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本发明公开了一种研磨液传送臂，是在半导体制造工艺中的CMP过程中，由于研磨生成物累积在抛光垫上，降低了研磨工艺的稳定性。本发明在传统研磨液传送臂上加装尼龙排刷，在研磨过程中，研磨生成物能被尼龙排刷及时清理，保持抛光垫的粗糙度，提高工艺性能。...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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