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本发明公开了一种基于激光干涉纳米光刻在硅片上制备超疏水表面的方法，本发明包括如下步骤，(1)利用Matlab模拟四光束干涉图形，设定参数模拟出理想点阵模型。根据模拟参数来搭建激光干涉光学系统。由激光器发出的一束激光，经过分光系统分为四束光，...
该专利属于长春理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过长春理工大学授权不得商用。

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