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本发明提供了一种用于抗蚀膜剥离的防腐蚀剂组合物，其特征在于：包括氯化1-羟乙基-3-十六烷基咪唑和ω，ω′-双(苯并咪唑-2-基)烷烃。采用其的抗蚀膜剥离剂在剥离用于布图电子电路或显示元件金属布线的抗蚀膜的过程中，不腐蚀金属布线，特别是不腐...
该专利属于刘超所有，仅供学习研究参考，未经过刘超授权不得商用。

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