一种抛光机构及抛光设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种抛光机构及抛光设备。所述抛光机构包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。所述抛光设备包括上述抛光机构。所述抛光机构在待加工玻璃盖板的边缘设置适宜厚度的保护件，可使待加工玻璃盖板边缘所受压力减小，以使待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，以提高抛光良率。

Polishing mechanism and polishing equipment

The utility model relates to a polishing mechanism and polishing equipment. The polishing mechanism comprises a grinding disc, soft loading layer, the soft loading layer includes at least one workpiece placement area and the protection pieces to be processed, the glass cover is placed on the workpiece placement area and its surface to be processed and disc positioned relative to the edge protection piece and the glass to be processed the cover plate to match the relative rotation of the soft loading layer and the disc, the protector thickness matching the processed glass cover over the edge of the soft loading layer is matched with the distance between the central axis, namely the processing of glass cover to the soft edge mass loading layer center axis distance is, the greater the thickness of protection. The polishing apparatus includes the polishing mechanism. The polishing mechanism is suitable in machining thickness of protective glass cover edge, can make the processed glass cover edge stress is reduced, so that the edge grinding to be machined glass cover the same, in order to improve the yield rate of polishing.

【技术实现步骤摘要】
一种抛光机构及抛光设备
本技术涉及一种基板加工机构，尤其涉及一种抛光机构及抛光设备。
技术介绍
由于受现有抛光技术的限制，待加工玻璃盖板的倒边在抛光后的良率很低，待加工玻璃盖板的直身位厚度不均匀，平整度不高，严重影响抛光良率，增加了生产的成本。在抛光生产作业中发现离中心位置距离越大的待加工玻璃盖板厚度越不均匀，因此需要一种新型抛光机构，以提高抛光良率。
技术实现思路
为克服现有抛光良率低的技术问题。本技术提供一种抛光机构及抛光设备。本技术解决技术问题的技术方案是提供一种抛光机构，用于对待加工玻璃盖板抛光处理，其包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。优选地，所述保护件靠近待加工玻璃盖板一侧的边缘轮廓匹配于所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓，且所述保护件厚度大于待加工玻璃盖板厚度。优选地，所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离、保护件厚度满足以下公式：Q∝2πR1μF，其中Q为待加工玻璃盖板的磨削量，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，μ为摩擦因数，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力。优选地，所述保护件包括至少两第一保护件及至少一第二保护件，至少一所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加工玻璃盖板的四个角处，所述第二保护件相对设于所述待加工玻璃盖板各边处。优选地，所述第二保护件与所述第一保护件分离设置或所述第二保护件与所述第一保护件连接，用于调节玻璃盖板边缘的磨削量。优选地，所述保护件的厚度、所述待加工玻璃盖板的厚度、所述软质载物层的半径满足以下公式：其中，H为保护件的厚度，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，R为软质载物层的半径，k为常数为0.7-1.5之间，d为待加工玻璃盖板的厚度，且所述第二保护件包括一顶面，所述顶面为斜面。优选地，所述保护件的边缘到匹配的待加工玻璃盖板边缘距离为0.3-1.5mm，所述保护件厚度为0.25-1.5mm。优选地，所述抛光机构包括多个吸附孔，所述工件放置区开设有凹槽，所述吸附孔连通所述凹槽的中心位置。本技术解决技术问题的技术方案还提供一种抛光设备，所述抛光设备包括上述的抛光机构。优选地，所述抛光设备还包括驱动机构，所述驱动机构连接带动所述软质载物层和/或所述磨盘相对旋转。与现有技术相比，本技术抛光机构及抛光设备具有以下优点：(1)通过在待加工玻璃盖板的边缘设置具有适宜厚度的保护件，可使抛光层对待加工玻璃盖板进行抛光过程中，所述抛光层先接触到保护件，而非直接与所述待加工玻璃盖板的边缘接触，设置保护件的厚度与所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，所述待加工玻璃盖板的边缘到软质载物层中心轴的距离越大，所述保护件的厚度越大，以使待加工玻璃盖板所述压力越小，使所述待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，提高抛光良率。(2)由于磨削量Q∝2πR1μF，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力，待加工玻璃盖板的边缘到软质载物层中心轴的距离越大，设置保护件的厚度越大，以使相匹配待加工玻璃盖板的边缘所受压力越小，从而使待加工玻璃盖板的边缘磨削量相同，从而提高抛光良率。(3)待加工玻璃盖板的边缘设置第一保护件设置及第二保护件，所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加工玻璃盖板的四个角处，所述第二保护件相对设于待加工玻璃盖板各边处，可使抛光层对待加工玻璃盖板进行抛光过程中，所述抛光层先接触到第一保护件及第二保护件，从而可使待加工玻璃盖板的边缘受到的压力减小，以调节待加工玻璃盖板各边的磨削量，使待加工玻璃盖板各边抛光均匀。(4)设置第二保护件与第一保护件分离设置可以节省第二保护件用料成本。所述第二保护件与所述第一保护件连接，成框形结构，便于一次性取下并更换所述框形结构，以节省抛光周期提高抛光效率。(5)在所述工件放置区开设有凹槽，所述吸附孔连通所述凹槽的中心位置，以使工件放置区表面的待加工玻璃盖板所受吸附力平衡，防止作业过程中待加工玻璃盖板脱落。(6)采用材料不同的抛光层，可以对待加工玻璃盖板进行不同程度的抛光，以获得不同的抛光效果。(7)所述抛光设备能使待加工玻璃盖板边缘磨削量相同，能提高待加工玻璃盖板的平整度，从而提高抛光良率。(8)所述驱动机构连接带动所述软质载物层和/或所述磨盘相对旋转，用于对待加工玻璃盖板多次磨削抛光，因而具有较好的重复加工性能。【附图说明】图1是本技术第一实施例抛光机构结构示意图。图2是本技术抛光机构爆炸结构示意图。图3是本技术抛光机构的工件放置区结构放大主视示意图。图4是本技术抛光机构的工件放置区结构放大俯视示意图。图5是本技术第二实施例工件放置区结构放大俯视示意图。图6是本技术第三实施例工件放置区结构放大俯视示意图。图7是本技术第四实施例抛光设备结构示意图。【具体实施方式】为了使本技术的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。请参阅图1及图2，本技术第一实施例提供一种抛光机构1，用于对待加工玻璃盖板100进行抛光处理。所述待加工玻璃盖板100为四边形，其边缘包括待加工玻璃盖板100四个角和四个边，其中角和边相连接。所述抛光机构1包括磨盘11、软质载物层13及吸附托盘15。所述软质载物层13设置在所述磨盘11及所述吸附托盘15之间，所述吸附托盘15固定连接所述软质载物层13，并可带动所述软质载物层13转动。所述软质载物层13远离所述吸附托盘15一侧用于放置待加工玻璃盖板100且其待加工面与所述磨盘11相对设置，所述软质载物层13与所述磨盘11相对旋转，以使所述磨盘11对放置在软质载物层13上的待加工玻璃盖板100进行抛光处理。所述磨盘11为圆形，其包括抛光层111，所述抛光层111可选用、毛刷、毛毡或毛毯等。所述磨盘11尺寸大于所述软质载物层13及所述吸附托盘15的尺寸，其中所述软质载物层13的尺寸与所述吸附托盘15的尺寸相同，且外形轮廓匹配。优选地，所述磨盘11尺寸是所述软质载物层13或所述吸附托盘15的尺寸1-2倍。设置所述磨盘11尺寸大于所述软质载物层13及所述吸附托盘15的尺寸，可以使所述软质载物层13与所述磨盘11相对旋转时，所述软质载物层13上放置待加工玻璃盖板100全部接触抛光层111，从而使待加工玻璃盖板的抛光程度均匀。所述磨盘11可旋转并同步带动抛光层111对待加工玻璃盖板100进行抛光处理。请一并参阅图3，所述软质载物层13为软质材料，是圆形平面结构，其中心位置为中心10，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光机构，用于对待加工玻璃盖板抛光处理，其特征在于：其包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。

【技术特征摘要】
1.一种抛光机构，用于对待加工玻璃盖板抛光处理，其特征在于：其包括磨盘、软质载物层，所述软质载物层包括至少一工件放置区及保护件，待加工玻璃盖板放置在所述工件放置区内且其待加工面与磨盘相对设置，所述保护件与所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓相匹配，所述软质载物层与所述磨盘相对旋转，所述保护件的厚度与其相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离相匹配，即待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离越大，保护件厚度越大。2.如权利要求1所述的抛光机构，其特征在于：所述保护件靠近待加工玻璃盖板一侧的边缘轮廓匹配于所述待加工玻璃盖板的边缘轮廓，且所述保护件厚度大于待加工玻璃盖板厚度。3.如权利要求2所述的抛光机构，其特征在于：所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离、保护件厚度满足以下公式：Q∝2πR1μF，其中Q为待加工玻璃盖板的磨削量，R1为与所述保护件相匹配的所述待加工玻璃盖板的边缘到所述软质载物层中心轴的距离，μ为摩擦因数，F为待加工玻璃盖板边缘所受压力。4.如权利要求3所述的抛光机构，其特征在于：所述保护件包括至少两第一保护件及至少一第二保护件，至少一所述第二保护件设置在所述两第一保护件之间，所述第一保护件相对设于所述待加...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄红伍，廖继勇，逯正旺，赵学军，
申请(专利权)人：凯茂科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44