超疏水透明薄膜及制备方法、柔性有机电致发光显示基板技术

本发明专利技术提供一种超疏水透明薄膜及制备方法、柔性有机电致发光显示基板，属于疏水材料技术领域，其可解决现有技术中无法在温和条件下制备低成本的透明疏水薄膜的问题。本发明专利技术的超疏水透明薄膜先在透明薄膜层上形成具有粗糙表面的胶黏剂，然后将纳米柱粘至胶黏剂粗糙表面的凸起部上，得到疏水性能良好的超疏水透明薄膜。该方法制备的超疏水透明薄膜接触角>170°，滚动角<4°，具有自清洁功能；其光透过率高，可以达到85?93％；本发明专利技术的制备方法简单，成本低。本发明专利技术的超疏水透明薄膜适用于各种领域，尤其适用于柔性显示装置。

【技术实现步骤摘要】
超疏水透明薄膜及制备方法、柔性有机电致发光显示基板
本专利技术属于疏水材料的制备和应用的
，具体涉及一种超疏水透明薄膜及制备方法、柔性有机电致发光显示基板。
技术介绍
以玻璃为基材的各种设备与人们的生活密不可分，例如显示屏、汽车挡风玻璃等。然而以玻璃为基材的设备表面易粘附灰尘颗粒，不仅影响外观，也影响使用。为此在可玻璃基材表面贴覆以防止这些问题出现的保护膜应运而生。专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题:超疏水材料因具有自清洁，防水，防雾等优异性能，其应用领域广泛，可用于保护膜，但同时具有优异疏水性能与光学透明性能的柔性疏水材料薄膜却少有报道。现有技术中无法在温和条件下制备低成本的透明疏水薄膜。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中无法在温和条件下制备低成本的透明疏水薄膜的问题，提供一种超疏水透明薄膜及制备方法、柔性有机电致发光显示基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是:—种超疏水透明薄膜的制备方法，包括以下步骤:在透明薄膜层上形成胶黏剂，所述胶黏剂表面具有多个间隔设置的凸起部；提供表面形成有纳米柱的基板；将所述基板表面的部分纳米柱与所述胶黏剂的凸起部粘附；除去所述基板；除去未与所述凸起部粘附的纳米柱，以使与凸起部粘附的纳米柱形成纳米束。优选的是，所述在透明薄膜层上形成胶黏剂为通过模板法在透明薄膜层上形成胶黏剂。优选的是，所述通过模板法在透明薄膜层上形成胶黏剂包括以下步骤:在表面具有多个间隔设置的凸起部的第一模板上涂覆可固化的胶黏剂；将上述第一模板的涂覆有可固化胶黏剂的面与透明薄膜层粘附；将所述胶黏剂固化后脱除第一模板，透明薄膜层上形成具有多个间隔设置的凸起部的胶黏剂。优选的是，所述第一模板由聚二甲基硅氧烷构成。优选的是，所述第一模板包括多个阵列排布凸起部，在行方向和列方向上所述凸起部的尺寸为40-160um，且相邻的凸起部的间距与凸起部的尺寸比值为0.25。优选的是，所述第一模板通过以下方法制备:在第二模板表面上形成具有多个间隔设置的凸起部的光刻胶；在所述光刻胶具有多个间隔设置的凸起部的表面上涂覆可聚合单体，并使可聚合单体聚合后从光刻胶剥离，得到第一模板。优选的是，所述第二模板由硬质材料构成。优选的是，所述在第二模板表面上形成具有多个间隔设置的凸起部的光刻胶通过光刻工艺形成。优选的是，所述在基板表面形成的纳米柱阵列排布在所述基板表面。优选的是，所述在金属层表面形成的纳米柱通过电化学氧化法形成。优选的是，在行方向和列方向上所述纳米柱的尺寸为0.05-0.2um，所述纳米柱的高度为0.1-0.25um，相邻的纳米柱间距为0.05-0.2um。优选的是，所述除去基板是采用第一刻蚀液将基板除去。优选的是，所述除去未与凸起部粘附的纳米柱包括:喷淋第二刻蚀液后清洗，以使未与胶黏剂粘附的纳米柱除去。优选的是，所述基板由铝构成，所述纳米柱为氧化铝纳米柱，所述第一刻蚀液为氯化铜与氯化氢的混合溶液，所述第二刻蚀液为磷酸溶液。本专利技术还提供一种超疏水透明薄膜，其包括透明薄膜层，所述透明薄膜层上设有胶黏剂，所述胶黏剂表面具有多个间隔设置的凸起部，所述凸起部远离薄膜的一侧设有由多个纳米柱形成的纳米束。优选的是，所述透明薄膜层的厚度为10nm-500nm。优选的是，所述透明薄膜层由聚碳酸酯(PC)，聚乙烯(PE)，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)中的任意一种构成。本专利技术还提供一种柔性有机电致发光显示基板，包括上述的超疏水透明薄膜。本专利技术的超疏水透明薄膜先在透明薄膜层上形成具有粗糙表面的胶黏剂，然后将纳米柱粘至胶黏剂粗糙表面的凸起部上，得到疏水性能良好的超疏水透明薄膜。该方法制备的超疏水透明薄膜接触角>170°，滚动角〈4°，具有自清洁功能;其光透过率高，可以达到85-93%;本专利技术的制备方法简单，成本低。本专利技术的超疏水透明薄膜适用于各种领域，尤其适用于柔性显示装置。【附图说明】图1为本专利技术的实施例1的超疏水透明薄膜的制备示意图；图2-8为本专利技术的实施例2的超疏水透明薄膜的制备示意图；图9为本专利技术的实施例3的超疏水透明薄膜的结构示意图；其中，附图标记为:1、透明薄膜层;2、胶黏剂;3、基板;4、纳米柱;5、纳米束;6、第一模板;70、第二模板;71、光刻胶;81、第一刻蚀液;82、第二刻蚀液。【具体实施方式】为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本专利技术作进一步详细描述。实施例1:本实施例提供一种超疏水透明薄膜的制备方法，如图1所示，包括以下步骤:在透明薄膜层I上形成胶黏剂2，所述胶黏剂2表面具有多个间隔设置的凸起部；提供表面形成有纳米柱4的基板3;将所述基板3表面的部分纳米柱4与所述胶黏剂2的凸起部粘附；除去所述基板3;除去未与所述凸起部粘附的纳米柱4，以使与凸起部粘附的纳米柱4形成纳米束5。本实施例的超疏水透明薄膜先在透明薄膜层I上形成具有粗糙表面的胶黏剂2，然后将纳米柱4粘至胶黏剂2粗糙表面的凸起部上，得到疏水性能良好的超疏水透明薄膜。该方法制备的超疏水透明薄膜接触角> 170°，滚动角〈4°，具有自清洁功能；其光透过率高，可以达到85-93%;本专利技术的制备方法简单，成本低。本专利技术的超疏水透明薄膜适用于各种领域，当透明薄膜层I采用柔性透明材料时，所制备的超疏水透明薄膜适用于柔性显示装置。实施例2:本实施例提供一种超疏水透明薄膜的制备方法，如图2-8所示，包括以下步骤:SOl、制备第一模板6，其中所述第一模板6包括多个阵列排布凸起部，在行方向和列方向上所述凸起部的尺寸为40-160um，且相邻的凸起部的间距与凸起部的尺寸比值为0.25ο具体的，如图2所示，通过光刻工艺在第二模板70表面上形成具有多个间隔设置的凸起部的光刻胶71;在所述光刻胶71具有多个间隔设置的凸起部的表面上涂覆可聚合单体，可聚合单体聚合后从光刻胶71剥离，得到第一模板6。优选的是，所述第二模板70由硬质材料构成。也就是说，第二模板70采用硬质材料，例如，第二模板70可以采用硅模板，这样可以使得聚合得到第一模板6后，易于与两个模板相分离，不粘连。优选的是，所述第一模板6由聚二甲基硅氧烷(PDMS)构成。其中，可聚合单体在固化过程中，边角处的PDMS膜已经掀起，这样固化后就容易掀起PDMS模板。可以理解的是，在所述光刻胶71表面上涂覆可聚合单体，具体的可以是涂覆聚二甲基硅氧烷的预聚物，也可以是聚二甲基硅氧烷的可聚合单体，例如二氯二甲基硅烷。在此本实施例提供了一种第一模板6的制备方法，可以理解的是，米用其他方法制备第一模板6也可是可行的。S02、如图3所示，在表面具有多个间隔设置的凸起部的第一模板6上涂覆可固化的胶黏剂2;这样胶黏剂2与第一模板6相接触的面就形成了粗糙表面。其中，胶黏剂2可选用紫外(UV)固化的高分子胶黏剂，即通过UV引发，高分子单体发生聚合得到具有胶黏性质的胶黏剂，此种胶黏剂不仅对透明薄膜层有粘结力，对无机及金属材料都有很强的粘附力。S03、如图4所示，将上述第一模板6的涂覆有可固化胶黏剂2的面与透明薄膜层I挤压以使二者粘接;其中，透明薄膜层I可以是聚碳酸酯(PC)，聚乙烯(PE)，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA )，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)中的任意一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤: 在透明薄膜层上形成胶黏剂，所述胶黏剂表面具有多个间隔设置的凸起部； 提供表面形成有纳米柱的基板； 将所述基板表面的部分纳米柱与所述胶黏剂的凸起部粘附； 除去所述基板； 除去未与所述凸起部粘附的纳米柱，以使与凸起部粘附的纳米柱形成纳米束。2.根据权利要求1所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，所述在透明薄膜层上形成胶黏剂为通过模板法在透明薄膜层上形成胶黏剂。3.根据权利要求2所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，所述通过模板法在透明薄膜层上形成胶黏剂包括以下步骤: 在表面具有多个间隔设置的凸起部的第一模板上涂覆可固化的胶黏剂； 将上述第一模板的涂覆有可固化胶黏剂的面与透明薄膜层粘附； 将所述胶黏剂固化后与第一模板脱除，透明薄膜层上形成具有多个间隔设置的凸起部的胶黏剂。4.根据权利要求3所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，所述第一模板由聚一■甲基娃氧烧构成。5.根据权利要求3所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，所述第一模板包括多个阵列排布凸起部，在行方向和列方向上所述凸起部的尺寸为40-160um，且相邻的凸起部的间距与凸起部的尺寸比值为0.25。6.根据权利要求3所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，所述第一模板通过以下方法制备: 在第二模板表面上形成具有多个间隔设置的凸起部的光刻胶； 在所述光刻胶具有多个间隔设置的凸起部的表面上涂覆可聚合单体，并使可聚合单体聚合后从光刻胶剥离，得到第一模板。7.根据权利要求6所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在于，所述第二模板由硬质材料构成。8.根据权利要求6所述的超疏水透明薄膜的制备方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡海峰，谢涛峰，曾亭，张由婷，马伟杰，殷刘岳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：