下载晶体管的形成方法的技术资料

文档序号:9833047

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一种晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面具有栅极结构;形成覆盖所述栅极结构和半导体衬底表面的氧化硅层;去除半导体衬底表面的氧化硅层;在去除半导体衬底表面的氧化硅层之后,形成覆盖所述半导体衬底、栅极结构和氧化硅层表面的氮...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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