一种触摸屏功能片引线的结构及其制作方法技术

本发明专利技术描述触摸屏功能片引线的结构及其制作方法，在基材的一侧或双侧表面形成透明导电膜层作为感应材料；并在基材的一侧或双侧表面形成导电浆料固化层作为绕线材料。以一次黄光工艺在导电膜层上通过蚀刻形成感应区图案。以另一次黄光工艺使导电浆料固化层形成绕线区图案。先覆盖光阻层，并用曝光显影形成对应的绕线区图案。通过丝印等方式在显影后的光阻层上涂覆含金属或其它导电材料的导电浆，并使其与之下方的导电膜层之间电性接触；脱光阻膜去除组合图案对应位置外的导电浆料，得到电极及引线的图案。本发明专利技术可先于感应区图案形成绕线区图案，或反转其工艺顺序。丝印绕线导电浆无需精准对位而能得到较窄的线宽线距。

Structure of touch screen function chip lead wire and manufacturing method thereof

Structure and fabrication method of the invention describes the touch screen function leads in the substrate, one or both surface forming a transparent conductive film as sensing material; and the substrate is formed on the surface of one or both of the conductive paste curing layer as winding material. The induction zone pattern is formed by etching on the conductive film with a yellow light process. With another yellow light process, the conductive slurry curing layer forms a patterning of the winding area. First, the photoresist layer is covered and the corresponding winding pattern is formed by exposing and developing. By way of conductive paste printing photoresist layer after developing the coated with metal or other conductive material, and between the conductive film and the bottom of the electrical contact resistance; conductive paste strip film removal pattern corresponding to the position of the obtained electrode and lead pattern. The invention can form a pattern of a winding area prior to an induction zone pattern or reverse its technological order. Silk screen winding conductive pulp, without precise alignment, and can get a narrow line spacing.

【技术实现步骤摘要】
一种触摸屏功能片引线的结构及其制作方法
本专利技术涉及光电产品的电路制造工艺，特别涉及一种触摸屏功能片引线的结构及其制作方法。
技术介绍
当前，在触摸屏传感器等光电产品的制作过程中，在基材的表面形成ITO膜（ITO指氧化铟锡）作为导电膜层，对其通过蚀刻等方式形成预设的ITO图案作为电极，对ITO图案的绝缘处进行保护后，通过金属绕线工艺来形成电极的引线。现有的金属绕线工艺，包含：丝印银浆绕线法，将银浆以丝印方式覆到基材表面相应区域并与电极相连，通过掩模光刻工艺蚀刻形成相应的银浆绕线图案；蒸镀法，在基材表面相应区域通过真空蒸镀形成铜膜，并对铜膜进行蚀刻形成相应的引线图案；丝印感光银浆法，将感光银浆以丝印方式覆到基材表面相应区域，对感光银浆进行曝光显影固化后，通过掩模光刻工艺蚀刻形成相应的引线图案。然而，上述金属绕线工艺存在的主要问题是，丝印银浆绕线法形成的引线图案，线宽线距较大，一般不低于50μm。蒸铜技术所需的工艺设备成本昂贵。丝印感光银浆的技术尚不成熟，可能由于显影不完全产生引线连线问题，良率较低，未被业内接受。例如，广东泰通科技股份有限公司在申请号201510275966.0的中国专利申请中提供一种纯ITO膜结构单层多点的电容式触摸屏制作工艺，是在ITO膜表面的光阻层进行曝光、显影、蚀刻，从而在ITO膜上形成图形；再在ITO膜上形成绝缘油墨，印刷并固化导电银浆得到成品。然而，如此形成的银浆引线图案线宽线距较大，难以做到精细化控制。信利半导体有限公司在申请号201110202545.7的中国专利申请中提供一种ITO银浆走线的制作方法，是先在ITO上丝印银浆，再对固化后的整片银浆执行激光干刻，获取预设宽度的银浆走线。苏州欧菲光科技有限公司在申请号201410612728.X的中国专利申请中提供一种触控屏的制造方法，是在透明基板上镀ITO层，所述透明基板包括边缘区和被所述边缘区包围的面内区，所述ITO层覆盖所述边缘区和所述面内区；将所述面内区的ITO层图案化，形成透明触控电极，并保留所述边缘区的ITO层；在所述边缘区的ITO层上印刷银浆并固化，形成银浆层；之后，通过激光将所述边缘区的ITO层及所述银浆层制作成电极引线。这些现有技术方案中都使用激光干刻工艺，然而，激光的过程是缓慢的；并且，如果要达到与光刻类似的分辨率，则激光干刻所需的设备是非常昂贵的；此外，激光工艺更容易产生诸如短路和虚线的缺陷。信利半导体有限公司在申请号201110069568.5的中国专利申请中提供一种多点电阻式触摸屏的制作方法，先在玻璃基板的ITO层上采用镀钼或镀钼、铝、钼方式代替普通银浆走线来控制最小线宽，但在引线的材料使用上有很大的局限。深圳市豪威薄膜技术有限公司在申请号201110252586.7的中国专利申请中提供一种电极引线电容屏制造方法，是先在PET基膜上制备ITO导电膜，再在ITO导电膜上采用磁控溅射镀膜法制备铜膜来代替银浆，用丝网印刷和刻蚀工艺制作ITO图案，并同步形成边缘铜电极引线；之后利用一种抗碱蚀刻油墨通过丝网印刷工艺保护边缘铜电极引线，使用一种具有选择性的蚀刻液刻蚀掉中间ITO图案上的铜膜，留下ITO图案，得到具有ITO图案和铜电极引线的PET薄膜结构件。该现有技术的方案中是使用丝网印刷来形成一个共用的掩模，用于蚀刻形成ITO图形和金属布线线路，但这种方案的分辨率很差，通常在数百微米到毫米。更重要的是，该方案中的金属布线线路必须通过酸液蚀刻的效果来决定。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种触摸屏功能片引线的结构及其制作方法，利用丝印普通银浆绕线的方法，无需进行精准对位，而使获得的引线结构能够达到或超过其他工艺实现的较低线宽线距。为了达到上述目的，本专利技术的第一个技术方案是提供一种触摸屏功能片引线的结构的制作方法，其包含以下过程：在基材的一侧或双侧表面形成透明的导电膜层；在所述导电膜层上形成与要制作的绕线区图案对应的第一光阻层；利用第一光阻层，通过丝印、或喷淋、或缝口模头涂刷、或打印方式涂覆导电材料的导电浆以使绕线区图案成型，并使绕线区图案与其下方的导电膜层之间实现电性接触。优选地，进一步包含将透明的导电膜层制成感应区图案的过程：在所述导电膜层及制成的绕线区图案上形成第二光阻层，所述第二光阻层与绕线区图案及要制作的感应区图案的组合图案相对应；利用第二光阻层，用酸液，或与酸液相对应等效的蚀刻液，或反应离子气，或激光，或带电粒子，或高能量辐射方法，去除组合图案对应位置以外的导电膜层，去除第二光阻层使感应区图案成型。优选地，所述导电膜层的导体材料，包括，但不限于，金属氧化物，金属网格，纳米金属线，有机材料，复合材料等透明导电膜；所述用以制成绕线区图案的导电浆，包括，但不限于，包含金属颗粒，金属线，有机导电高分子，或其它导电材料的浆料；所述基材包括，但不限于，非晶氧化物如玻璃薄片，晶体氧化物如石英，蓝宝石等薄片，高分子材质如聚酯薄膜，聚胺薄膜，聚碳酸酯薄膜等透明薄膜。优选地，所述基材的表面包含绕线区和感应区；所述透明的导电膜层在所形成的任意一侧覆盖基材的整个表面或覆盖感应区；所述绕线区图案位于与绕线区对应的位置，并且延伸到绕线区与感应区重叠的区域；所述感应区图案位于与感应区对应的位置，并且至少延伸到绕线区与感应区重叠的区域，并且所述感应区图案与绕线区图案电性接触。优选地，对所述第一光阻层曝光及显影，形成与绕线区图案对应位置的第一光阻层的空隙图案；导电浆涂覆的区域大于或等于空隙图案所在的区域；涂覆的导电浆将空隙图案填满以使绕线区图案成型，并使导电浆覆在从空隙图案处暴露的导电膜层上，实现绕线区图案与其下方的导电膜层的电性接触；导电浆固化后去除第一光阻层，制成绕线区图案。优选地，在基材的一侧或双侧表面形成透明导体材料的导电膜层之后，先利用形成在导电膜层上的第三光阻层，将导电膜层制成感应区图案的第一部分；在所述基材的表面形成与要制作的绕线区图案对应的第一光阻层，并使感应区图案的第一部分与要制作的绕线区图案至少有重叠的区域；利用第一光阻层，通过丝印方式涂覆导电材料的导电浆以使绕线区图案成型，并使制成的绕线区图案与其下方的感应区图案的第一部分实现电性接触；在所述感应区图案的第一部分及基材上形成第二光阻层，该第二光阻层与绕线区图案及要制作的感应区图案的第二部分的组合图案相对应，所述组合图案中包含绕线区图案与要制作的感应区图案的第二部分之间重叠且电性接触的部分；利用第二光阻层，去除组合图案对应位置以外的感应区图案的第一部分，使感应区图案的第二部分成型。优选地，在感应区图案的第一部分的其中一些导电部分与另一导电部分之间形成有绝缘层，并使利用第一光阻层制成的绕线区图案的不同部分，分别覆在基材、感应区图案的第一部分及绝缘层上。优选地，所述制作方法中使用的光阻层是光阻干膜，通过层压方式覆盖在基材的表面结构上；或者，所述光阻层是光阻湿膜，通过印刷或喷涂方式形成在基材的表面结构上；所述基材是分切后的单片基材或是整卷基材；所述基材的表面结构是透明导电膜层，或是导电膜层及绕线区图案。本专利技术的另一个技术方案是提供一种触摸屏功能片引线的结构，其包含：基材；透明导体材料的导电膜层，其形成在所述基材的一侧或双侧表面，并在所形成的任意一侧覆盖基材的整个表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸屏功能片引线的结构的制作方法，其特征在于，包含以下过程：在基材的一侧或双侧表面形成透明的导电膜层；在所述导电膜层上形成与要制作的绕线区图案对应的第一光阻层；利用第一光阻层，通过丝印、或喷淋、或缝口模头涂刷、或打印方式涂覆导电材料的导电浆以使绕线区图案成型，并使绕线区图案与其下方的导电膜层之间实现电性接触；去除第一光阻层使绕线图案成型；将透明的导电膜层制成感应区图案。

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏功能片引线的结构的制作方法，其特征在于，包含以下过程：在基材的一侧或双侧表面形成透明的导电膜层；在所述导电膜层上形成与要制作的绕线区图案对应的第一光阻层；利用第一光阻层，通过丝印、或喷淋、或缝口模头涂刷、或打印方式涂覆导电材料的导电浆以使绕线区图案成型，并使绕线区图案与其下方的导电膜层之间实现电性接触；去除第一光阻层使绕线图案成型；将透明的导电膜层制成感应区图案。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，将透明的导电膜层制成感应区图案的过程进一步包含：在所述导电膜层及制成的绕线区图案上形成第二光阻层，所述第二光阻层与绕线区图案及要制作的感应区图案的组合图案相对应；利用第二光阻层，用酸液，或与酸液相对应等效的蚀刻液，或反应离子气，或激光，或带电粒子，或高能量辐射方法，去除组合图案对应位置以外的导电膜层，去除第二光阻层使感应区图案成型。3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述导电膜层，包括以下任意一种导体材料或其任意组合制成的透明导电膜：金属氧化物、金属网格、纳米金属线、有机材料、复合材料；所述导电浆，包括以下任意一种导电材料或其任意组合制成的浆料：金属颗粒、金属线、有机导电高分子；所述基材，包括以下任意一种材料或其任意组合制成的薄膜或薄片：非晶氧化物、晶体氧化物、高分子材质；优选的所述非晶氧化物包含玻璃薄片；优选的晶体氧化物包含石英薄片、或蓝宝石薄片；优选的高分子材质的薄膜包含聚酯薄膜、或聚胺薄膜、或聚碳酸酯薄膜。4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述基材的表面包含绕线区和感应区；所述透明的导电膜层在所形成的任意一侧覆盖基材的整个表面或覆盖感应区；所述绕线区图案位于与绕线区对应的位置，并且延伸到绕线区与感应区重叠的区域；所述感应区图案位于与感应区对应的位置，并且至少延伸到绕线区与感应区重叠的区域，并且所述感应区图案与绕线区图案电性接触。5.如权利要求1或2或4所述的制作方法，其特征在于，对所述第一光阻层曝光及显影，形成与绕线区图案对应位置的第一光阻层的空隙图案；导电浆涂覆的区域大于或等于空隙图案所在的区域；涂覆的导电浆将空隙图案填满以使绕线区图案成型，并使导电浆覆在从空隙图案处暴露的导电膜层上，实现绕线区图案与其下方的导电膜层的电性接触；导电浆固化后去除第一光阻层，制成绕线区图案。6.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在基材的一侧或双侧表面形成透明导体材料的导电膜层之后，将导电膜层制成感应区图案的第一部分；在所述基材的表面形...

【专利技术属性】
技术研发人员：王浩，
申请(专利权)人：汉思高电子科技义乌有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33