下载等离子体处理设备及其静电卡盘的技术资料

文档序号:9669381

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本发明涉及一种静电卡盘,用于等离子体处理设备的反应腔室中,用于固定待加工件,静电卡盘包括:第一绝缘层,待加工件被置于第一绝缘层之上;第二绝缘层,位于第一绝缘层下方,第二绝缘层内设有一加热器,用于产生热量通过第一绝缘层加热待加工件;基体,位于...
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