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本发明涉及一种基于Abbe矢量成像模型的光源-掩模-偏振态交替优化方法，本方法设置光源图形像素值、掩模中开口部分以及阻光部分的透射率和偏振态电矢量方向角，设置变量矩阵ΩS、ΩM和Φ，将目标函数D构造为目标图形与当前光源、掩模和偏振态电矢量方...
该专利属于北京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京理工大学授权不得商用。

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