本实用新型专利技术涉及测量技术领域，具体涉及一种同轴光源结构，包括固定架以及固定于固定架内的光源、半反半透片和光增透片，光源的射出面涂覆有漫反射材料层，光增透片与光源的射出面垂直，半反半透片设置于光源与光增透片之间，半反半透片与光增透片之间呈45°夹角。本实用新型专利技术通过在光源的射出面涂覆漫反射材料层，让光更均匀落在物体上面。本实用新型专利技术通过采用半反半透片，使反射、透射等比，同时光线无损失，对高反射物体投影成像无拖影和阴影产生，更有利于后面的取像部分。本实用新型专利技术通过采用光增透片，物体经过增透成为理想的初始像元。本实用新型专利技术照射在高反射物体上成像无阴影，测量过程中更容易获取图形，提供正确的数据。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及测量
，具体涉及一种同轴光源结构。
技术介绍
同轴光源提供了比传统光源更均匀的照明，因此提高了机器视觉的准确性和重现性。同轴光源主要用于检测反光程度很厉害的平面物体，比如玻璃，同轴光源能够克服表面反光造成的干扰，凸显出物体表面的不平整，主要用于检测物体平整光滑表面的碰伤、划伤、裂纹和异物。现有的同轴光源随着光强度越来越大，重影，拖影现象越来越严重，影响测量精度及判断。
技术实现思路
为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本技术的目的在于提供一种同轴光源结构，该同轴光源结构照射在高反射物体上成像无阴影，测量过程中更容易获取图形，提供正确的数据。本技术的目的通过下述技术方案实现:一种同轴光源结构，包括固定架以及固定于固定架内的光源、半反半透片和光增透片，光源的射出面涂覆有漫反射材料层，光增透片与光源的射出面垂直，半反半透片设置于光源与光增透片之间，半反半透片与光增透片之间呈45°夹角。进一步的，所述固定架呈正方体状，所述光源、光增透片分别设置于固定架的两相邻面。进一步的，所述漫反射材料层的厚度为10-50 μπι。进一步的，所述半反半透片的厚度为8-12mm。进一步的，所述光增透片的厚度为8-12mm。本技术的有益效果在于:本技术通过在光源的射出面涂覆漫反射材料层，让光更均匀落在物体上面。本技术通过采用半反半透片，使反射、透射等比，同时光线无损失，对高反射物体投影成像无拖影和阴影产生，更有利于后面的取像部分。本技术通过采用光增透片，物体经过增透成为理想的初始像元。本技术的同轴光源结构照射在高反射物体上成像无阴影，测量过程中更容易获取图形，提供正确的数据。【附图说明】图1是本技术的立体结构示意图。附图标记为:1 一固定架、11 一光源、12—半反半透片、13—光增透片。【具体实施方式】为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1对本技术作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本技术的限定。见图1，一种同轴光源结构，包括固定架I以及固定于固定架I内的光源11、半反半透片12和光增透片13，光源11的射出面涂覆有漫反射材料层，光增透片13与光源11的射出面垂直，半反半透片12设置于光源11与光增透片13之间，半反半透片12与光增透片13之间呈45°夹角。本技术通过在光源11的射出面涂覆漫反射材料层，让光更均匀落在物体上面。本技术通过采用半反半透片12，使反射、透射等比，同时光线无损失，对高反射物体投影成像无拖影和阴影产生，更有利于后面的取像部分。本技术通过采用光增透片13，物体经过增透成为理想的初始像元。本技术的同轴光源11结构照射在高反射物体上成像无阴影，测量过程中更容易获取图形，提供正确的数据。本实施例中，所述固定架I呈正方体状，所述光源11、光增透片13分别设置于固定架I的两相邻面。如附图1所示，所述光源11、光增透片13分别设置于固定架I的后侧面、左侧面，固定架I的前侧面、右侧面空心，半反半透片12设置于固定架I的一对角面，由固定架I后侧面与左侧面的连接处、以及固定架I前侧面与右侧面的连接处围成。本实施例中，所述漫反射材料层的厚度为10-50 μ m，具体的，漫反射材料层的厚度可以为10 μ m、20 μ m、30 μ m、40 μ m或50 μ m，优选的，漫反射材料层的厚度为30 μ m。该厚度的设置可以让光更均匀落在物体上面，漫反射材料尽量不要吸收光线，导致光损。本实施例中，所述半反半透片12的厚度为8-12mm，具体的，半反半透片12的厚度可以为8mm、9mm、10mm、Ilmm或12mm，优选的，半反半透片12的厚度为10mm。该厚度的设置可以使反射、透射等比，同时光线无损失，对高反射物体投影成像无拖影和阴影产生，更有利于后面的取像部分。本实施例中，所述光增透片13的厚度为8-12mm，具体的，光增透片13的厚度可以为8mm、9mm、1mmllmm或12mm，优选的，光增透片13的厚度为10mm。该厚度的设置可以使物体经过增透成为理想的初始像元。上述实施例为本技术较佳的实现方案，除此之外，本技术还可以其它方式实现，在不脱离本技术构思的前提下任何显而易见的替换均在本技术的保护范围之内。【主权项】1.一种同轴光源结构，其特征在于:包括固定架以及固定于固定架内的光源、半反半透片和光增透片，光源的射出面涂覆有漫反射材料层，光增透片与光源的射出面垂直，半反半透片设置于光源与光增透片之间，半反半透片与光增透片之间呈45°夹角。2.根据权利要求1所述的一种同轴光源结构，其特征在于:所述固定架呈正方体状，所述光源、光增透片分别设置于固定架的两相邻面。3.根据权利要求1所述的一种同轴光源结构，其特征在于:所述漫反射材料层的厚度为 10-50 μπι。4.根据权利要求1所述的一种同轴光源结构，其特征在于:所述半反半透片的厚度为8-12mm。5.根据权利要求1所述的一种同轴光源结构，其特征在于:所述光增透片的厚度为8-12mm。【专利摘要】本技术涉及测量
，具体涉及一种同轴光源结构，包括固定架以及固定于固定架内的光源、半反半透片和光增透片，光源的射出面涂覆有漫反射材料层，光增透片与光源的射出面垂直，半反半透片设置于光源与光增透片之间，半反半透片与光增透片之间呈45°夹角。本技术通过在光源的射出面涂覆漫反射材料层，让光更均匀落在物体上面。本技术通过采用半反半透片，使反射、透射等比，同时光线无损失，对高反射物体投影成像无拖影和阴影产生，更有利于后面的取像部分。本技术通过采用光增透片，物体经过增透成为理想的初始像元。本技术照射在高反射物体上成像无阴影，测量过程中更容易获取图形，提供正确的数据。【IPC分类】F21V13-00, F21V7-22, G01N21-88【公开号】CN204513259【申请号】CN201520274293【专利技术人】李由根, 李娜 【申请人】东莞市宏诚光学制品有限公司【公开日】2015年7月29日【申请日】2015年4月30日本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种同轴光源结构，其特征在于：包括固定架以及固定于固定架内的光源、半反半透片和光增透片，光源的射出面涂覆有漫反射材料层，光增透片与光源的射出面垂直，半反半透片设置于光源与光增透片之间，半反半透片与光增透片之间呈45°夹角。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李由根，李娜，
申请(专利权)人：东莞市宏诚光学制品有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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