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本发明公开了一种半导体装置,包括第一导电类型的衬底、作为基极区域使用的第二导电类型外延层、第二导电类型埋入扩散层、作为基极引出区域使用的第二导电类型扩散层、作为发射极区域使用的第一导电类型扩散层、作为集电极区域使用的第一导电类型扩散层;其特...该专利属于溧阳市东大技术转移中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过溧阳市东大技术转移中心有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导体装置,包括第一导电类型的衬底、作为基极区域使用的第二导电类型外延层、第二导电类型埋入扩散层、作为基极引出区域使用的第二导电类型扩散层、作为发射极区域使用的第一导电类型扩散层、作为集电极区域使用的第一导电类型扩散层;其特...