【技术实现步骤摘要】
样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法
本专利技术涉及一种向样本分析装置供应清洗液的样本分析系统、清洗液制备装置、样本分析装置及清洗液供应方法。
技术介绍
专利文献1中公开了一种混合RO水和高浓度试剂来制备用于清洗样本分析装置的测定部件的液体的装置。此装置在供应室内存放混合RO水和高浓度试剂而制备的液体。存放在供应室的液体供应到测定部件,并用于清洗测定部件。先行技术文献专利文献专利文献1:特开(日本专利公开)2010-230541号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题在此,在专利文献1公开的装置中设置有浮动开关,该浮动开关用于检测供应室中是否收纳有约为供应室收纳量一半的液体,以便根据供应指示迅速向测定部件运送用于清洗的液体,如果收纳在供应室中的液体少于供应室收纳量的一半,则向供应室供应约为供应室收纳量一半的液体。因此,新制备的用于清洗的液体仅能占所存放的液体量的约一半。用于清洗的液体最好在制备后尽快用于清洗。因此,人们希望有一种能够满足下述条件的装置:新制备的液体占所存放的用于清洗的液体的大部分,且能够用存放的液体迅速地清洗样本分析装置。解决课题的手段本专利技术第一技术方案中的样本分析系统包括清洗液制备装置和样本分析装置。清洗液制备装置制备清洗液。样本分析装置具有测定样本的测定部件以及用于存放清洗液制备装置所制备的清洗液的存放部件,并用清洗液清洗测定部件的至少一部分。清洗液制备装置能够选择性地执行第一补给模式和第二补给模式。第一补给模式是当存放部件中的液量变为第一量时向存放部件补给清洗液的模式。第二补给模式是当存放部件中的液量变为比第一量少的 ...
【技术保护点】
一种样本分析系统,包括:清洗液制备装置,用于制备清洗液,以及样本分析装置,包括用于测定样本的测定部件以及用于存放所述清洗液制备装置制备的所述清洗液的存放部件,并用所述清洗液清洗所述测定部件的至少一部分;其中,所述清洗液制备装置能够选择性地执行第一补给模式和第二补给模式,所述第一补给模式是当所述存放部件中的液量变为第一量时向所述存放部件补给所述清洗液的模式,所述第二补给模式是当所述存放部件中的液量变为比所述第一量少的第二量时向所述存放部件补给所述清洗液的模式。
【技术特征摘要】
2015.10.15 JP 2015-2036721.一种样本分析系统,包括:清洗液制备装置,用于制备清洗液,以及样本分析装置,包括用于测定样本的测定部件以及用于存放所述清洗液制备装置制备的所述清洗液的存放部件,并用所述清洗液清洗所述测定部件的至少一部分;其中,所述清洗液制备装置能够选择性地执行第一补给模式和第二补给模式,所述第一补给模式是当所述存放部件中的液量变为第一量时向所述存放部件补给所述清洗液的模式,所述第二补给模式是当所述存放部件中的液量变为比所述第一量少的第二量时向所述存放部件补给所述清洗液的模式。2.根据权利要求1所述的样本分析系统,其特征在于:所述清洗液制备装置以所述第一补给模式向所述存放部件补给所述清洗液,并在满足了预先设定的条件时执行所述第二补给模式。3.根据权利要求1或2所述的样本分析系统,其特征在于:所述测定部件包括有探针的试剂分装部件并用所述清洗液清洗所述探针,其中,所述探针用于分装用于测定样本的试剂。4.根据权利要求1所述的样本分析系统,其特征在于:在所述第一补给模式下,所述清洗液制备装置向所述存放部件补给比所述存放部件所存放的量少的所述清洗液,在所述第二补给模式下,所述清洗液制备装置向所述存放部件补给比所述存放部件所存放的量多的所述清洗液。5.根据权利要求3所述的样本分析系统,其特征在于:所述第二量是能够清洗所述探针数次的量。6.根据权利要求1所述的样本分析系统,其特征在于:所述清洗液制备装置包括:向所述存放部件供应制备的所述清洗液的供应部件;以及控制所述供应部件的控制部件;其中,在所述第一补给模式下,所述控制部件控制所述供应部件在所述存放部件的液量变为第一量时向所述存放部件供应所述清洗液,在所述第二补给模式下,所述控制部件控制所述供应部件在所述存放部件的液量变为所述第二量时向所述存放部件供应所述清洗液。7.根据权利要求6所述的样本分析系统,其特征在于:所述存放部件包括检测出液量变为所述第一量的第一检测部件以及检测出液量变为所述第二量的第二检测部件,所述控制部件基于所述第一检测部件和所述第二检测部件的检测结果控制所述供应部件。8.根据权利要求1所述的样本分析系统,其特征在于,还包括:处理通过所述测定部件的测定而获得的测定数据的数据处理部件;其中,在所述第一补给模式下,所述数据处理部件控制所述清洗液制备装置在所述存放部件的液量变为第一量时向所述存放部件补给所述清洗液,在所述第二补给模式下,所述数据处理部件控制所述清洗液制备装置在所述存放部件的液量变为所述第二量时向所述存放部件补给所述清洗液。9.根据权利要求3所述的样本分析系统,其特征在于:所述清洗液制备装置还包括用于存放制备的清洗液的第二存放部件,并从所述第二存放部件向所述存放部件补给所述清洗液,当变为所述第二补给模式后,所述清洗液制备装置废弃存放在所述第二存放部件的清洗液,在将新制备的清洗液存放到所述第二存放部件后,直到所述存放部件中的液量变为所述第二量之前都不开始对所述存放部件补给所...
【专利技术属性】
技术研发人员:高木龙辉,若宫裕二,
申请(专利权)人:希森美康株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。