中，所述脚垫走线在所述细颈部处的宽度为5μm～10μm。在其中一个实施例中，在所述脚垫走线中，最宽处的宽度与最窄处的宽度的比值为2：1～5：1。在其中一个实施例中，在所述脚垫走线的延伸方向上，所述细颈部均匀分布。在其中一个实施例中，相邻两个所述细颈部的间距不大于10μm。本专利技术还提供了一种显示屏。一种显示屏，所述显示屏包括本专利技术所提供的阵列基板。上述显示屏，由于采用本专利技术所提供的阵列基板，故而不易产生暗点等不良现象。附图说明图1为本专利技术实施例一的阵列基板脚垫走线处的局部俯视示意图。图2为图1中AA处的截面示意图。图3为本专利技术实施例二的脚垫走线的局部俯视示意图。图4为本专利技术实施例三的脚垫走线的局部俯视示意图。图5为本专利技术实施例四的脚垫走线的局部俯视示意图。图6为本专利技术实施例五的脚垫走线的局部俯视示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本专利技术的专利技术人通过研究发现，造成显示屏容易发生暗点等不良现象的原因是：在阳极湿法刻蚀过程中，脚垫走线中的铝层与阳极蚀刻液反生反应，也就是说，在阳极湿法刻蚀过程中，脚垫走线的铝层被刻蚀掉，从而造成其上的第二钛层坍塌，进而断裂，断裂的钛条与底层之间没有结合力；在阳极湿法刻蚀之后的高压水洗过程中，断裂的钛条会被高压水冲向显示区(AA区)，若该钛条的两端与两个相邻子像素的阳极搭接在一起，则会造成两个子像素的阳极短路，故而造成最终形成的显示屏暗点等不良。参见图1以及图2，本专利技术实施例一的阵列基板，包括若干脚垫走线100。其中，脚垫走线100的主要作用是，与阵列基板中显示区(AA区)的像素驱动开关电路(未示出)电连接，在阵列基板与主板邦定之后，脚垫走线实现主板对像素驱动开关电路的信号输出或信号输入。当然，可以理解的是，阵列基板除了脚垫走线之外，还包括其它部件，例如衬底、阻挡层、缓冲层、Si层、栅极层、层间绝缘层(ILD层)、电介质层(CI层)、栅绝缘层(GI层)等。上述这些部件，本领域技术人员可以根据实际情况来选择设置或不设置、以及选择部件合适的结构与材料，在此不再赘述。在本专利技术中，脚垫走线100呈裸露状态，也就是说，脚垫走线100上方并没有覆盖其它膜层，而是脚垫走线100直接裸露在外。这样方便后续与主板进行邦定。重点参见图2，脚垫走线100包括第一钛层111、覆盖在第一钛层111上的铝层112、以及覆盖在铝层112上的第二钛层113；也就是说，阵列基板从衬底的一侧来看，脚垫走线100依次包括第一钛层111、铝层112、以及第二钛层113。也就是说，脚垫走线100的膜层结构为Ti/Al/Ti。在阳极湿法蚀刻过程中，第一钛层111和第二钛层113与阳极蚀刻液不反应，而铝层112与阳极蚀刻液发生反应；也就是说，在整个阳极湿法蚀刻过程中，第一钛层111和第二钛层113保持惰性，不会被刻蚀；而铝层112由于与阳极蚀刻液发生反应，故而铝层被蚀刻掉。优选地，第一钛层111的厚度为50nm～100nm；铝层112的厚度为400nm～600nm；第二钛层113的厚度为50nm～100nm。这样可以进一步避免形成长度较长的钛条，进一步降低产生暗点的几率。参见图1，在脚垫走线100的延伸方向上，脚垫走线100具有粗体部110及与粗体部110间隔排布的若干细颈部109，细颈部109的宽度小于粗体部110的宽度。由于细颈部109处的宽度相对于脚垫走线100的粗体部110的宽度小，故而铝层由于与阳极蚀刻液反生反应而被蚀刻掉后，铝层上的第二钛层塌陷断裂，断裂极易发生在细颈部109处，增大第二钛层的断裂几率，从而使第二钛层断裂呈较小的钛条；在阳极湿法刻蚀之后的高压水洗过程中，即使断裂的钛条会被高压水冲向显示区(AA区)，但是由于钛条较短，钛条的两端无法同时与两个相邻子像素的阳极搭接在一起，故而避免了造成两个子像素的阳极短路，进而降低了形成的显示屏暗点的不良现象。优选地，相邻两个细颈部109的距离不大于10μm。这样进一步控制钛条断裂的长度，从而可以进一步降低形成的显示屏暗点的不良现象。优选地，脚垫走线100在细颈部109处的宽度为5μm～10μm。这样可以降低在细颈部109处的断裂条件门槛，使细颈部109更易断裂，进一步提高第二钛层的断裂几率，从而可以进一步降低形成的显示屏暗点的不良现象。优选地，在脚垫走线中，最宽处的宽度与最窄处的宽度的比值为2：1～5：1。这样可以增大脚垫走线100在细颈部109处的断裂占比，进一步提高较短钛条的占比，从而可以进一步降低形成的显示屏暗点的不良现象。在本实施例中，脚垫走线100的两侧边缘线为锯齿线。更优选地，脚垫走线100的两侧边缘线对称设置。也即两侧锯齿线对称设置。两侧锯齿线的齿根处形成细颈部109，齿牙处形成粗体部110，这样细颈部的宽度更小，以及结构的应力分布特点，更易造成第二钛层在细颈部109断裂，从而可以进一步降低形成的显示屏暗点的不良现象。参见图3，图3为本专利技术实施例二的脚垫走线的局部俯视示意图。本实施例与实施例一不同的是：本实施例的脚垫走线的两侧边缘线为波浪线，两侧波浪线的波谷相靠近，也即在波谷处形成细颈部109。波峰处形成粗体部110。参见图4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括若干裸露的脚垫走线；所述脚垫走线包括第一钛层、覆盖在所述第一钛层上的铝层、以及覆盖在所述铝层上的第二钛层；在所述脚垫走线的延伸方向上，所述脚垫走线具有粗体部及与所述粗体部间隔排布的若干细颈部，所述细颈部的宽度小于所述粗体部的宽度。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括若干裸露的脚垫走线；所述脚垫走线包括第一钛层、覆盖在所述第一钛层上的铝层、以及覆盖在所述铝层上的第二钛层；在所述脚垫走线的延伸方向上，所述脚垫走线具有粗体部及与所述粗体部间隔排布的若干细颈部，所述细颈部的宽度小于所述粗体部的宽度。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述脚垫走线的两侧边缘线为波浪线，两侧波浪线的波谷相靠近，所述细颈部形成在波谷处，所述粗体部形成在波峰处，或者，锯齿线，所述细颈部形成在锯齿线的齿根处，所述粗体部形成在锯齿线的齿牙处。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述脚垫走线的两侧边缘线对称设置。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述脚垫走线的一侧边缘具有若干向外凸出的第一凸起；所述脚垫走线的另一侧边缘具有若干向外凸出的第二凸...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘权，彭漩，张露，韩珍珍，胡思明，文国哲，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32