【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种印刷电路板和集成电路封装基板用高性能填孔电镀溶液。
技术介绍
电镀是印刷电路板(PCB,PrintedCircuitBoard)和集成电路封装基板(ICsubstrate)制作工艺中的重要工序,它利用电解作用使金属在电沉积的作用下实现线路的层间互联。目前,随着电子元器件的集成程度越来越高,功率越来越大,以全铜填充的形式实现层间互联的要求越来越普遍。但通常全铜填充的镀铜溶液都是采用三元镀铜添加剂体系,通常三元镀铜添加剂分别称作加速剂、湿润剂和整平剂。利用三者之间的相互作用,实现盲孔的全铜填充,三元添加剂可以分别调整各自组成,灵活方便,但是管控复杂,容易顾此失彼,而且彼此之间又存在互相影响,所以目前应用并不广泛。另外,由于三元体系通常只适用于硫酸铜-硫酸这类基础溶液体系,该体系对有机碳容忍量偏小,而三元体系镀铜添加剂本身有机碳含量高,从而导致三元镀铜添加剂体系的镀铜溶液工艺窗口窄,寿命短,而且容易老化失效。
技术实现思路
有鉴于现有技术的缺陷,本专利技术的目的是提供一种能够有效提高填孔镀铜溶液的生产效率、延长镀铜溶液寿命且更易于管控的一种一元镀铜添加剂体系。为了达到上述目的,本专利技术采用以下技术方案:一种高性能填孔镀铜溶液,组成包括基础溶液和镀铜添加剂两部分。其特征在于:基础溶液为甲基磺酸铜和甲基磺酸,镀铜添加剂为一种有机胺类单体和氯丙烯以及二氧化硫等形成的共聚物。优选地,所述 ...
【技术保护点】
一种印刷电路板或IC封装基板用电镀溶液,包括电镀基础溶液和镀铜添加剂,其特征在于:所述基础溶液采用甲基磺酸铜和甲基磺酸体系,所述镀铜添加剂是一种人工合成的大分子体系。
【技术特征摘要】
1.一种印刷电路板或IC封装基板用电镀溶液,包括电镀基础溶液和镀铜
添加剂,其特征在于:所述基础溶液采用甲基磺酸铜和甲基磺酸体系,所述镀
铜添加剂是一种人工合成的大分子体系。
2.根据权利要求1所述的印刷电路板或IC封装基板用电镀溶液,其特征在于:
各组成的比例如下:
甲基磺酸铜150-400g/L
甲基磺酸30~150g/L
镀铜添加剂0.5~1.5ppm
3.根据权利要求1所述的印刷电路板或IC封装基板用电镀溶液,其特征在于:
所述镀铜添加剂为一种有机胺类单体和氯丙烯以及二氧化硫等形成的共聚物。
4.根据权利要求1至3所述的镀铜添加剂,其特征在于:所述添加剂所需的单
体为一种二烯丙基胺类,通常为N,N’-二乙基-1,3-丙二胺、二烯丙基胺或N-乙
酰基乙二胺等,为方便表述,以后均以N,N’-二乙基-1,3-丙二胺为例。
5.根据权利要求1至3所述的镀铜添加剂,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:程敏敏,张斌,过勇,
申请(专利权)人:程敏敏,张斌,过勇,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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