The invention relates to a transfer printing method, a transfer device and a mold. The transfer device (41) of the embodiment is controlled to push the mold (7) to the substrate (3) in a state in which the substrate (3) is set at the substrate setting section (45), the mold (7) is set at the mold setting section (47), and the shading unit (13) is set at the shading unit setting section (51), and the mold (7) is pushed to the substrate (3) by the mold pushing section (49), and the shading unit (13) is made relative to the mold by the first positioning section (53). A positioning device (7) irradiates electromagnetic waves of predetermined wavelengths from the irradiation part (55) to an uncured material (11) arranged on the surface of the substrate (3).
【技术实现步骤摘要】
转印方法、转印装置以及模具
本申请涉及转印方法、转印装置以及模具,特别涉及使用遮蔽单元来进行转印的方案。
技术介绍
作为以往例的转印装置,已知如下转印装置:在该转印装置中,将紫外线固化树脂设置于基板的表面,将形成有预定的转印图案的长的片状的模具卷绕于辊而使辊移动,将模具推压到基板,通过紫外线的照射使紫外线固化树脂固化,从而将模具的转印图案转印到紫外线固化树脂(参照JP2014-040070A)。
技术实现思路
在以往例的转印装置中,在将紫外线固化树脂推压到模具而转印的情况下,未固化的树脂在模具的周边溢出。特别在使辊移动而转印的情况下,在转印结束时未固化的树脂被挤出到模具外而溢出。当在该状态下照射紫外线时,溢出的树脂固化。该溢出而固化的树脂在去除时花费工夫。本申请的目的在于提供一种转印方法、转印装置以及模具,能够对转印图案以外的部位的紫外线固化树脂进行遮蔽而使得不被照射紫外线,将转印图案以外的部位的紫外线固化树脂保持为未固化的状态,在转印图案的转印后在未固化的状态下容易地去除不需要的转印图案以外的部位的紫外线固化树脂。实施方式的转印方法具有:基板设置工序,将基板设置于基板设置部,在该基板的表面设置有通过照射预定的波长的电磁波而固化的材料;模具推压工序,将形成有预定的转印图案的模具推压到设置于基板设置部的基板;遮蔽单元定位工序,将遮蔽单元相对于模具进行定位,该遮蔽单元形成有透射预定的波长的电磁波的预定形状的电磁波透射部;以及照射工序,在将遮蔽单元相对于模具进行了定位的状态下经由遮蔽单元的电磁波透射部对设置于基板的材料照射预定的波长的电磁波。根据本申请,能够提供能够 ...
【技术保护点】
1.一种转印方法,其特征在于,具有:基板设置工序,将基板设置于基板设置部,在该基板的表面设置有通过被照射预定的波长的电磁波而固化的材料;模具推压工序,将形成有预定的转印图案的模具推压到设置于所述基板设置部的所述基板;遮蔽单元定位工序,将遮蔽单元相对于所述模具进行定位,该遮蔽单元形成有透射所述预定的波长的电磁波的预定形状的电磁波透射部;以及照射工序,在将所述遮蔽单元相对于所述模具进行了定位的状态下,经由所述遮蔽单元的所述电磁波透射部对设置于所述基板的所述材料照射所述预定的波长的电磁波。
【技术特征摘要】
2017.02.28 JP 2017-036967;2017.02.28 JP 2017-037011.一种转印方法,其特征在于,具有:基板设置工序,将基板设置于基板设置部,在该基板的表面设置有通过被照射预定的波长的电磁波而固化的材料;模具推压工序,将形成有预定的转印图案的模具推压到设置于所述基板设置部的所述基板;遮蔽单元定位工序,将遮蔽单元相对于所述模具进行定位,该遮蔽单元形成有透射所述预定的波长的电磁波的预定形状的电磁波透射部;以及照射工序,在将所述遮蔽单元相对于所述模具进行了定位的状态下,经由所述遮蔽单元的所述电磁波透射部对设置于所述基板的所述材料照射所述预定的波长的电磁波。2.根据权利要求1所述的转印方法,其特征在于,在所述遮蔽单元定位工序中进行了所述遮蔽单元的定位的状态下,所述遮蔽单元的所述电磁波透射部位于所述模具的形成有所述转印图案的区域的内侧。3.根据权利要求1所述的转印方法,其特征在于,所述转印方法具有基板及模具定位工序,在该基板及模具定位工序中,在所述模具推压工序中将所述模具推压到所述基板之前,进行所述基板相对于所述模具的定位。4.根据权利要求1所述的转印方法,其特征在于,所述遮蔽单元的所述电磁波透射部的形状与所述模具的所述转印图案的形状一致,所述遮蔽单元定位工序是使所述遮蔽单元的所述电磁波透射部的位置与所述模具的所述转印图案的位置相互一致的工序。5.根据权利要求1所述的转印方法,其特征在于,通过一边改变所述基板相对于所述模具的位置一边将所述模具推压工序、所述遮蔽单元定位工序以及所述照射工序反复多次,从而将所述转印图案转印到设置于所述基板的所述材料。6.一种转印装置,其特征在于,具备:基板设置部,设置有基板,该基板的厚度方向为上下方向,在该基板的表面设置有能够通过将预定的波长的电磁波照射到上表面而固化的未固化的材料;模具设置部,形成有预定的转印图案的模具设置于所述模具设置部;模具推压部,将设置于所述模具设置部的所述模具以使厚度方向成为上下方向并且使所述预定的转印图案位于下表面的方式推压到设置于所述基板设置部的所述基板;遮蔽单元设置部,遮蔽单元设置于所述遮蔽单元设置部,该遮蔽单元形成有透射所述预定的波长的电磁波的预定的形状的电磁波透射部;第1定位部,进行设置于所述遮蔽单元设置部的所述遮蔽单元相对于设置于所述基板设置部的所述基板和设置于所述模具设置部的所述模具的定位;照射部,经由设置于所述遮蔽单元的所述遮蔽单元的电磁波透射部、以及由所述模...
【专利技术属性】
技术研发人员:小久保光典,杉浦裕喜,藤原茂,桥本有纪,
申请(专利权)人:东芝机械株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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