用于蚀刻技术的表面结构化的模板制造技术

本发明专利技术涉及一种用于蚀刻技术的表面结构化的模板、一种用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的方法、一种用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的打印机以及一种用于蚀刻技术的表面结构化的方法。用于蚀刻技术的表面结构化的已知的模板具有一个耐蚀刻的模板层(3)，其中，模板层(3)能够转印到待结构化的表面(2)上，并且其中，在待结构化的表面(2)的一次蚀刻技术处理之后能够至少部分地除去模板层(3)，并且按照本发明专利技术设计和扩展为，模板层(3)具有至少两个部分区域(4,5)并且至少两个部分区域(4,5)能够彼此独立地从待结构化的表面上除去。

A surface structured template for etching

The invention relates to a method for structured surface etching techniques, a template for manufacturing methods for structured surface etching techniques for manufacturing a template for structured surface etching techniques of the template printer and a method for etching the surface structure. For a structured surface etching technique known template has a corrosion resistance moment of the template layer (3), among them, the template layer (3) can transfer to the surface to be structured (2), and the surface to be structured (2) after the first etching can at least partially processing technology remove the template layer (3), and in accordance with the present invention designed and expanded, the template layer (3) has at least two parts (4,5) and at least two parts (4,5) can independently from the structured surface to be removed.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于蚀刻技术的表面结构化的模板
本专利技术涉及一种用于蚀刻技术的表面结构化的模板、一种用于制造这种模板的方法、一种用于制造这种模板的打印机以及一种用于蚀刻技术的表面结构化的方法。
技术介绍
现有技术中所已知的、用于蚀刻技术的表面结构化的模板具有耐蚀刻的模板层，其中，该模板层例如通过研磨而能够转印到待结构化的表面上，并且其中，该模板层在蚀刻技术处理之后能够从待结构化的表面上除去。这类模板用于在金属表面，特别是注塑工件的表面上形成结构图像，例如模仿纹路化的皮革表面，该皮革表面在随后的注塑过程中转印到已注塑的塑料部件的表面上。针对该目的，耐蚀刻的模板层(通常从模板载体)转印到金属表面上。这通常由此得以实现，即，例如通过将形成为纸张或者薄膜的模板载体放到待结构化的表面上并且通过研磨(即，通过在模板载体上施加压力)而将模板层从模板载体朝待结构化的表面的方向转印。在此通常为用手实施的过程，因为待结构化的表面通常具有三维的形状，该三维的形状不允许或至少很大程度上很难进行模板层的机械式的转印。如果模板层已经转印到了待结构化的表面上，则模板层现在形成了覆盖待结构化的表面的特定区域的耐酸层。如果现使工件(例如注塑模)暴露于酸浴中，工件未覆盖的表面的反应促使借助通过酸溶解的氧化物完成材料去除。这类蚀刻技术的表面结构化分布广泛，因为特别是可以为注塑的塑料部件的表面基本上印出最终产品的整体表现图像。在此，对于通过蚀刻技术的表面结构化所实现的结构图像所提出的要求越来越高。在许多情况下，只能通过在多个步骤中进行蚀刻技术的表面结构化来满足这些要求。在此，各个步骤的组成为：将模板层转印到待从第二步开始结构化的表面上以及接下来在酸浴中的进一步处理。随着对于最终的结构图像的要求的提高，也提高了对模板层在第二步或其他步骤中的转印的要求。在此，将模板层手工地转移到已经蚀刻技术结构化的表面上的开支是巨大的。为了制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板，已知使用一种方法，其中，耐蚀刻的模板层借助点阵打印机而覆在模板载体上。通过使用点阵打印机(即，打印机)通过形成单个的图像点而产生印刷图像，容易实现的是，以几乎任意的设计形式制造模板层。用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的、已知的打印机具有至少一个点阵打印头和至少一个用于模板载体的容纳部，其中，点阵打印头将模板层印在模板载体上。在此，为了制造模板层可以使用不同的材料。例如已知可以使用UV可固化油墨或蜡。如上所述，已知一种用于蚀刻技术的表面结构化的方法，其中，将模板层从模板载体转印到待结构化的表面上并且待结构化的表面在已转印有模板层的情况下进行蚀刻技术处理。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，如下地设计和扩展已知的用于蚀刻技术的表面结构化的模板、已知的用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的方法、已知的用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的打印机以及已知的用于蚀刻技术的表面结构化的方法，即，依次在至少两次蚀刻技术处理的条件下从本质上简化并且加速高要求的、多步骤的表面结构化。根据本专利技术的第一教导，按照本专利技术以此来设计和扩展已知的用于蚀刻技术的表面结构化的模板，即，模板层具有至少两个部分区域并且至少两个部分区域能够彼此独立地从待结构化的表面上除去。通过按照本专利技术的模板层的至少一个部分区域能够不依赖于按照本专利技术的模板层的另一个部分区域而从待结构化的表面上除去，确保了在按照本专利技术的模板层一次性地转印到待结构化的表面上之后可以进行两级或多级的蚀刻技术处理。在此，在两次蚀刻技术处理之间，例如通过使用选择性的溶剂而将模板层的至少一个部分区域从待结构化的表面上除去。模板的按照本专利技术的设计实现了用于形成高要求的结构图像的多级结构化，而在各个步骤中无须在待进一步结构化的表面上转印新的模板层。在接下来的蚀刻技术处理中，模板层在待结构化表面上剩余的部分区域继续覆盖待结构化表面的部分区域并因此实现了形成高要求的结构图像。通过模板层的一个部分区域具有UV可固化油墨，本专利技术的第一教导得到了一种有利的设计方案。将UV可固化油墨用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板是已知的且被证实的。用于将已固化的UV可固化油墨从待结构化的表面上除去的方法也是被证实的。将UV可固化油墨用于制造按照本专利技术设计的模板层的第一部分区域可以特别有利地与模板层具有浆状油墨的部分区域相结合。为了除去已固化的UV可固化油墨所使用的溶剂系统不会侵蚀具有浆状油墨的部分区域。因此，两个部分区域，即，由UV可固化油墨组成的部分区域和由浆状油墨组成的部分区域，能够相互独立地从待结构化的表面上除去。根据本专利技术的第二教导，以此来设计和扩展已知的用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的方法，即，在模板层的至少两个部分区域中借助点阵打印机覆上能够相互独立地从待结构化的表面上除去的模板材料。对于按照本专利技术的设计的优点可以参照结合针对用于蚀刻技术的表面结构化的模板的按照本专利技术的设计所描述的优点。根据本专利技术的第三教导，以此来设计和扩展已知的用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的打印机，即，至少一个点阵打印头具有用于至少两种能够相互独立地从待结构化的表面上除去的模板材料的进料部。一个或多个点阵打印头的使用实现了用于蚀刻技术的表面结构化的期望模板的简单的、EDV支持的制造，所述一个或多个点阵打印头同时或依次在模板层的部分区域中印刷至少两种能够相互独立地从待结构化的表面上除去的模板材料。最后，根据本专利技术的第四教导，以此来设计和扩展已知的用于蚀刻技术的表面结构化的方法，即，在第一次蚀刻技术处理之后除去模板层的一个部分区域，并且待结构化的表面至少进行第二次蚀刻技术处理。对于与该设计相关的优点可以参照与本专利技术的第一教导相关的优点。根据本专利技术的第四教导设计的、用于蚀刻技术的表面结构化的方法由此进一步设计，即，在一次蚀刻技术处理之后，借助氢氧化钠溶液除去模板层具有UV可固化油墨的部分区域。氢氧化钠溶液代表了一种适用于除去已固化的UV可固化油墨的溶剂系统。根据本专利技术的第四教导的第二种设计方案，在一次蚀刻技术处理之后，借助乙酸乙酯除去模板层具有浆状油墨的部分区域。在氢氧化钠溶液除去UV可固化油墨的过程中，氢氧化钠溶液不会侵蚀浆状油墨。在分两个步骤的蚀刻技术处理情况下，浆状油墨可以随后借助乙酸乙酯除去。为了改善用于蚀刻技术的表面结构化的模板、用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的方法、用于制造用于蚀刻技术的表面结构化的模板的打印机以及用于蚀刻技术的表面结构化的方法，按照本专利技术的教导还存在许多种可能性和设计方案。附图说明附图中唯一的图样举例示出了在使用按照本专利技术设计的模板的条件下蚀刻技术的表面结构化。具体实施方式在a)中，唯一的图样示出了具有待结构化的表面2的未处理的工件1。如图b)中所示，将模板层3转印在待结构化的表面上，模板层按照本专利技术具有两个部分区域，即，第一部分区域4和第二部分区域5。在下一个步骤中，待结构化的表面2进行蚀刻技术处理，由此使表面2如图c)所示地在没有被模板层3覆盖的区域中蚀去，即，结构化。由于模板层3的第一部分区域4和第二部分区域5都是耐蚀刻的，因此这些区域不会通过蚀刻技术处理除去。在下一个步骤中，在示出的实施例中通过氢氧化钠溶液至少对模板层3进行处理。在示出的实施例中，第二部分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于蚀刻技术的表面结构化的模板，其具有耐蚀刻的模板层(3)，其中，所述模板层(3)能够转印到待结构化的表面(2)上，并且其中，在所述待结构化的表面(2)的一次蚀刻技术处理之后能够至少部分地除去所述模板层(3)，其特征在于，所述模板层(3)具有至少两个部分区域(4,5)并且至少两个部分区域(4,5)能够彼此独立地从所述待结构化的表面(2)上除去。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.25 EP 13194261.71.一种用于蚀刻技术的表面结构化的模板，其具有耐蚀刻的模板层(3)，其中，所述模板层(3)能够转印到待结构化的表面(2)上，并且其中，在所述待结构化的表面(2)的一次蚀刻技术处理之后能够至少部分地除去所述模板层(3)，其特征在于，所述模板层(3)具有至少两个部分区域(4,5)并且至少两个部分区域(4,5)能够彼此独立地从所述待结构化的表面(2)上除去。2.根据权利要求1所述的模板，其特征在于，所述模板层的一个部分区域(5)具有UV可固化油墨。3.根据权利要求1或2所述的模板，其特征在于，所述模板层的一个部分区域(4)具有浆状油墨。4.一种用于制造模板的方法，所述模板用于蚀刻技术的表面结构化，其中，耐蚀刻的模板层借助于点阵打印机覆在模板载体上，其特征在于，在所述模板层的至少两个部分区域中借助点阵打印机覆上能够相互独立地从...

【专利技术属性】
技术研发人员：彼得·克斯佩尔，
申请(专利权)人：AKK有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE