The invention relates to a device and a method for inspecting a sample. The device includes: to keep the sample (15) the sample holder (150), for generating a charged particle beam (3) multi beam of charged particle generator array, for the basic array of charged particle beam directed to separate focusing lens system basic electromagnetic charged particle beam array of the sample on the (13) and arranged for multi pixel photon photon detector detection in the basic particle beam hit the sample or through the sample after the focusing of the charged particle beam on the basic of charged particle beams (20), as well as for and by the individual basic array focusing of charged particle beam at least two of the adjacent basic focusing of charged particle beam generated photons (30, 31, 32) is transmitted to the multi pixel photon detector and / or different individual pixels or different and / or single pixel group.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】背景本专利技术涉及用于检查薄样本的装置和方法。具体而言,本专利技术涉及用于使用多个带电粒子束来检查样本的装置,诸如多波束扫描电子显微镜。本专利技术可以被应用到任何类型的带电粒子,诸如电子、正电子、离子以及其他带电粒子。此类装置例如在A.Mohammadi-Gheidari和P.Kruit所著“Electronopticsofmulti-beamscanningelectronmicroscope(多波束扫描电子显微镜的电子光学)”,NuclearInstrumentsandMethodsinPhysicsResearch(物理研究的核心仪器和方法)A645(2011)60-67中公开。本公开公开了一种电子显微镜,其包括用于生成基本带电粒子束的阵列(尤其是基本电子束阵列)的电子源。这些基本电子束通过物镜,该物镜将电子束从公共交叉定向到样本,以及将基本电子束聚焦到样本上的个体束斑的阵列上。为了形成样本的图像,需要检测来自每个波束的特征信号。在电子显微镜中,这可以是二次电子信号或背散射电子信号,或者透射电子信号。用以检测二次电子信号和背散射电子信号的方法分别在PCT/NL2013/050416和PCT/NL2013/050746中公开。那些方法的一个缺点在于要么检测器本身,要么波束分离设备需要被置于基本电子束的路径中。那些方法的另一缺点在于基本波束的透镜的激励需要被调节从而适应信号电子束。最后,相比二次检测或背散射检测而言,待检查的样本中的一些对照机制更适用于透射检测。本专利技术的目的在于提供用于检查样本的多带电粒子束装置,该装置提供了用于检测由多个带电粒子束产生 ...
【技术保护点】
一种用于检查样本的装置,其特征在于,所述装置包括:用于保持所述样本的样本支持器,用于生成基本带电粒子束阵列的多波束带电粒子发生器,电磁透镜系统,用于将所述基本带电粒子束阵列定向到所述样本支持器处的单独的聚焦基本带电粒子束的阵列,多像素光子检测器,其布置成用于检测在所述基本带电粒子束撞击到所述样本上时或者在所述基本带电粒子束穿透过所述样本之后由所述聚焦基本带电粒子束产生的光子,以及光学组件,其用于将所述单独的聚焦基本带电粒子束的阵列中的至少两个相邻聚焦基本带电粒子束产生的光子传送到所述多像素光子检测器的不同和/或单独像素或者不同和/或单独像素群。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.05.08 NL 20127801.一种用于检查样本的装置,其特征在于,所述装置包括:用于保持所述样本的样本支持器,用于生成基本带电粒子束阵列的多波束带电粒子发生器,电磁透镜系统,用于将所述基本带电粒子束阵列定向到所述样本支持器处的单独的聚焦基本带电粒子束的阵列,多像素光子检测器,其布置成用于检测在所述基本带电粒子束撞击到所述样本上时或者在所述基本带电粒子束穿透过所述样本之后由所述聚焦基本带电粒子束产生的光子,以及光学组件,其用于将所述单独的聚焦基本带电粒子束的阵列中的至少两个相邻聚焦基本带电粒子束产生的光子传送到所述多像素光子检测器的不同和/或单独像素或者不同和/或单独像素群。2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述装置包括阴极射线发光材料层,其中所述样本支持器被布置成将所述样本置于所述电磁透镜系统和所述阴极射线发光材料层之间,从而所述带电粒子在穿透过该样本之后撞击在所述阴极射线发光材料层上。3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,所述阴极射线发光材料层是由透光支撑板支持的。4.如权利要求2或3所述的装置,其特征在于,所述阴极射线发光材料层覆盖有电荷传导层,优选地,其中所述电荷传导层布置在所述阴极射线发光材料层面向所述电磁透镜系统的一侧。5.如权利要求2、3或4所述的装置,其特征在于,所述样本支持器被布置成将所述样本放置成与所述阴极射线发光材料层直接接触和/或由所述阴极射线发光材料层支持。6.如权利要求2、3或4所述的装置,其特征在于,所述样本支持器被布置成将所述样本放置成距所述阴极射线发光材料层一段距离。7.如前述任一项权利要求所述的装置,其特征在于,所述光学组件包括布置成用于将所产生的光子成像到所述多像素光子检测器上的透镜系统,所述光学组件具有5倍到500倍之间的光学放大。8.如前述任一项权利要求所述的装置,其特征在于,所述电磁透镜系统被布置成将单独的束斑的阵列投影到样本表面上的所述聚焦基本带电粒子束撞击到所述样本支持器上的所述样本上之处,其中所述样本表面上的所述束斑之间的间距在0.3到30微米之...
【专利技术属性】
技术研发人员:P·库鲁伊特,A·C·左内维勒,任岩,
申请(专利权)人:代尔夫特理工大学,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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