柔性显示屏及其制作方法技术

本发明专利技术实施例提供的一种柔性显示屏及其制作方法，所述柔性显示屏包括：衬底；设置在衬底上方的无机层；设置在无机层表面的刻蚀停止层；以及设置在衬底上方并向衬底延伸的凹陷结构。其中，凹陷结构的穿透刻蚀停止层且凹陷结构的底面停留在无机层的表面。本发明专利技术实施例通过设置刻蚀停止层解决了现有技术中对于无机层刻蚀会暴露衬底而导致污染的问题。

【技术实现步骤摘要】
柔性显示屏及其制作方法
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种柔性显示屏及其制作方法。
技术介绍
目前，柔性显示屏的fan-out(扇出)部位，弯曲半径在1mm以下范围弯折时金属走线容易断裂；为防止金属走线的断裂，在制作金属走线前，一般将无机层刻蚀，但是如果刻蚀不完全，则该区域的应力释放不充分；不能最大限度的减少该区域的应力集中；如果将无机层完全刻蚀，衬底会暴露于刻蚀腔中从而导致腔体污染。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种柔性显示屏及其制作方法，解决了现有技术中对于无机层刻蚀会暴露衬底而导致污染的问题。本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏包括：衬底；设置在所述衬底上方的无机层；设置在所述无机层表面的刻蚀停止层；以及设置在所述衬底上方并向所述衬底延伸的凹陷结构；其中，所述凹陷结构的穿透所述刻蚀停止层且所述凹陷结构的底面停留在所述无机层的表面。其中，所述柔性显示屏包括：包括设置在所述衬底上方的多个所述无机层，其中的至少一个所述无机层的表面分别设置有所述刻蚀停止层。其中，多个所述无机层和多个所述刻蚀停止层交错叠加设置。其中，所述无机层的材质为SiOx或SiNy，其中x代表O元素在一个化学式的分子结构中的原子个数，y代表N元素在一个化学式的分子结构中的原子个数。其中，所述刻蚀停止层的材质为绝缘体上硅。其中，所述柔性显示屏包括设置在所述衬底上方的多个所述无机层，所述多个所述无机层包括靠近所述衬底的第一无机层和远离所述衬底的第二无机层，所述第一无机层表面和所述第二无机层表面均设置有所述刻蚀停止层，所述第一无机层的材质为氮化硅，所述第二无机层的材质为二氧化硅，所述凹陷结构的底面停留在所述第一无机层的表面，或所述凹陷结构的底面停留在所述第二无机层的表面。其中，所述柔性显示屏包括设置在所述衬底上方的多个所述无机层，所述多个所述无机层包括靠近所述衬底的第一无机层和叠加在所述第一无机层上的第二无机层，所述第二无机层表面设置有所述刻蚀停止层，所述第一无机层的材质为氮化硅，所述第二无机层的材质为二氧化硅，所述至少一个凹陷结构的底面停留在所述第二无机层的表面。其中，所述凹陷结构位于所述柔性显示屏的预设弯折区。其中，所述柔性显示屏进一步包括：进一步包括:位于所述刻蚀停止层上方的栅极；覆盖所述栅极表面或设置在所述栅极下方的沟道层；与所述沟道层形成欧姆连接的源极和漏极；与所述源极和所述漏极位于同一层，且叠加在所述凹陷结构中的金属走线层；以及覆盖所述金属走线层、所述源极和所述漏极的平坦化层。本专利技术实施例还提供了一种柔性显示屏的制作方法，包括：提供或制备衬底；在所述无机层表面制备刻蚀停止层；以及在所述刻蚀停止层的表面制备凹陷结构，其中，所述凹陷结构穿透所述刻蚀停止层且所述凹陷结构的底面停留在所述无机层的表面。其中，所述在所述刻蚀停止层的表面制备凹陷结构包括：在刻蚀的同时检测表面材料的成分；以及当检测出的所述表面材料的成分与所述无机层的成分相同时停止刻蚀。本专利技术实施例提供的一种柔性显示屏及其制作方法，通过设置刻蚀停止层，在制作过程中可以进行定量刻蚀，刻蚀深度取决于刻蚀停止层的膜厚。这样所形成的凹陷结构通过穿透刻蚀停止层来达到所需要的深度，同样可起到释放弯曲应力的作用。同时，通过在无机层表面设置刻蚀停止层可避免刻蚀停止层下方的无机层被完全刻蚀，以避免了无机层下方的衬底被暴露在刻蚀腔中而带来腔体污染。由此可见，本专利技术实施例所提供的柔性显示屏及其制作方法，既可以保证有效释放柔性显示屏的弯曲应力，又减低了工艺难度，且提高了产品的可靠性。附图说明图1所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的结构示意图。图2所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的结构示意图。图3所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的结构示意图。图4所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的结构示意图。图5所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的制作流程图。图6所示为本专利技术一实施例提供的在刻蚀停止层的表面制备凹陷结构的流程图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图1所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的结构示意图。如图1所示，该柔性显示屏包括衬底1、设置在衬底1上方的无机层2、设置在无机层2表面的刻蚀停止层3以及设置在衬底1上方并向衬底1延伸的凹陷结构4。其中，凹陷结构4穿透刻蚀停止层3且凹陷结构4的底面停留在无机层2的表面。衬底1可为柔性衬底如PI(聚酰亚胺)衬底，也可为玻璃衬底，或者是两者的叠加。衬底1在该柔性显示屏中主要起支撑作用，以及方便其他膜层的制备。通过无机层2可以防止水汽侵入柔性显示屏。本专利技术实施例提供的柔性显示屏设置刻蚀停止层3，通过设置刻蚀停止层3，在制作过程中可以进行定量刻蚀，刻蚀深度取决于刻蚀停止层3的膜厚。这样所形成的凹陷结构4通过穿透刻蚀停止层3来达到所需要的深度，同样可起到释放弯曲应力的作用。同时，通过在无机层2表面设置刻蚀停止层3可避免刻蚀停止层3下方的无机层2被完全刻蚀，以避免了无机层2下方的衬底1被暴露在刻蚀腔中而带来腔体污染。由此可见，本专利技术实施例所提供的柔性显示屏及其制作方法，既可以保证有效释放柔性显示屏的弯曲应力，又减低了工艺难度，且提高了产品的可靠性。图2所示为本专利技术一实施例提供的一种柔性显示屏的结构示意图。参考图2，在一个实施例中，该柔性显示屏可包括设置在衬底1上方的第一无机层21和第二无机层22，刻蚀停止层3可以设置在第一无机层21的表面，也可以设置在第二无机层22的表面，也可以既设置在第一无机层21的表面，同时也设置在第二无机层22的表面。本专利技术对刻蚀停止层3设置的位置不作具体限定。本专利技术实施例仅以柔性显示屏包括两层无机层2(第一无机层21和第二无机层22)为例阐述说明，然而应当理解，本专利技术实施例提出的柔性显示屏还可以包括多个无机层2，其中的至少一个无机层2的表面设置有刻蚀停止层3，也可以是每个无机层2的表面均设置刻蚀停止层3，本专利技术实施例对无机层2的层数不作具体限定，本专利技术实施例对多个无机层2的哪一层或哪几层的表面设置刻蚀停止层3也不作具体限定。在一个实施例中，多个无机层2和多个刻蚀停止层3可交错叠加设置，这样可以提供更多的刻蚀深度选择，方便在制作凹陷结构4时，根据实际应用场合，选择不同的刻蚀深度。在一个实施例中，无机层2的材质为SiOx或SiNy，其中x代表O元素在一个化学式的分子结构中的原子个数，y代表N元素在一个化学式的分子结构中的原子个数。以上述硅化物制作无机层2可以兼具防护和钝化性能，例如硅氧化物可为二氧化硅，硅氮化物可为氮化硅。然而应当理解，本专利技术实施对无机层2的材质不作具体限定。在一个实施例中，该刻蚀停止层3的材质可为绝缘体上硅(SOI)，利用SOI作为刻蚀停止层3，可以兼具无机物(如SiO2)的特性和有机物的延展性,既可以对其进行完全刻蚀，同时又可以将柔性显示屏发生弯折时产生的应力完全释放。在一个实施例中，多个无机层2包括靠近衬底1的第一无机层21和远离衬底1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性显示屏，其特征在于，包括：衬底；设置在所述衬底上方的无机层；设置在所述无机层表面的刻蚀停止层；以及设置在所述衬底上方并向所述衬底延伸的凹陷结构；其中，所述凹陷结构穿透所述刻蚀停止层且所述凹陷结构的底面停留在所述无机层的表面。

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示屏，其特征在于，包括：衬底；设置在所述衬底上方的无机层；设置在所述无机层表面的刻蚀停止层；以及设置在所述衬底上方并向所述衬底延伸的凹陷结构；其中，所述凹陷结构穿透所述刻蚀停止层且所述凹陷结构的底面停留在所述无机层的表面。2.根据权利要求1所述的柔性显示屏，其特征在于，包括设置在所述衬底上方的多个所述无机层，其中的所述无机层的表面分别设置有所述刻蚀停止层。3.根据权利要求2所述的柔性显示屏，其特征在于，多个所述无机层和多个所述刻蚀停止层交错叠加设置。4.根据权利要求1-3任一所述的柔性显示屏，其特征在于，所述无机层的材质为SiOx或SiNy，其中x代表O元素在一个化学式的分子结构中的原子个数，y代表N元素在一个化学式的分子结构中的原子个数。5.根据权利要求4所述的柔性显示屏，其特征在于，所述刻蚀停止层的材质为绝缘体上硅。6.根据权利要求1所述的柔性显示屏，其特征在于，包括设置在所述衬底上方的多个所述无机层，所述多个所述无机层包括靠近所述衬底的第一无机层和远离所述衬底的第二无机层，所述第一无机层表面和所述第二无机层表面均设置有所述刻蚀停止层，所述第一无机层的...

【专利技术属性】
技术研发人员：习王锋，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32