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提出了一种高分辨率高生产量处理柔性基底导电图形的系统和方法。为了适当对准，对准标记被加入至多层基底的每一层中。光学对准标记被应用至每个基底层的表面上。对准标记组被布置在每个基底层的局部区域中。对准标记的每个局部组被称为对准目标区域。所述第一...
该专利属于伟创力国际美国公司所有，仅供学习研究参考，未经过伟创力国际美国公司授权不得商用。

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