温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种掩膜板组及应用掩膜板组检测套刻精度的方法，用以提供一种新型的掩模板组以及利用该掩模板组检测套刻精度的方法。所述掩膜板组包括：第一掩模板和至少一个第二掩模板；所述第二掩模板上包括一个或多个用于检测套刻精度的点位；所述第一掩模板...该专利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。