【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及超精密制造装备
，具体涉及一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结 构。 一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构
技术介绍
环抛技术主要用来进行平面光学元件的超精密抛光，直接决定光学元件的加工精 度。在光学元件加工过程中，研磨盘的面形对光学元件的面形精度非常重要，由于抛光作用 会引起抛光盘局部温度变化从而导致研磨盘面形的变化，影响光学元件的抛光精度，为了 实现光学元件的超精密抛光，需要控制抛光盘表面的温度恒定。 目前主要是通过控制抛光液的温度来控制抛光盘温度的变化，在实际使用过程 中，由于抛光盘的局部温度变化仍然较大。
技术实现思路
有鉴于现有技术的上述缺陷，本专利技术提供一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构。 为实现上述目的，本专利技术提供了一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构，包括抛光盘， 冷却水循环系统，抛光盘、研磨盘和转台连接在一起，抛光盘上端面加工有螺旋形冷却水管 槽，安装有冷却水循环系统，研磨盘下端面与抛光盘上端面粘接在一起，冷却水循环系统可 通过冷却水实现抛光过程中研磨盘的恒温控制，让研磨盘保持较好的面形，抛光盘与转台 之间通过螺纹固定，转台带动抛光盘旋转，螺旋冷却水管路中的冷却水在离心力的作用下 能实现快速循环。 作为优选，所述的冷却管为螺旋型。 作为优选，所述的抛光盘冷却管道安装在抛光盘与转台中间。 作为优选，所述的抛光盘与转台上台面之间是粘接的。 作为优选，所述的冷却管材料采用的黄铜。 本专利技术具有以下有益效果： 1、 冷却管采用螺旋型布置，转台旋转过程中的离心力有利于冷却水的很...
【技术保护点】
一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构，其特征在于，包括旋转接头(1)、转台(2)、抛光盘(3)、冷却水循环系统(4)和研磨盘(5)，转台(2)上安装有抛光盘(3)，抛光盘(3)上粘接有研磨盘(5)，抛光盘(3)和研磨盘(5)之间设置有螺旋形的冷却水循环系统(4)，冷却水循环系统(4)的冷却管路穿设在转台(2)、抛光盘(3)中间并与旋转接头(1)连接。
【技术特征摘要】
1. 一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构，其特征在于，包括旋转接头（1)、转台（2)、抛光 盘（3)、冷却水循环系统（4)和研磨盘（5)，转台（2)上安装有抛光盘（3)，抛光盘（3)上粘 接有研磨盘（5)，抛光盘（3)和研磨盘（5)之间设置有螺旋形的冷却水循环系统（4)，冷却 水循环系统（4)的冷却管路穿设在转台（2)、抛光盘（3)中间并与旋转接头（1)连接。2. 根据权利要求1所述的一种环抛机抛光盘螺旋型冷却结构，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵惠英，张楚鹏，范智源，杨和清，于贺春，李彬，席建普，任东旭，袁林，周国强，
申请(专利权)人：北京微纳精密机械有限公司，西安交通大学，
类型：发明
国别省市：北京;11
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