下载半导体器件及其制造方法以及电子装置的技术资料

文档序号:9767242

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本发明提供能够抑制有机半导体膜因应力而产生特性劣化的半导体器件及其制造方法以及电子装置,所述半导体器件包括:门电极;用于形成沟道的有机半导体膜;以及一对源漏电极,其形成于所述有机半导体膜上,所述一对源漏电极分别包括依次层叠的连接层、缓冲层及...
该专利属于索尼公司所有,仅供学习研究参考,未经过索尼公司授权不得商用。

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