一种倒置结构的双面受光GaAs多结太阳电池制造技术

技术编号:12747961 阅读:97 留言:0更新日期:2016-01-21 15:44
一种倒置结构的双面受光GaAs多结太阳电池,涉及砷化镓多结太阳电池生产技术领域。在永久衬底的正反面分别通过键合层各自连接正电池外延层和反电池外延层,在正电池外延层的表面设置正电池上电极,在反电池外延层的表面设置反电池上电极,在正电池外延层和反电池外延层的表面分别设置减反射膜,在永久衬底的正反两面分别刻穿露出作为正电池下电极、反电池下电极的键合层。本实用新型专利技术在同一个永久衬底的正反两面同时制有负为独立的正面电池和反面电池,正、反面电池均可吸收光转化电能,增加了太阳电池的电输出功率,二者同时工作、互不影响。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及砷化镓多结太阳电池生产

技术介绍
我国的太阳电池迅速发展,其中GaAs太阳电池为航天事业承担着重要角色。目前GaAs多结太阳电池主要有以Ge和GaAs为衬底正装多结太阳电池,以及倒置结构的多结太阳电池,其中倒置多结太阳电池因为各结电池带隙较好的匹配全光谱,有助于太阳光吸收,使得其光电转换效率始终远远领先于其它太阳电池,备受人们的青睐。倒装太阳电池虽然转换效率较高,但因使用约2-3um的Au键合,电池片的重量增加6-8%,相反以Ge衬底正装多结太阳电池效率从29%提高到倒装电池的32%,效率提高了约9%,对比来看,太阳电池的重量比功率提高的微乎其微!详细步骤如下:1、外延生长:采用MOCVD设备在GaAs衬底上依次生长N型GaAs的缓冲层、GaInP腐蚀截止层、N型GaAs接触层、GaInP顶电池、第一隧穿结、GaAs中电池、第二隧穿结、InGaAs底电池和P型InGaAs接触层完成外延片的生长。2、衬底转移:选取导电类型为P型的转移Si衬底,经清洗备用;在电池外延片的底电池背部和转移Si衬底正面,分别通过电子束依次蒸镀T1、Pt和Au层,再将蒸镀完电池外延片与转移Si衬底进行金属键合。3、衬底剥离:采用氨水、双氧水腐蚀液去除金属键合后的电池外延结构上的GaAs衬底。4、电极制作:采用负性光刻胶工艺光刻电极栅线图形,用电子束和热阻真空蒸镀的方式,在顶电池欧姆接触层上制备金属电极,并通过有机剥离将完成上电极制作;在转移Si衬底背面蒸镀制备下电极。5、减反射膜:将完成选择性腐蚀的电池片,采用电子束蒸镀的方法蒸镀T12Al2O3双层减反射膜。6、退火、划片、端面处理完成倒装太阳电池芯片制作。形成的产品如图1所示:在下电极21上方依次有衬底层22、金属键合层23、一个倒装的电池外延层24、减反射膜25,两个上电极26与电池外延层24导电连接。这种GalnP/GaAs/InGaAs倒装三结太阳电池目前效率最高的效率在32%左右,在光谱AM O下,标准光强为136.7mw/cm2,输出功率约为43.74 mw/cm2率,已经接近理论值。由于太阳光经过大气层会发生反射和散射,这样很多太阳光没有被利用,极大程度上是一种资源的浪费,直接影响太阳电池的电输出功率,况且反射和散射的太阳光照射在太阳电池组件背面会发热,影响产品的使用寿命。现今为提高电池的输出功率的常规思路,就是提高其电池的光电转化效率来改变重量比功率,这个思路模式禁锢和忽略了空间中电池体背面受光部分。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术目的是提出一种能提高太阳电池光电转化的输出功率从而提高重量比功率的倒置结构的双面受光GaAs多结太阳电池。本技术包括半绝缘或绝缘永久衬底,在所述永久衬底的正反两面分别通过键合层各自连接正电池外延层和反电池外延层,在正电池外延层的表面设置正电池上电极,在反电池外延层的表面设置反电池上电极,在正电池外延层和反电池外延层的表面分别设置减反射膜,在所述永久衬底的正反两面分别刻穿露出作为正电池下电极、反电池下电极的键合层。由于永久衬底的绝缘作用,本技术在同一个永久衬底的正反两面同时制有负为独立的正面电池和反面电池,正、反面电池均可吸收光转化电能,本技术能有效地利用各部分入射、反射和散射的太阳光,两电池同时工作增加了太阳电池的电输出功率,二者同时工作、互不影响。另外,由于本技术只采用一个永久衬底,提高了太阳电池重量比功率,减轻空间用太阳电池运行的承载负担。本技术将同一电池的上电极和下电极布置在永久衬底的同一侧,而不是传统上下输出的垂直结构,使两电池能够不受干扰独立工作,也利于认别,方便引线的连接。另外,为了使金刚石划片机能够正常的切在正反两面太阳电池切割槽中,减少电池芯片因切割位置的差异造成产品失效和性能的不良,本技术所述正电池上电极和反电池上电极对称布置在所述永久衬底的正反两面。同理,所述正电池下电极和反电池下电极对称布置在所述永久衬底的正反两面。本技术采用三明治键合方式,工艺简单,操作方便,仅使用一次键合的方式,即可将两个独立的电池背靠背地粘在导电和散热较好的衬底上。正反面经过同步的选择性腐蚀、减反射膜蚀刻、划片和断面腐蚀等一系列的器件工艺,完成双面可以吸收太阳光的电池,这样正反面的电池同时工作,输出电转化功率,弥补了损失掉光源的功效,提高了该电池的重量比功率,减轻了火箭的运载和卫星的飞行负担。【附图说明】图1为电池外延片结构示意图。图2为现有技术产品的结构示意图。图3为本明产品下电极未形成时结构示意图。图4为本明产品的结构示意图。图5为图4的俯视图。图6为图4的仰视图。【具体实施方式】一、参照图2、3、4,5、6详细描述本技术生产工艺:1、外延片生长:采用MOCVD设备在350um的GaAs衬底10上依次生长N型GaAs的缓冲层IUGaInP腐蚀截止层12、N型GaAs接触层13、GaInP顶电池14、第一隧穿结15、GaAs中电池16、第二隧穿结17、InGaAs底电池18和P型InGaAs接触层19,完成具有临时衬底的外延片的外延层生长。如图2所示。2、电池外延片键合层蒸镀:选取两片上述电池外延片激光打标进行编号,使用丙酮、异丙醇有机超声清洗lOMin、干燥15Min,在P型InGaAs接触层19上分别通过电子束依次蒸镀T1、Pt和Au金属键合层,总厚度不低于lum。3、永久衬底键合层蒸镀:选取一片厚200um双面抛光且正反两面经过氧化处理的Si半绝缘衬底35,经有机超声lOMin、干燥15Min,并在干燥后的Si半绝缘衬底35的正反两面分别通过电子束依次蒸镀T1、Pt和Au金属键合层34、36,各面的总厚度不低于lum。以上Si半绝缘衬底35可以用常规的GaAs衬底、蓝宝石衬底或SiC衬底的任意一种替代。4、衬底转移:将所述两片蒸镀T1、Pt和Au金属键合层后的外延片与一片片蒸镀T1、Pt和Au金属键合层34、36的Si半绝缘衬底35的正反两面倒装式合在一起,经过高温加热到400°C、加压到7000kg/cm2进行三明治键合20min,使所述两电池片与Si衬底牢牢地粘附起来,形当前第1页1 2 本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种倒置结构的双面受光GaAs多结太阳电池,其特征在于包括半绝缘或绝缘永久衬底,在所述永久衬底的正反两面分别通过键合层各自连接正电池外延层和反电池外延层,在正电池外延层的表面设置正电池上电极,在反电池外延层的表面设置反电池上电极,在正电池外延层和反电池外延层的表面分别设置减反射膜,在所述永久衬底的正反两面分别刻穿露出作为正电池下电极、反电池下电极的键合层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴洪清张永李俊承韩效亚米万里周大勇杨洪东
申请(专利权)人:扬州乾照光电有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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