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石墨烯场效应管及其形成方法技术
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文档序号:9669819
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本发明公开了一种石墨烯场效应管及其形成方法,该场效应管包括:衬底;底层源极接触、底层漏极接触和栅金属层,底层源极接触、底层漏极接触和栅金属层位于衬底之上,底层源极接触和底层漏极接触分别位于栅金属层的左右两侧,底层源极接触、底层漏极接触和栅金...
该专利属于清华大学所有,仅供学习研究参考,未经过清华大学授权不得商用。
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