基板清洗设备制造技术

本发明专利技术提供一种基板清洗设备，其通过采用由清洗旋转轴带动的密集排列的多个清洗刷头取代包裹在清洗旋转轴表面的毛刷，使得基板与毛刷之间的线接触变为基板与多个清洗刷头之间的面接触，从而大大增加基板在清洗时与清洗刷头之间的接触面积，提升清洗的接触时间，使基板背面的滚轮印清除的更加彻底，从而提升基板的清洁度，保证制程质量。

Substrate cleaning equipment

The invention provides a substrate cleaning device, the cleaning by densely arranged rotary shaft driven by a plurality of cleaning brush head to replace the brush wrapped in the surface of a rotating shaft, so that between the substrate and the brush into the line contact between the substrate and a plurality of cleaning brush head surface contact, thereby greatly increasing the contact area between the substrate cleaning and cleaning brush head, enhance the contact time of the roller cleaning, the back of the substrate printed clear more thoroughly, so as to enhance the cleanliness of the substrate, process quality assurance.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基板清洗设备。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)与有机发光二极管显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(CathodeRayTube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。在TFT阵列基板的制作过程中，基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶，从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形，显影后基板上覆盖有光刻胶的位置，在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。在显影制程后基板会通过传送单元传送到基板清洗设备之后在传送到下一个制程设备中。如图1及图2所示，现有技术中，显影设备之后的基板清洗设备通常包括：机架10、以及设于所述机架10上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区101、基板清洗区102、和第二基板传送区103；所述第一基板传送区101和第二基板传送区103均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴202，所述基板清洗区102包括：数个与传送旋转轴202平行且间隔排列的清洗旋转轴201；每一个清洗旋转轴201的侧面包裹有毛刷203，每一个传送旋转轴202上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮204，在所述基板清洗区102的上方布置有喷淋装置(未图示)，基板通过传送滚轮204传送到基板清洗区102中，通过喷淋装置对基板正面进行喷淋清洗，通过毛刷203对基板背面进行刷洗减少由传送滚轮204在传送过程中产生滚轮印，但由于当基板通过毛刷203时，毛刷203与基板之间的接触为线接触，接触面积较小，若滚轮印较严重，则无法清洗干净，导致基板无法使用，影响后段制程。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板清洗设备，能够有效去除基板背面的滚轮印，提升基板的清洁度，保证制程质量。为实现上述目的，本专利技术提供了一种基板清洗设备，包括：机架、以及设于所述机架上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区、基板清洗区、和第二基板传送区；所述第一基板传送区和第二基板传送区均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴，所述基板清洗区包括：至少两个与传送旋转轴平行且间隔排列的清洗旋转轴；每一个清洗旋转轴上均设有多个相互平行间隔排列的支撑轴，所述支撑轴与所述清洗旋转轴垂直传动连接，每一个支撑轴远离清洗旋转轴的一端套设有一个清洗刷头；各个清洗刷头远离所述清洗旋转轴的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴平行的同一平面上，相邻的两个清洗刷头的侧面相切；每一个传送旋转轴上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮。所述清洗旋转轴的数量为两个。所述清洗旋转轴与所述支撑轴之间通过一对斜齿轮垂直传动连接。还包括：设于所述机架上的位于所述多个传送旋转轴上方的与所述传送旋转轴平行的多个辅助旋转轴，每一个辅助旋转轴均套设有多个依次间隔排列的辅助滚轮。所述基板清洗设备工作时，所述辅助旋转轴与所述传送旋转轴旋转的方向相反。所述辅助滚轮与传送滚轮之间的最小距离等于需要清洗的基板的厚度。还包括：多个自由滚轮，所述自由滚轮设于所述第一基板传送区与基板清洗区的连接处、以及所述第二基板传送区和基板清洗区的连接处，所述自由滚轮的顶点与各个清洗刷头远离所述清洗旋转轴的一侧端面处于同一平面。还包括：与所述传送旋转轴以及清洗旋转轴相连的驱动装置。所述驱动装置为旋转电机。本专利技术的有益效果：本专利技术提供一种基板清洗设备，其通过采用由清洗旋转轴带动的密集排列的多个清洗刷头取代包裹在清洗旋转轴表面的毛刷，使得基板与毛刷之间的线接触变为基板与多个清洗刷头之间的面接触，从而大大增加基板在清洗时与清洗刷头之间的接触面积，提升清洗的接触时间，使基板背面的滚轮印清除的更加彻底，从而提升基板的清洁度，保证制程质量。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有的基板清洗设备的俯视示意图；图2为现有的基板清洗设备的剖视示意图；图3为本专利技术的基板清洗设备的俯视示意图；图4为本专利技术的基板清洗设备的剖视示意图；图5为本专利技术的基板清洗设备中清洗旋转轴与支撑轴之间的连接示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图3及图4，本专利技术提供一种基板清洗设备，包括：机架1、以及设于所述机架1上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区11、基板清洗区12、和第二基板传送区13，所述第一基板传送区11用于将基板从显影设备中传送到基板清洗区12，所述基板清洗区12用于对基板进行清洗，所述第二基板传送区13用于将清洗后的基板传送到下一个制程设备中。具体地，所述第一基板传送区11和第二基板传送区13均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴22，所述基板清洗区12包括：至少两个与传送旋转轴22平行且间隔排列的清洗旋转轴21。进一步地，每一个清洗旋转轴21上均设有多个相互平行间隔排列的支撑轴211，所述支撑轴211与所述清洗旋转轴21垂直传动连接，每一个支撑轴211远离清洗旋转轴21的一端套设有一个清洗刷头212，优选地，如图5所示，所述支撑轴211与所述清洗旋转轴21通过一对斜齿轮垂直传动连接，当然这并不是对本专利技术的限制，其他的垂直传动连接方式同样适用。需要说明的是，在本专利技术中，各个清洗刷头212远离所述清洗旋转轴21的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴21平行的同一平面上，相邻的两个清洗刷头212的侧面相切，通过使得各个清洗刷头212远离所述清洗旋转轴21的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴21平行的同一平面上使得基板在传送到基板清洗区12时基板的背面能够同时与全部的清洗刷头212的端面接触，从而将现有技术的线接触变为面接触，大幅提升接触面积，滚轮印去除的更彻底，而通过使得相邻的两个清洗刷头212的侧面相切能够保证各个清洗刷头212与基板的背面接触时产生的空隙最小，保证清洗的区域最大。优选地，所述清洗旋转轴21的数量为两个。具体地，每一个传送旋转轴22上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮221，通过所述传送滚轮221与基板之间的摩擦力来传送基板。值得一提的是，为了使得基板在传送时更加平稳，本专利技术还在所述机架1上位于所述多个传送旋转轴22上方的位置设置多个与所述传送旋转轴22平行的辅助旋转轴23，每一个辅助旋转轴23均套设有多个依次本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗设备，其特征在于，包括：机架(1)、以及设于所述机架(1)上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区(11)、基板清洗区(12)、和第二基板传送区(13)；所述第一基板传送区(11)和第二基板传送区(13)均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴(22)，所述基板清洗区(12)包括：至少两个与传送旋转轴(22)平行且间隔排列的清洗旋转轴(21)；每一个清洗旋转轴(21)上均设有多个相互平行间隔排列的支撑轴(211)，所述支撑轴(211)与所述清洗旋转轴(21)垂直传动连接，每一个支撑轴(211)远离清洗旋转轴(21)的一端套设有一个清洗刷头(212)；各个清洗刷头(212)远离所述清洗旋转轴(21)的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴(21)平行的同一平面上，相邻的两个清洗刷头(212)的侧面相切；每一个传送旋转轴(22)上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮(221)。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括：机架(1)、以及设于所述机架(1)上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区(11)、基板清洗区(12)、和第二基板传送区(13)；所述第一基板传送区(11)和第二基板传送区(13)均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴(22)，所述基板清洗区(12)包括：至少两个与传送旋转轴(22)平行且间隔排列的清洗旋转轴(21)；每一个清洗旋转轴(21)上均设有多个相互平行间隔排列的支撑轴(211)，所述支撑轴(211)与所述清洗旋转轴(21)垂直传动连接，每一个支撑轴(211)远离清洗旋转轴(21)的一端套设有一个清洗刷头(212)；各个清洗刷头(212)远离所述清洗旋转轴(21)的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴(21)平行的同一平面上，相邻的两个清洗刷头(212)的侧面相切；每一个传送旋转轴(22)上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮(221)。2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述清洗旋转轴(21)的数量为两个。3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述清洗旋转轴(21)与所述支撑轴(211)之间通过一对斜齿轮垂直传动连接。4.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏飞，沈顺杰，龚冰，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42