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本实用新型的用于在透明基板上形成图案的用于沉积的掩模包含具有贯穿地形成的掩模对准标记的掩模元件，以便对准在所述透明基板上形成的基板对准标记；和在所述掩模元件的一个表面上形成的不平整区域，以邻近所述掩模对准标记，所述不平整区域在它的表面具有突...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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