本实用新型专利技术公开一种测量仪的轮廓光源结构，包括有筒体、透镜以及发光体；该透镜设置于筒体上并封盖住筒体的上端开口，该发光体设置于筒体内并正对透镜；该筒体内间隔设置有第一遮光栏和第二遮光栏，该第一遮光栏具有一第一出光孔，该第二遮光栏位于第一遮光栏的下方，该第二遮光栏具有一第二出光孔，该发光体位于第二出光孔的正下方，该第二遮光栏靠近发光体；藉此，通过在筒体内设置有第一遮光栏和第二遮光栏，利用第二遮光栏限制光线的出光范围，并配合第一遮光栏阻挡大部分杂光，避免杂光从透镜射出，同时第二遮光栏还可校正部分光线的路径，使得从透镜射出的光线更趋平行，以满足测量要求，保证测量精密度。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及测量仪领域技术，尤其是指一种测量仪的轮廓光源结构。
技术介绍
目前，测量仪上使用的轮廓光源其主要结构包括有筒体、透镜以及发光体，透镜设置于筒体上，发光体设置于筒体内并正对透镜，工作时，发光体发出的光线透过透镜向外射出。然而，发光体发出的光通常是向四面八方发散的，现有轮廓光源的这种结构使得较多的杂光从透镜射出，导致从透镜射出的光线平行度较差，不能满足测量要求，影响测量精密度。
技术实现思路
有鉴于此，本技术针对现有技术存在之缺失，其主要目的是提供一种测量仪的轮廓光源结构，其能有效解决现有之轮廓光源的出光平行度差的问题。为实现上述目的，本技术采用如下之技术方案:一种测量仪的轮廓光源结构，包括有筒体、透镜以及发光体；该透镜设置于筒体上并封盖住筒体的上端开口，该发光体设置于筒体内并正对透镜；该筒体内间隔设置有第一遮光栏和第二遮光栏，该第一遮光栏具有一第一出光孔，该第二遮光栏位于第一遮光栏的下方，该第二遮光栏具有一第二出光孔，该发光体位于第二出光孔的正下方，该第二遮光栏靠近发光体。作为一种优选方案，所述筒体呈圆柱形，该第一遮光栏和第二遮光栏呈环形体，第一遮光栏和第二遮光栏的侧壁均与筒体的内壁相适配并贴合连接。作为一种优选方案，所述第一出光孔和第二出光孔为圆形孔，第二出光孔与第一出光孔同轴设置，且第二出光孔的孔径小于第一出光孔的孔径。作为一种优选方案，所述第一遮光栏与透镜之间形成有间距。作为一种优选方案，所述发光体为LED发光体。作为一种优选方案，所述发光体的正上方悬设有均光板，该均光板位于第二出光孔的正下方。 作为一种优选方案，所述发光体外表面覆盖有均光层。本技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，由上述技术方案可知:通过在筒体内设置有第一遮光栏和第二遮光栏，利用第二遮光栏限制光线的出光范围，并配合第一遮光栏阻挡大部分杂光，避免杂光从透镜射出，同时第二遮光栏还可校正部分光线的路径，使得从透镜射出的光线更趋平行，以满足测量要求，保证测量精密度。为更清楚地阐述本技术的结构特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对本技术进行详细说明。【附图说明】图1是本技术之第一较佳实施例的纵向截面图；图2是图1中A-A方向的截面图；图3是本技术之第二较佳实施例的纵向截面图。附图标识说明:10、筒体11、容置腔20、透镜30、发光体40、第一遮光栏41、第一出光孔50、第二遮光栏51、第二出光孔60、均光板70、均光层。【具体实施方式】请参照图1和图2所示，其显示出了本技术之第一较佳实施例的具体结构，包括有筒体10、透镜20以及发光体30。该筒体10具有一容置腔11，筒体10的上端开口，该筒体呈圆柱形。该透镜20设置于筒体10上并封盖住筒体10的上端开口，该透镜20呈向外拱起结构。该发光体30设置于筒体10内并正对透镜20，在本实施例中，该发光体20为LED发光体。以及，该筒体10内间隔设置有第一遮光栏40和第二遮光栏50，该第一遮光栏40具有一第一出光孔41，该第二遮光栏50用于限制光线出光范围，该第二遮光栏50位于第一遮光栏40的下方，该第二遮光栏50具有一第二出光孔51，该发光体30位于第二出光孔51的正下方，该第二遮光栏50靠近发光体30 ;在本实施例中，该第一遮光栏40与透镜20之间形成有间距，该第一遮光栏40和第二遮光栏50均呈环形体，第一遮光栏40和第二遮光栏50的侧壁均与筒体10的内壁相适配并贴合连接，并且，该第一出光孔41和第二出光孔51均为圆形孔，第二出光孔51与第一出光孔41同轴设置，且第二出光孔51的孔径小于第一出光孔41的孔径。另外，该发光体30的正上方悬设有均光板60，该均光板60用于使光线扩散均匀，该均光板60为毛玻璃，该均光板60位于第二出光孔51的正下方。详述本实施例的工作过程如下:工作时，发光体30点亮发光，经过均光板60均匀扩散后射出，然后部分杂光侧向射向筒体10的内壁并由于第二遮光栏50的遮挡，杂光不能从第二出光孔51射出，接着，第一遮光板40阻挡另一部分杂光伸出，大部分光依次透过第一出光孔41和第二出光孔51或者经第一遮光栏40校正路径后从第一出光孔41射出，从而使得从透镜20射出的光线更平行。请参照图3所示，其显示出了本技术之第二较佳实施例的具体结构，本实施例的具体结构与前述第一较佳实施例的具体结构基本相同，其所不同的是:在本实施例中，该发光体30外表面覆盖有均光层70，利用均光层70同样可对光线进行均匀扩散。本技术的设计重点在于:通过在筒体内设置有第一遮光栏和第二遮光栏，利用第二遮光栏限制光线的出光范围，并配合第一遮光栏阻挡大部分杂光，避免杂光从透镜射出，同时第二遮光栏还可校正部分光线的路径，使得从透镜射出的光线更趋平行，以满足测量要求，保证测量精密度。以上所述，仅是本技术的较佳实施例而已，并非对本技术的技术范围作任何限制，故凡是依据本技术的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本技术技术方案的范围内。【主权项】1.一种测量仪的轮廓光源结构，包括有筒体、透镜以及发光体；该透镜设置于筒体上并封盖住筒体的上端开口，该发光体设置于筒体内并正对透镜；其特征在于:该筒体内间隔设置有第一遮光栏和第二遮光栏，该第一遮光栏具有一第一出光孔，该第二遮光栏位于第一遮光栏的下方，该第二遮光栏具有一第二出光孔，该发光体位于第二出光孔的正下方，该第二遮光栏靠近发光体。2.根据权利要求1所述的测量仪的轮廓光源结构，其特征在于:所述筒体呈圆柱形，该第一遮光栏和第二遮光栏呈环形体，第一遮光栏和第二遮光栏的侧壁均与筒体的内壁相适配并贴合连接。3.根据权利要求1或2所述的测量仪的轮廓光源结构，其特征在于:所述第一出光孔和第二出光孔为圆形孔，第二出光孔与第一出光孔同轴设置，且第二出光孔的孔径小于第一出光孔的孔径。4.根据权利要求1所述的测量仪的轮廓光源结构，其特征在于:所述第一遮光栏与透镜之间形成有间距。5.根据权利要求1所述的测量仪的轮廓光源结构，其特征在于:所述发光体为LED发光体。6.根据权利要求1所述的测量仪的轮廓光源结构，其特征在于:所述发光体的正上方悬设有均光板，该均光板位于第二出光孔的正下方。7.根据权利要求1所述的测量仪的轮廓光源结构，其特征在于:所述发光体外表面覆盖有均光层。【专利摘要】本技术公开一种测量仪的轮廓光源结构，包括有筒体、透镜以及发光体；该透镜设置于筒体上并封盖住筒体的上端开口，该发光体设置于筒体内并正对透镜；该筒体内间隔设置有第一遮光栏和第二遮光栏，该第一遮光栏具有一第一出光孔，该第二遮光栏位于第一遮光栏的下方，该第二遮光栏具有一第二出光孔，该发光体位于第二出光孔的正下方，该第二遮光栏靠近发光体；藉此，通过在筒体内设置有第一遮光栏和第二遮光栏，利用第二遮光栏限制光线的出光范围，并配合第一遮光栏阻挡大部分杂光，避免杂光从透镜射出，同时第二遮光栏还可校正部分光线的路径，使得从透镜射出的光线更趋平行，以满足测量要求，保证测量精密度。【IPC分类】F21W131-40, F21Y101-02, F21V1-12, F21S8-00【公开号】CN204328644【本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种测量仪的轮廓光源结构，包括有筒体、透镜以及发光体；该透镜设置于筒体上并封盖住筒体的上端开口，该发光体设置于筒体内并正对透镜；其特征在于：该筒体内间隔设置有第一遮光栏和第二遮光栏，该第一遮光栏具有一第一出光孔，该第二遮光栏位于第一遮光栏的下方，该第二遮光栏具有一第二出光孔，该发光体位于第二出光孔的正下方，该第二遮光栏靠近发光体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：巫孟良，郭宗训，李力强，
申请(专利权)人：广东万濠精密仪器股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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