一种OLED产品的制作方法和OLED产品技术

本发明专利技术公开了一种OLED产品的制作方法和OLED产品。该制作方法包括：步骤1：提供一ITO基板；步骤2：对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作阳极图案，形成ITO阳极层；步骤3：在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层；步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第一触摸图案，形成第一ITO触摸层；步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层；步骤6：依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。该制作方法不会在ITO阳极层上残留保护材料，也能够防止ITO阳极被压伤等问题，还有利于工艺的自动化和高世代产线的量产。

A method for making OLED products and OLED products

The invention discloses a method for making OLED products and a OLED product. The fabrication method includes: step 1: providing an ITO substrate; step 2: etching the first ITO layer on the ITO substrate, fabricating an anode pattern, and forming an ITO anode layer; step 3: fabricating a Mo alloy layer on the ITO anode layer, and fabricating a second ITO layer on the other side of the ITO substrate; step 4: using an ITO etching fluid to fabricate a second ITO layer. The second ITO layer is etched, the first touch pattern is made, and the first ITO touch layer is formed. Step 5: The Mo alloy layer is removed by Mo etching solution; Step 6: OLED functional layer and metal cathode layer are successively made on the ITO anode layer. This fabrication method will not residue protective materials on the ITO anode layer, but also prevent the ITO anode from being crushed and other problems, and is conducive to the automation of the process and the production of high-generation lines.

【技术实现步骤摘要】
一种OLED产品的制作方法和OLED产品
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种OLED产品的制作方法和OLED产品。
技术介绍
ONCELL技术是OLED产品集成触摸功能的最佳解决方案之一，该技术将ITO触摸层设置在OLED产品的出光面表面上，在刻蚀ITO触摸层的触摸图案时需要先将基板背面上的ITO阳极层保护起来，常用的保护方法是在ITO阳极层上丝印或者粘贴一层保护膜。这类保护方法虽然设备和制程都相对简单，但容易产生残胶、ITO阳极层被压伤等问题，且在蚀刻完ITO触摸层之后需要手动撕掉保护膜，因而不利于工艺的自动化和高世代产线的量产。
技术实现思路
为了解决上述现有技术的不足，本专利技术提供一种OLED产品的制作方法和OLED产品。该制作方法不会在ITO阳极层上残留保护材料，也能够防止ITO阳极被侵蚀和被划伤、压伤等问题，还有利于工艺的自动化和高世代产线的量产。本专利技术所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：一种OLED产品的制作方法，包括：步骤1：提供一ITO基板；步骤2：对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作阳极图案，形成ITO阳极层；步骤3：在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层；步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第一触摸图案，形成第一ITO触摸层；步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层；步骤6：依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。进一步地，步骤4中还包括：在所述第一ITO触摸层上依次制作绝缘层和第三ITO层，采用ITO刻蚀液对所述第三ITO层进行刻蚀，制作第二触摸图案，形成第二ITO触摸层。进一步地，所述第三ITO层的厚度小于500Å。进一步地，在步骤2中，也采用ITO刻蚀液对所述第一ITO层进行刻蚀。进一步地，Mo的质量百分比为80%-95%。进一步地，所述Mo合金层的厚度为400-3000Å。进一步地，所述第一ITO层的厚度为800~2200Å，和/或，所述第二ITO层的厚度小于500Å。进一步地，步骤5中，所述Mo刻蚀液为包括HNO3、CH3COOH和H3PO4的混合液。进一步地，所述ITO刻蚀夜为包括HNO3、HCL和H2O的混合液，其中，HCL的质量浓度为36～38%，HNO3的质量浓度为65～68%；所述ITO蚀刻液的温度为25~50℃。一种OLED产品，采用上述的OLED产品的制作方法获得。本专利技术具有如下有益效果：该OLED产品的制作方法在对所述第二ITO层进行刻蚀之前，先在已经完成刻蚀的所述ITO阳极层上制作一层Mo合金层，以包裹覆盖所述ITO阳极层，利用所述Mo合金层具有表面平整、高熔点、高硬度、高致密性，以及在所述ITO刻蚀液里具有短暂的惰性等特点，在所述第一ITO触摸层的刻蚀过程中，保护所述ITO阳极层，以使所述ITO阳极层能够避免所述ITO刻蚀液的侵蚀和外力的划伤、压伤。附图说明图1为本专利技术提供的OLED产品的制作方法的步骤框图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术进行详细的说明。实施例一如图1所示，一种OLED产品的制作方法，包括：步骤1：提供一ITO基板；该步骤1中，所述ITO基板包括但不限于一透明基板和制作在所述透明基板的一面上制作SiO2层，所述SiO2层上制作第一ITO层。其中，所述透明基板在制作SiO2层之前需对其表面进行抛光处理，所述SiO2层的厚度为200~300Å；所述第一ITO层的制作方法为磁控溅射，沉积温度在200-280℃之间，厚度为800~2200Å，所述第一ITO层在制作完成后，还需对其表面进行软抛光处理，控制其表面粗糙度Ra＜10Å。步骤2：对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作阳极图案，形成ITO阳极层；该步骤2中，优选但不限于在黄光湿制程中采用ITO蚀刻液对所述第一ITO层进行刻蚀。步骤3：在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层；该步骤3中，可以先在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，再在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层，或者，也可以先在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层，再在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，顺序要求不作限制；所述Mo合金层的厚度为400-3000Å，Mo的质量百分比为80%-95%。其中，所述Mo合金层的制作方式为磁控溅射，由于所述Mo合金层具有表面平整、高熔点、高硬度、高致密性，其包裹覆盖所述ITO阳极层之后，能够对所述ITO阳极层起到保护作用，其硬度能够使所述ITO阳极层上的阳极图案免受外力作用而划伤、压伤。步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第一触摸图案，形成第一ITO触摸层；该步骤4中，所述第二ITO层的厚度小于500Å，在黄光湿制程中采用ITO刻液进行刻蚀，优选地，采用下喷淋方式、完全不用上喷淋方式进行刻蚀，即所述ITO蚀刻液直接喷淋到所述第二ITO层的表面进行反应和刻蚀。所述ITO刻蚀液为包括HNO3、HCL和H2O的混合液，其中，HCL的质量浓度为36～38%（AR级），HNO3的质量浓度为65～68%（AR级）；所述ITO刻蚀液的温度为25~50℃。由于所述Mo合金层在所述ITO刻蚀液中具有短暂的惰性，所述Mo合金层能够利用这短暂的惰性来避免自身的致密膜结构在所述第一ITO触摸层的刻蚀过程中被所述ITO刻蚀液所破坏，从而避免所述ITO阳极层在所述第一ITO触摸层的刻蚀过程中受到所述ITO刻蚀液的侵蚀。若该OLED产品采用单层触摸结构，则所述第一ITO触摸层构成全触电极或按键触控电极；若该OLED产品采用双层触摸结构，则在步骤4中，还需要在所述第一ITO触摸层上依次制作绝缘层和第三ITO层，并在黄光湿制程中采用ITO刻蚀液对所述第三ITO层进行刻蚀，制作第二触摸图案，形成第二ITO触摸层，所述第一ITO触摸层和第二ITO触摸层共同构成全触电极。所述绝缘层可以通过黄光湿制程制作形成绝缘图案。刻蚀完所有触摸电极之后需要制作硬质保护层，所述硬质保护层的制作方法包括但不限于丝印、移印、刮涂或旋涂等，固化后硬度达到7-9H。在单层触摸结构的OLED产品中，所述硬质保护层制作在所述第一ITO触摸层上，在双层触摸结构的OLED产品中，所述硬质保护层制作在所述第二ITO触摸层上。步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层；该步骤5中，所述Mo刻蚀液为包括HNO3、CH3COOH和H3PO4的混合液，由于所述Mo刻蚀液不会侵蚀ITO材料，因此步骤5对刻蚀时间、刻蚀温度等均无特殊要求，只需将所述Mo合金层完全去除，不留下任何残留即可。步骤6：依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。该OLED产品的制作方法在对所述第二ITO层进行刻蚀之前，先在已经完成刻蚀的所述ITO阳极层上制作一层Mo合金层，以包裹覆盖所述ITO阳极层，利用所述Mo合金层具有表面平整、高熔点、高硬度、高致密性，以及在所述ITO刻蚀液里具有短暂的惰性等特点，在所述第一ITO触摸层的刻蚀过程中，保护所述ITO阳极层，以使所述ITO阳极层能够避免所述ITO刻蚀液的侵蚀和外力的划伤、压伤。实施例二一种OLED产品，采用实施例一中所述的OLED产品的制作方法获得。以上所述实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED产品的制作方法，其特征在于，包括：步骤1：提供一ITO基板；步骤2：对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作阳极图案，形成ITO阳极层；步骤3：在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层；步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第一触摸图案，形成第一ITO触摸层；步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层；步骤6：依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。

【技术特征摘要】
1.一种OLED产品的制作方法，其特征在于，包括：步骤1：提供一ITO基板；步骤2：对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作阳极图案，形成ITO阳极层；步骤3：在所述ITO阳极层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层；步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第一触摸图案，形成第一ITO触摸层；步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层；步骤6：依次在所述ITO阳极层上制作OLED功能层和金属阴极层。2.根据权利要求1所述的OLED产品的制作方法，其特征在于，步骤4中还包括：在所述第一ITO触摸层上依次制作绝缘层和第三ITO层，采用ITO刻蚀液对所述第三ITO层进行刻蚀，制作第二触摸图案，形成第二ITO触摸层。3.根据权利要求2所述的OLED产品的制作方法，其特征在于，所述第三ITO层的厚度小于500Å。4.根据权利要求1-3中任一所述的OLED产品的制作方法，其特征在于，在步骤2中，也采用ITO刻蚀液对所述第一ITO层进...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗志猛，赵云，何会楼，
申请(专利权)人：信利半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44