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本发明公开了一种聚合物微米/亚微米线阵列结构的制备方法，该方法包括以下步骤：根据专利ZL200710134575.2的方法获得聚合物I填充石英纤维空隙的复合结构；将上述结构置于HF酸溶液中腐蚀去除石英纤维，形成存在中空微结构阵列的聚合物I微...
该专利属于无锡英普林纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡英普林纳米科技有限公司授权不得商用。

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