下载一种低温下化合物半导体与硅基半导体进行键合的方法的技术资料

文档序号:9643314

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本发明涉及一种低温下化合物半导体和硅基半导体进行键合的方法,其包括如下步骤:(1)对硅基半导体进行清洗,之后在其表面镀钯;(2)对化合物半导体进行清洗,之后与步骤(1)中所述镀钯的硅基半导体相对,保持钯层位于两种半导体之间作为中间介质键合层...
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