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提供了一种用于在等离子体处理系统中使衬底从静电卡盘（ESC）去夹持的方法。该方法包括使第一气体流到等离子体室中。该方法还包括使第二气体流至衬底的背面以在所述背面下方产生第二气体的高压积聚。该方法进一步包括减少第二气体的流使得至少一部分困于衬...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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